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公開番号2025104215
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-09
出願番号2024116671
出願日2024-07-22
発明の名称フラックス洗浄用組成物
出願人南亞塑膠工業股分有限公司,NAN YA PLASTICS CORPORATION
代理人個人
主分類C11D 1/88 20060101AFI20250702BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】本発明は、フラックス洗浄用組成物を提供する。
【解決手段】
本発明のフラックス洗浄用組成物は、フラックス洗浄用組成物の総重量を100%として、両性界面活性剤2%～20%と、還元剤0.1%～2%と、キレート剤5%～10%と、有機溶剤70%～90%と、水2.5%～20%と、を含む。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
フラックス洗浄用組成物の総重量を１００％として、
両性界面活性剤２％～２０％と、
還元剤０．１％～２％と、
キレート剤５％～１０％と、
有機溶剤７０％～９０％と、
水２．５％～２０％と、を含むことを特徴とする、フラックス洗浄用組成物。
続きを表示（約 960 文字）【請求項２】
前記両性界面活性剤はアルコールアミン類である、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項３】
前記両性界面活性剤は、ポリオキシプロピレンプロピルエーテル、ラウリルベタイン、コカミドプロピルベタイン、３，７，１１－トリメチルドデカン－３－オール、ジノナン酸ネオペンチルグリコール、エタンブトール、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－アミノプロピル）－１，３－プロパンジアミン、ビス（３－アミノプロポキシ）エタン、又はそれらの組み合わせである、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項４】
前記還元剤は、塩化第一スズ、硫酸第一鉄、三塩化チタン、還元鉄粉、シュウ酸、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、次亜リン酸、ジチオスレイトール、又はそれらの組み合わせである、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項５】
前記キレート剤は、エチレンジアミン、２，２’－ビピリジン、１，１０－フェナントロリン、シュウ酸塩、エチレンジアミン四酢酸、１，２－ビス（ジメチルアルシノ）ベンゼン、クエン酸、リンゴ酸、又はそれらの組み合わせである、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項６】
前記有機溶剤は、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、又はそれらの組み合わせである、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項７】
前記両性界面活性剤の含有量は、５％～１０％である、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項８】
前記還元剤の含有量は０．５％～１％である、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項９】
前記キレート剤の含有量は６％～８％である、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
【請求項１０】
前記有機溶剤の含有量は８０％～８５％である、請求項１に記載のフラックス洗浄用組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄用組成物に関し、特に、フラックス洗浄用組成物に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
電子部品の組み立てでは通常、はんだ付けする必要があり、高温下でははんだ接合部の金属表面に酸化皮膜が形成されやすいため、はんだ材料（スズなど）が金属表面に付着しにくくなる。したがって、はんだ付けのプロセスでは、フラックスを使用して、はんだ付けされた金属の表面の酸化層を化学的に除去し、はんだ付けでの表面の再酸化を防ぎ、スズによるはんだ付けの進行に有利となる。しかし、プリント回路板の隙間にはんだやフラックスの残渣が残り、洗浄が困難になる。
【０００３】
通常、フラックスは主成分としてロジンを含むため、従来技術ではロジン系フラックスを洗浄するために、フルオロカーボンなどのハロゲン化炭化水素が使用されている。しかし、ハロゲン化炭化水素は人体に対して非常に有毒で発がん性がある。更に、揮発性ハロゲン化炭化水素はオゾン層を破壊するだけでなく、降水、地上流などにより大気、水、土壌中に分布・循環する可能性があり、環境に多大な悪影響を及ぼす。
【０００４】
故に、成分の改良により、効果的に洗浄でき、環境に優しいフラックス洗浄用組成物を開発することによって、上述した欠点を克服することは、本事業にとって重要な課題となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする技術の課題は、従来技術の不足に対し、フラックス洗浄用組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記フラックス洗浄用組成物は、フラックス洗浄用組成物の総重量を１００％として、両性界面活性剤２％～２０％と、還元剤０．１％～２％と、キレート剤５％～１０％と、有機溶剤７０％～９０％と、水２．５％～２０％と、を含む。
【０００７】
本発明のある実施形態では、前記両性界面活性剤はアルコールアミン類である。
【０００８】
本発明のある実施形態では、前記両性界面活性剤は、ポリオキシプロピレンプロピルエーテル（ｐｏｌｙｏｘｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅｐｒｏｐｙｌｅｔｈｅｒ）、ラウリルベタイン（ｌａｕｒｙｌｂｅｔａｉｎｅ）、コカミドプロピルベタイン（ｃｏｃａｍｉｄｏｐｒｏｐｙｌｂｅｔａｉｎｅ）、３，７，１１－トリメチルドデカン－３－オール（３，７，１１－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｄｏｄｅｃａｎ－３－ｏｌ）、ジノナン酸ネオペンチルグリコール（ｎｅｏｐｅｎｔｙｌｇｌｙｃｏｌｄｉｎｏｎａｎｏａｔｅ）、エタンブトール（ｅｔｈａｍｂｕｔｏｌ）、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－アミノプロピル）－１，３－プロパンジアミン（Ｎ，Ｎ’－ｂｉｓ（３－ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）－１，３－ｐｒｏｐａｎｅｄｉａｍｉｎｅ）、ビス（３－アミノプロポキシ）エタン（ｄｉ（３－ａｍｉｎｏｐｒｏｐｏｘｙ）ｅｔｈａｎｅ）、又はそれらの組み合わせである。
【０００９】
本発明のある実施形態では、前記還元剤は、塩化第一スズ、硫酸第一鉄、三塩化チタン、還元鉄粉、シュウ酸、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、次亜リン酸、ジチオスレイトール、又はそれらの組み合わせである。
【００１０】
本発明のある実施形態では、前記キレート剤は、エチレンジアミン、２，２’－ビピリジン、１，１０－フェナントロリン、シュウ酸塩、エチレンジアミン四酢酸、１，２－ビス（ジメチルアルシノ）ベンゼン、クエン酸、リンゴ酸、又はそれらの組み合わせである。
（【００１１】以降は省略されています）

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