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公開番号2024158568
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-08
出願番号2023073871
出願日2023-04-27
発明の名称フェンス用基礎及びその形成方法
出願人株式会社大林組
代理人個人,個人,個人
主分類E02D 27/42 20060101AFI20241031BHJP(水工;基礎;土砂の移送)
要約【課題】狭小なスペースに容易に設けることが可能なフェンス用基礎及びその形成方法を提供することである。
【解決手段】建築物2に隣接して設置されるフェンス3を支持するフェンス用基礎1であって、フェンス3が取り付けられる基礎本体部10と、基礎本体部10に一体に連ねて設けられ、地中において建築物2の基礎2fに一体に連なる連結部11と、を有することを特徴とするフェンス用基礎1及び建築物2の基礎2fを形成する際に、建築物2の基礎2fとともにフェンス用基礎1を形成することを特徴とするフェンス用基礎の形成方法。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
建築物に隣接して設置されるフェンスを支持するフェンス用基礎であって、
前記フェンスが取り付けられる基礎本体部と、
前記基礎本体部に一体に連ねて設けられ、地中において前記建築物の基礎に一体に連なる連結部と、を有することを特徴とするフェンス用基礎。
続きを表示（約 120 文字）【請求項２】
請求項１に記載の前記フェンス用基礎を形成するフェンス用基礎の形成方法であって、
前記建築物の基礎を形成する際に、前記建築物の基礎とともに前記フェンス用基礎を形成することを特徴とするフェンス用基礎の形成方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、建築物に隣接して設置されるフェンスを支持するフェンス用基礎及びその形成方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、住宅、学生寮、オフィスビル、商業ビルなどの建築物の外構を構成するフェンスを隣接地との境界部分に設置する場合、建築物を建築した後、建築物に隣接する地面にフェンス用基礎を形成し、このフェンス用基礎にフェンスを取り付けるようにするのが一般的である（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平１１－６１８５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、例えば壁を共有した構成の長屋の一部を解体し、その解体後のスペースに新たな建築物を建設する際など、建築スペースが狭小な場合には、建築物を建設した後、建築物に隣接する狭小なスペースにフェンス用基礎を形成する工事を行うことが困難である、という問題があった。
【０００５】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、狭小なスペースに容易に設けることが可能なフェンス用基礎及びその形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のフェンス用基礎は、建築物に隣接して設置されるフェンスを支持するフェンス用基礎であって、前記フェンスが取り付けられる基礎本体部と、前記基礎本体部に一体に連ねて設けられ、地中において前記建築物の基礎に一体に連なる連結部と、を有することを特徴とする。
【０００７】
本発明のフェンス用基礎の形成方法は、上記の前記フェンス用基礎を形成するフェンス用基礎の形成方法であって、前記建築物の基礎を形成する際に、前記建築物の基礎とともに前記フェンス用基礎を形成することを特徴とすることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、狭小なスペースに容易に設けることが可能なフェンス用基礎及びその形成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本発明の一実施形態に係るフェンス用基礎の概略図である。
図１に示すフェンス用基礎の一部の平面図である。
図２に示すフェンス用基礎のＡ－Ａ線に沿う断面図である。
図２に示すフェンス用基礎のＢ－Ｂ線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施形態に係るフェンス用基礎及びその形成方法について詳細に例示説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

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