特許ウォッチ

公開番号2024157478
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-07
出願番号2023071890
出願日2023-04-25
発明の名称加工方法
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類H01L 21/301 20060101AFI20241030BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】デバイスの接合時の実装不良を抑制することができる加工方法を提供すること。
【解決手段】加工方法は、複数の分割予定ラインが設定されたワークの加工方法であって、ワークにボッシュプロセスのプラズマエッチングを施して分割予定ラインに沿ったプラズマエッチング溝を形成するプラズマエッチングステップ102と、プラズマエッチング溝にプラズマを照射してプラズマエッチング溝の内側壁かあらスキャロップを除去する処理ステップ104と、プラズマエッチングステップ102を実施した後、処理ステップ104を実施する前に、ワークの上面にフッ化炭素ガスをプラズマ化させて照射することでワークの上面に保護膜を堆積させる保護膜堆積ステップ103と、を備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
複数の分割予定ラインが設定されたワークの加工方法であって、
ワークにボッシュプロセスのプラズマエッチングを施して該分割予定ラインに沿ったプラズマエッチング溝を形成するプラズマエッチングステップと、
該プラズマエッチング溝にプラズマを照射して該プラズマエッチング溝の側壁を除去またはコーティングする処理ステップと、を備えた加工方法。
続きを表示（約 570 文字）【請求項２】
該処理ステップでは、フッ素系ガスをプラズマ化させて該側壁に照射することで該側壁をエッチングする、請求項１に記載の加工方法。
【請求項３】
該プラズマエッチングステップを実施した後、該処理ステップを実施する前に、ワークの上面にフッ化炭素ガスをプラズマ化させて照射することでワークの上面に保護膜を堆積させる保護膜堆積ステップを更に備えた、請求項２に記載の加工方法。
【請求項４】
該処理ステップでは、フッ化炭素ガスをプラズマ化させて照射することで少なくとも該側壁に保護膜を積層させて該側壁をコーティングする、請求項１に記載の加工方法。
【請求項５】
ワークは、第１面と該第１面の背面の第２面とを有し、
該プラズマエッチングステップを実施する前に、切削ブレードで該分割予定ラインに沿ってワークを切削してハーフカット溝を形成するとともに該ハーフカット溝の下方に切り残し部を形成するハーフカットステップを更に備え、
該プラズマエッチングステップでは、該切り残し部をプラズマエッチングし、
該ハーフカットステップと該プラズマエッチングステップはワークの該第１面と該第２面のうち同一の面側から実施される、請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の加工方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の分割予定ラインが設定されたワークの加工方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、デバイスの高集積化に伴いデバイス表面の電極同士を合わせて接続するハイブリッドボンディングが採用され始めている。ハイブリッドボンディングでは、デバイスの表面同士を貼り合わせるため、デバイス表面に異物が付着していると接合不良を引き起こしかねない。そこで、ハイブリッドボンディングでは従来のバンプを介した接合に比べてより一層、デバイスウェーハを分割した後の異物付着低減が切望されている。
【０００３】
異物付着を防止するデバイスウェーハの分割方法として、例えば、ボッシュ法と呼ばれるプラズマエッチングによるプラズマダイシングが検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１８－１３７４０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ボッシュ法のプラズマエッチングでは、フッ素系ガスのプラズマによるエッチングステップと、フッ化炭素ガスのプラズマによる保護膜堆積ステップとを、交互に含むサイクルを繰り返すことでワークにプラズマエッチングが施されるため、エッチング溝にはスキャロップと呼ばれる微小凹凸が形成される。接合時に微小凹凸の一部が欠けて落下すると実装不良に繋がりかねない。
【０００６】
本発明の目的は、デバイスの接合時の実装不良を抑制することができる加工方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の加工方法は、複数の分割予定ラインが設定されたワークの加工方法であって、ワークにボッシュプロセスのプラズマエッチングを施して該分割予定ラインに沿ったプラズマエッチング溝を形成するプラズマエッチングステップと、該プラズマエッチング溝にプラズマを照射して該プラズマエッチング溝の側壁を除去またはコーティングする処理ステップと、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
前記加工方法において、該処理ステップでは、フッ素系ガスをプラズマ化させて該側壁に照射することで該側壁をエッチングしても良い。
【０００９】
前記加工方法において、該プラズマエッチングステップを実施した後、該処理ステップを実施する前に、ワークの上面にフッ化炭素ガスをプラズマ化させて照射することでワークの上面に保護膜を堆積させる保護膜堆積ステップを更に備えても良い。
【００１０】
前記加工方法において、該処理ステップでは、フッ化炭素ガスをプラズマ化させて照射することで少なくとも該側壁に保護膜を積層させて該側壁をコーティングしても良い。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許