TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025048697
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-03
出願番号2024002240
出願日2024-01-11
発明の名称剥離キャリア構造及び銅箔複合構造
出願人南亞塑膠工業股分有限公司,NAN YA PLASTICS CORPORATION
代理人個人
主分類C25D 1/04 20060101AFI20250326BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約【課題】銅箔を対応する剥離層から容易に分離することができる剥離キャリア構造、及び剥離キャリア構造を含む銅箔複合構造を提供する。
【解決手段】剥離キャリア構造は、キャリア層170と、第1の剥離層110と、第2の剥離層120と、を含み、第2の剥離層における有機物の重量比は、第1の剥離層における有機物の重量比よりも大きい。第2の剥離層はフィルム形成組成物からなり、前記フィルム形成組成物はアゾール化合物を含む、剥離キャリア構造である。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項1】
キャリア層と、
第1の剥離層と、
第2の剥離層と、を含み、
前記第2の剥離層における有機物の重量比は、前記第1の剥離層における有機物の重量比よりも大きい、剥離キャリア構造。
続きを表示(約 670 文字)【請求項2】
前記第2の剥離層はフィルム形成組成物からなり、前記フィルム形成組成物はアゾール化合物を含む、請求項1に記載の剥離キャリア構造。
【請求項3】
前記第2の剥離層の厚さは、1nm~20nmである、請求項2に記載の剥離キャリア構造。
【請求項4】
前記アゾール化合物は、電子供与性基で置換されたアゾール化合物又はアゾール環と芳香環が縮合したアゾール化合物を含む、請求項2に記載の剥離キャリア構造。
【請求項5】
前記アゾール化合物は、電子供与性基で置換されたアゾール化合物と、アゾール環と芳香環が縮合したアゾール化合物を含む、請求項4に記載の剥離キャリア構造。
【請求項6】
前記アゾール化合物は、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、又はそれらの混合物を含む、請求項2に記載の剥離キャリア構造。
【請求項7】
前記フィルム形成組成物は塩基性である、請求項2に記載の剥離キャリア構造。
【請求項8】
前記フィルム形成組成物の塩基当量は、0.1重量%~20重量%の水酸化ナトリウムである、請求項7に記載の剥離キャリア構造。
【請求項9】
前記第1の剥離層と前記第2の剥離層は互いに接触し、それらの間には接触界面が存在する、請求項1に記載の剥離キャリア構造。
【請求項10】
請求項1に記載の剥離キャリア構造と、
前記剥離キャリア構造の前記第2の剥離層上に配置された銅箔と、を含む銅箔複合構造。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、剥離キャリア構造及び銅箔複合構造に関し、より詳細には、有機剥離層を含む剥離キャリア構造及び銅箔複合構造に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)【背景技術】
【0002】
銅箔の製造方法においては、一般に、対応するキャリア構造上に対応する銅箔を形成し、その後、キャリア構造上に形成された銅箔を引き剥がし又は剥離により除去又は分離する。
【0003】
電子機器の小型化に伴い、微細又は薄型のプリント配線板の製造には、厚さ10マイクロメートル(μm)程度の薄銅箔や、さらに薄い極薄銅箔が使用されることが一般的である。しかしながら、薄銅箔や極薄銅箔の製造工程(特に、上記のような引き剥がしや剥離による除去・分離方法)においては、銅箔とキャリア構造との接着力が強すぎると、銅箔を引き剥がしたり剥離したりするには、より大きな力が必要になることが多い。それ以上の力が加わったり、力が不均一に加わったりすると、銅箔に傷やシワ、模様が発生する可能性がある。
【0004】
したがって、キャリア構造を改善することによって銅箔の品質をどのように改善するかが、当技術分野で研究されるべき課題である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、銅箔を対応する剥離層から容易に分離することができる剥離キャリア構造、及び剥離キャリア構造を含む銅箔複合構造を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の剥離キャリア構造は、キャリア層と、第1の剥離層と、第2の剥離層と、を含む。第2の剥離層における有機物の重量比は、第1の剥離層における有機物の重量比よりも大きい。
【0007】
本発明の銅箔複合構造は、本発明による剥離キャリア構造及び銅箔を含む。銅箔は、剥離キャリア構造の第2の剥離層上に配置される。
【発明の効果】
【0008】
上記に基づいて、本発明の剥離キャリア構造及び剥離キャリア構造を含む銅箔複合構造では、銅箔を対応する有機剥離層(例えば、第2の剥離層)から容易に分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本発明の一実施形態による剥離キャリア構造の概略断面図である。
本発明の一実施形態による銅箔複合構造の概略断面図である。
本発明の一実施形態による銅箔複合構造の概略応用方法を示す概略断面図である。
本発明の比較例による銅箔複合構造の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下の詳細な説明では、限定ではなく例示として、本発明のさまざまな原理の完全な理解を提供するために、特定の詳細を開示する例示的な実施形態を説明する。しかしながら、本発明から利益を得て、本発明が、本明細書に開示される特定の詳細から逸脱する他の実施形態で実施され得ることは、当業者には明らかである。さらに、本発明の様々な原理の説明から焦点を移さないように、一般的に知られている装置、方法、及び材料の説明は省略される場合がある。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

株式会社クオルテック
水素製造装置および水素製造方法
22日前
京セラ株式会社
エネルギーシステム
16日前
株式会社SCREENホールディングス
電極構造体
23日前
株式会社SCREENホールディングス
電極構造体
23日前
株式会社SCREENホールディングス
電極構造体
23日前
日本特殊陶業株式会社
固体酸化物形電解セルの製造方法
24日前
日本特殊陶業株式会社
固体酸化物形電解セルの製造方法
24日前
三菱重工業株式会社
水素製造設備及び水素製造方法
9日前
三菱重工業株式会社
水素生成システム及びその制御方法
2日前
株式会社アイシン
水素製造システム
11日前
東邦チタニウム株式会社
金属マグネシウムの製造方法
17日前
株式会社SCREENホールディングス
めっき装置およびめっき方法
22日前
ミカドテクノス株式会社
表面処理装置及び被覆部材
18日前
国立大学法人群馬大学
めっき成形体及びめっき成形体の製造方法
2日前
日立GEニュークリア・エナジー株式会社
電解還元装置及び電解還元方法
18日前
株式会社豊田自動織機
電極材料、及び電極材料の製造方法
4日前
株式会社日立製作所
水電解システムの制御方法及び水電解システム
10日前
東京電力ホールディングス株式会社
気中電気めっき加工システム
18日前
住友金属鉱山株式会社
銅張積層板の製造方法
15日前
日本特殊陶業株式会社
水素製造装置、水素製造装置の制御装置、及び、水素製造方法
4日前
株式会社荏原製作所
めっき装置およびめっき方法
16日前
株式会社日本触媒
過酸化水素の製造方法および過酸化水素製造システム
23日前
南亞塑膠工業股分有限公司
剥離キャリア構造及び銅箔複合構造
23日前
エスケー イノベーション カンパニー リミテッド
触媒電極及び触媒電極の製造方法
2日前
日本特殊陶業株式会社
電気化学単セル、セルスタック、ホットモジュール、水素製造装置、及び、電気化学単セルの製造方法
3日前
エスケー イノベーション カンパニー リミテッド
触媒電極、触媒電極の製造方法及び膜電極接合体
2日前
ダイキン工業株式会社
金属カーバイドおよび炭化水素の製造方法、ならびに炭素含有部材
9日前
ゼンコア インコーポレイテッド
IL-12ヘテロ二量体FC-融合タンパク質
3日前
株式会社ジャパンディスプレイ
検出装置
10日前
リペア セラピューティクス インコーポレイテッド
ATRキナーゼ阻害剤としての置換2-モルホリノピリジン誘導体
16日前
株式会社ジャパンディスプレイ
検出システム
10日前
株式会社ジャパンディスプレイ
歯ぎしり抑制装置
10日前
メモリアル スローン ケタリング キャンサー センター
移植用中脳ドーパミン(DA)ニューロン
11日前