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公開番号2025070966
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-02
出願番号2024135841
出願日2024-08-16
発明の名称表示パネル及び表示装置
出願人合肥維信諾科技有限公司,HEFEI VISIONOX TECHNOLOGY CO.,LTD.,クンシャンゴー-ビシオノクスオプト-エレクトロニクスカンパニーリミテッド,Kunshan Go-Visionox Opto-Electronics Co., Ltd.
代理人弁理士法人YKI国際特許事務所
主分類G09F 9/30 20060101AFI20250424BHJP(教育;暗号方法;表示;広告;シール)
要約【課題】孔開け領域のフレームの幅を低下させることができる表示パネル及び表示装置を提供する。
【解決手段】表示パネルは、孔開け領域と、孔開け領域を少なくとも部分的に囲んで設けられた表示領域と、表示領域と孔開け領域との間に位置する第1遷移領域とを有する。表示パネルは、基板、絶縁構造、発光ユニット及び第1封止層を含み、絶縁構造は、基板に設けられ、且つ表示領域及び第1遷移領域に位置し、遮断構造は、絶縁構造に設けられ、且つ第1開口と第1遷移領域及び孔開け領域に対応する第2開口とを画定し、発光ユニットは、絶縁構造に設けられ、且つ表示領域に位置し、発光ユニットは、さらに第1開口内に設けられ、第1封止層は、第1遷移領域に位置し、且つ絶縁構造の表面を被覆する。
【選択図】図4A
特許請求の範囲【請求項１】
表示パネルであって、
前記表示パネルは、孔開け領域と、前記孔開け領域を少なくとも部分的に囲んで設けられた表示領域と、前記表示領域と前記孔開け領域との間に位置する第１遷移領域とを有し、
前記表示パネルは、基板と、絶縁構造と、遮断構造と、発光ユニットと、第１封止層とを含み、
前記絶縁構造は、前記基板に設けられ、且つ前記表示領域及び前記第１遷移領域に位置し、
前記遮断構造は、前記絶縁構造に設けられ、且つ第１開口と前記第１遷移領域及び前記孔開け領域に対応する第２開口とを画定し、
前記発光ユニットは、前記絶縁構造に設けられ、且つ前記表示領域に位置し、前記発光ユニットは、さらに前記第１開口内に設けられ、
前記第１封止層は、前記第１遷移領域に位置し、且つ前記絶縁構造の表面を被覆する、ことを特徴とする表示パネル。
続きを表示（約 2,800 文字）【請求項２】
前記絶縁構造は、第１無機層を含み、前記第１封止層は、前記第１無機層の表面を被覆し、
選択可能に、前記絶縁構造は、画素限定層を含み、前記画素限定層は、前記第１無機層であり、
選択可能に、前記絶縁構造は、ゲート絶縁層と、容量絶縁層と、層間誘電体層とをさらに含み、前記ゲート絶縁層、前記容量絶縁層及び前記層間誘電体層は、前記基板から離れる方向に沿って前記基板と前記第１無機層との間に積層され、
前記ゲート絶縁層、前記容量絶縁層及び前記層間誘電体層の三者のうち、少なくとも一方の表面の一部が前記第１封止層によって被覆され、
選択可能に、前記ゲート絶縁層、前記容量絶縁層及び前記層間誘電体層は、いずれも無機膜層として構成され、
選択可能に、前記表示パネルは、緩衝層をさらに含み、前記緩衝層は、前記絶縁構造と前記基板との間に設けられ、前記第１封止層は、さらに前記緩衝層の表面の一部を被覆し、
選択可能に、前記緩衝層は、無機膜層として構成され、
選択可能に、前記基板には、前記孔開け領域に対応する第１領域を有し、前記基板における前記絶縁構造の正投影は、前記第１領域と間隔をあけて設けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記第１遷移領域内には、少なくとも１つの溝が設けられ、前記溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記絶縁構造の少なくとも一部を貫通し、前記第１封止層は、さらに前記少なくとも１つの溝の溝壁を被覆し、
選択可能に、前記第１遷移領域内には、複数の前記溝が設けられ、当該複数の前記溝は、前記孔開け領域の径方向に沿って間隔をあけて配列され、前記第１封止層は、さらに前記複数の溝の溝壁を被覆し、
選択可能に、前記溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記第１無機層及び前記層間誘電体層を貫通し、
選択可能に、前記基板における前記溝の正投影は、閉じた環状のパターンである、ことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記第１遷移領域内には、さらに少なくとも１つの第１凹溝が設けられ、前記少なくとも１つの第１凹溝は、前記溝の前記孔開け領域に近接する側に位置し、前記第１凹溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記絶縁構造を貫通し、
選択可能に、前記表示パネルは、前記基板に設けられた第１平坦化層をさらに含み、前記第１平坦化層は、前記第１遷移領域に位置し、
選択可能に、前記第１平坦化層は、前記第１遷移領域の前記絶縁構造を被覆し、且つ前記第１凹溝内に充填され、
選択可能に、前記基板における前記第１平坦化層の正投影は、前記孔開け領域と間隔をあけて設けられ、
選択可能に、前記第１遷移領域内には、複数の前記第１凹溝が設けられ、当該複数の前記第１凹溝は、前記孔開け領域の径方向に沿って間隔をあけて配列されている、ことを特徴とする請求項３に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記表示パネルは、前記基板に設けられたダム部をさらに含み、前記ダム部は、前記表示領域と前記第１遷移領域との間に位置し、且つ前記第１遷移領域の外周に周設され、
選択可能に、前記ダム部は、前記基板から離れる方向に沿って積層設置されたダム底部、ダム本体及びダム頂部を含み、
選択可能に、前記ダム頂部と前記画素限定層は、同一の層に設けられ、
選択可能に、前記ダム本体の材質は、有機材料を含み、
選択可能に、前記ダム底部と前記層間誘電体層は、同一の層に設けられ、
選択可能に、前記ダム底部は、前記基板から離れる方向に沿って積層設置された第１部分、第２部分及び第３部分を含み、前記第１部分と前記ゲート絶縁層は、同一の層に設けられ、前記第２部分と前記容量絶縁層は、同一の層に設けられ、前記第３部分と前記層間誘電体層は、同一の層に設けられ、
選択可能に、前記ダム部には、第２凹溝が設けられ、
選択可能に、前記ダム底部には、前記ダム底部を貫通する前記第２凹溝が設けられ、前記ダム本体の一部は、前記第２凹溝内に充填されている、ことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記基板には、オーバーフロー防止構造が設けられ、
前記オーバーフロー防止構造は、前記ダム部の前記表示領域に近接する側に位置し、及び／又は、前記オーバーフロー防止構造は、前記ダム部の前記第１遷移領域に近接する側に位置し、
選択可能に、前記オーバーフロー防止構造は、オーバーフロー溝を含み、
選択可能に、前記オーバーフロー溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記画素限定層及び前記層間誘電体層を貫通し、
選択可能に、前記ダム部の前記表示領域に近接する側には、凹部が設けられ、前記第１無機層は、前記凹部の側壁及び底壁を被覆し、且つ前記オーバーフロー溝を画定する、ことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記第１遷移領域の前記孔開け領域に近接する側と前記第１遷移領域の前記孔開け領域から離れる側との間に、第１距離Ｌを有し、前記第１距離Ｌは、３０μｍ≦Ｌ≦１００μｍという関係を満たす、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記基板は、積層設置された下地及びバリア層を含み、前記バリア層は、前記下地と前記絶縁構造との間に位置し、
選択可能に、前記下地における前記バリア層の正投影は、前記孔開け領域と間隔をあけて設けられている、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記遮断構造は、前記基板から離れる方向に沿って積層設置された遮断体及びバリア部を含み、前記基板における前記バリア部の底面の正投影の外輪郭は、前記基板における前記遮断体の頂面の正投影の外輪郭の外周に位置し、
選択可能に、前記遮断体は、第１金属層を含み、前記発光ユニットは、前記基板から離れる方向に沿って積層設置された第１電極、発光機能部及び第２電極を含み、前記第２電極は、前記第１金属層に電気的に接続され、
選択可能に、前記遮断体は、前記第１金属層の前記基板に近接する側に位置する第２金属層をさらに含み、
選択可能に、前記バリア部は、金属構造である、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項１０】
請求項１～６のいずれか１項に記載の表示パネルを含む、ことを特徴とする表示装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本願は、表示技術分野に関し、特に表示パネル及び表示装置に関する。
続きを表示（約 2,900 文字）【背景技術】
【０００２】
表示技術の発展に伴い、従来の表示装置は、フルスクリーンを実現するために、いずれも高画面占有率の方向に向かって設計される。孔開けスクリーンは、携帯電話の画面占有率を向上させることが可能な設計である。孔開けスクリーンは、表示パネルにカメラを配置するための孔開け領域が設置される。孔開け領域の縁部に、通常、遮断柱、封止構造などを設置する必要があるため、孔開け領域のフレームの幅が広くなり、孔開けそれによって視覚効果に影響を与える。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
これに鑑みて、孔開け領域のフレームの幅を低下させることが可能な表示パネル及び表示装置を提供する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
第１態様として、本願の実施例は、表示パネルを提供し、前記表示パネルは、孔開け領域と、前記孔開け領域を少なくとも部分的に囲んで設けられた表示領域と、前記表示領域と前記孔開け領域との間に位置する第１遷移領域とを有し、前記表示パネルは、基板と、絶縁構造と、遮断構造と、発光ユニットと、第１封止層とを含み、前記絶縁構造は、前記基板に設けられ、且つ前記表示領域及び前記第１遷移領域に位置し、前記遮断構造は、前記絶縁構造に設けられ、且つ第１開口と前記第１遷移領域及び前記孔開け領域に対応する第２開口とを画定し、前記発光ユニットは、前記絶縁構造に設けられ、且つ前記表示領域に位置し、前記発光ユニットは、さらに前記第１開口内に設けられ、前記第１封止層は、前記第１遷移領域に位置し、且つ前記絶縁構造の表面を被覆する。
【０００５】
一実施例では、前記絶縁構造は、第１無機層を含み、前記第１封止層は、前記第１無機層の表面を被覆する。
一実施例では、前記絶縁構造は、画素限定層を含み、前記画素限定層は、前記第１無機層である。
一実施例では、前記絶縁構造は、ゲート絶縁層と、容量絶縁層と、層間誘電体層とをさらに含み、前記ゲート絶縁層、前記容量絶縁層及び前記層間誘電体層は、前記基板から離れる方向に沿って前記基板と前記第１無機層との間に積層され、前記ゲート絶縁層、前記容量絶縁層及び前記層間誘電体層の三者のうち、少なくとも一方の表面の一部が前記第１封止層によって被覆される。
一実施例では、前記ゲート絶縁層、前記容量絶縁層及び前記層間誘電体層は、いずれも無機膜層として構成される。
一実施例では、前記表示パネルは、緩衝層をさらに含み、前記緩衝層は、前記絶縁構造と前記基板との間に設けられ、前記第１封止層は、さらに前記緩衝層の表面の一部を被覆する。
一実施例では、前記緩衝層は、無機膜層として構成される。
一実施例では、前記基板には、前記孔開け領域に対応する第１領域を有し、前記基板における前記絶縁構造の正投影は、前記第１領域と間隔をあけて設けられている。
【０００６】
一実施例では、前記第１遷移領域内には、少なくとも１つの溝が設けられ、前記溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記絶縁構造の少なくとも一部を貫通し、前記第１封止層は、さらに前記少なくとも１つの溝の溝壁を被覆する。
一実施例では、前記第１遷移領域内には、複数の溝が設けられ、前記複数の溝は、前記孔開け領域の径方向に沿って間隔をあけて配列され、前記第１封止層は、さらに前記複数の溝の溝壁を被覆する。
一実施例では、前記溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記第１無機層及び前記層間誘電体層を貫通する。
一実施例では、前記基板における前記溝の正投影は、閉じた環状のパターンである。
【０００７】
一実施例では、前記第１遷移領域内には、さらに少なくとも１つの第１凹溝が設けられ、前記少なくとも１つの第１凹溝は、前記溝の前記孔開け領域に近接する側に位置し、前記第１凹溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記絶縁構造を貫通する。
一実施例では、前記表示パネルは、前記基板に設けられた第１平坦化層をさらに含み、前記第１平坦化層は、前記第１遷移領域に位置する。
一実施例では、前記第１平坦化層は、前記第１遷移領域の前記絶縁構造を被覆し、且つ前記第１凹溝内に充填される。
一実施例では、前記基板における前記第１平坦化層の正投影は、前記孔開け領域と間隔をあけて設けられる。
一実施例では、前記第１遷移領域内には、複数の前記第１凹溝が設けられ、当該複数の前記第１凹溝は、前記孔開け領域の径方向に沿って間隔をあけて配列されている。
【０００８】
一実施例では、前記表示パネルは、前記基板に設けられたダム部をさらに含み、前記ダム部は、前記表示領域と前記第１遷移領域との間に位置し、且つ前記第１遷移領域の外周に周設される。
一実施例では、前記ダム部は、前記基板から離れる方向に沿って積層設置されたダム底部、ダム本体及びダム頂部を含む。
一実施例では、前記ダム頂部と前記画素限定層は、同一の層に設けられる。
一実施例では、前記ダム本体の材質は、有機材料を含む。
一実施例では、前記ダム底部と前記層間誘電体層は、同一の層に設けられる。
一実施例では、前記ダム底部は、前記基板から離れる方向に沿って積層設置された第１部分、第２部分及び第３部分を含み、前記第１部分と前記ゲート絶縁層は、同一の層に設けられ、前記第２部分と前記容量絶縁層は、同一の層に設けられ、前記第３部分と前記層間誘電体層は、同一の層に設けられる。
一実施例では、前記ダム部には、第２凹溝が設けられる。
一実施例では、前記ダム底部には、前記ダム底部を貫通する前記第２凹溝が設けられ、前記ダム本体の一部は、前記第２凹溝内に充填されている。
【０００９】
一実施例では、前記基板には、オーバーフロー防止構造が設けられ、前記オーバーフロー防止構造は、前記ダム部の前記表示領域に近接する側に位置し、及び／又は、前記オーバーフロー防止構造は、前記ダム部の前記第１遷移領域に近接する側に位置する。
一実施例では、前記オーバーフロー防止構造は、オーバーフロー溝を含む。
一実施例では、前記オーバーフロー溝は、前記基板の厚さ方向に沿って前記画素限定層及び前記層間誘電体層を貫通する。
一実施例では、前記ダム部の前記表示領域に近接する側には、凹部が設けられ、前記第１無機層は、前記凹部の側壁及び底壁を被覆し、且つ前記オーバーフロー溝を画定する。
【００１０】
一実施例では、前記第１遷移領域の前記孔開け領域に近接する側と前記第１遷移領域の前記孔開け領域から離れる側との間に、第１距離Ｌを有し、前記第１距離Ｌは、３０μｍ≦Ｌ≦１００μｍという関係を満たす。
（【００１１】以降は省略されています）

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