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公開番号2024090925
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-04
出願番号2022207118
出願日2022-12-23
発明の名称基板処理装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人近島国際特許事務所
主分類F26B 5/04 20060101AFI20240627BHJP(乾燥)
要約【課題】基板の上に配置された溶液に含まれる溶媒の乾燥速度のムラを低減させ、かつ乾燥速度を向上させる。
【解決手段】基板処理装置は、気密容器と、前記気密容器の内部を減圧する減圧機構と、前記気密容器の内部に配置され、基板を保持可能な基板保持部と、前記気密容器の内部において前記基板保持部に保持される前記基板に対向する位置に配置され、前記基板保持部に対して回転可能な回転部材と、を備える、ことを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
気密容器と、
前記気密容器の内部を減圧する減圧機構と、
前記気密容器の内部に配置され、基板を保持可能な基板保持部と、
前記気密容器の内部において前記基板保持部に保持される前記基板に対向する位置に配置され、前記基板保持部に対して回転可能な回転部材と、を備える、
ことを特徴とする基板処理装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記気密容器の内部を第１圧力に減圧するよう、前記減圧機構を制御する第１処理と、前記第１処理の後、前記気密容器の内部を前記第１圧力より低い第２圧力に減圧するよう前記減圧機構を制御する第２処理と、を実行する制御装置を更に備え、
前記制御装置は、前記第２処理において、前記回転部材が前記第１処理の状態から所定角度、回転するよう前記回転部材を制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記回転部材は、回転軸線を中心に回転可能であり、前記回転軸線に沿う長手方向に延びる板部材を含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記所定角度は、１８０度である、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記所定角度は、９０度である、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記回転部材は、回転軸線を中心に回転可能であり、前記回転軸線に沿う長手方向に延びる柱部材を含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記柱部材は、３つ以上のＮ個の主面を有する多角柱部材であり、
前記所定角度は、（３６０／Ｎ）度である、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
２つ以上の前記回転部材を備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記気密容器の内部を第１圧力に減圧するよう、前記減圧機構を制御する第１処理と、前記第１処理の後、前記気密容器の内部を前記第１圧力より低い第２圧力に減圧するよう前記減圧機構を制御する第２処理と、を実行する制御装置を更に備え、
前記制御装置は、前記第２処理において、前記２つ以上の回転部材が、前記第１処理の状態から互いに同じ所定角度、回転するよう、前記２つ以上の回転部材を制御する、
ことを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記気密容器の内部を第１圧力に減圧するよう、前記減圧機構を制御する第１処理と、前記第１処理の後、前記気密容器の内部を前記第１圧力より低い第２圧力に減圧するよう前記減圧機構を制御する第２処理と、を実行する制御装置を更に備え、
前記制御装置は、前記第２処理において、前記２つ以上の回転部材が、前記第１処理の状態から個別に設定された角度、回転するよう、前記２つ以上の回転部材を制御する、
ことを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板の上に配置された溶液膜の乾燥技術に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子であるＯＬＥＤ（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）を有するパネル（有機ＥＬパネル）などの物品を製造する際に、基板の上の所望の箇所にインクジェット装置を用いて溶液膜を塗布する方法が知られている。溶液膜は、溶質と溶媒とを含む溶液で構成される膜である。基板の上に塗布された溶液膜を乾燥させることで、基板の上に膜（層）が形成される。溶液膜の乾燥には、基板処理装置である減圧乾燥装置が用いられる。
【０００３】
特許文献１には、基板保持部と、基板保持部に保持された基板の側方に配置され、基板の側面を囲う囲い壁と、基板保持部の上方に配置され、上下方向に移動する整流板と、を備える減圧乾燥装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２２－３８２８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示された囲い壁及び整流板によって乾燥速度のムラを調整する場合、乾燥によって蒸発した溶媒が、囲い壁及び整流板に囲まれた空間に滞留する。囲い壁及び整流板に囲まれた空間に蒸気として滞留した溶媒は、基板周囲の溶媒分圧を上げて溶液膜の乾燥速度低下などの経時変化を引き起こす虞がある。また、囲い壁及び整流板に囲まれた空間に蒸気として滞留した溶媒は、囲い壁又は整流板に吸着することがある。囲い壁又は整流板に吸着した溶媒は、囲い壁及び整流板に囲まれた空間に再度蒸発し、基板周囲の溶媒分圧を上げて溶液膜の乾燥速度低下などの経時変化を引き起こす虞がある。
【０００６】
本開示は、基板の上に配置された溶液に含まれる溶媒の乾燥速度のムラを低減させ、かつ乾燥速度を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の第１態様は、気密容器と、前記気密容器の内部を減圧する減圧機構と、前記気密容器の内部に配置され、基板を保持可能な基板保持部と、前記気密容器の内部において前記基板保持部に保持される前記基板に対向する位置に配置され、前記基板保持部に対して回転可能な回転部材と、を備える、ことを特徴とする基板処理装置である。
【０００８】
本開示の第２態様は、基板主面の上に溶液が塗布された基板を、気密容器の内部に配置された基板保持部の上に配置し、前記気密容器の内部を、前記溶液に含まれる溶媒の蒸気圧より高い第１圧力に減圧して、前記溶媒を蒸発させ、前記気密容器の内部を、前記第１圧力から前記溶媒の蒸気圧より低い第２圧力に減圧する過程、又は前記第２圧力に減圧した状態で、前記基板と対向する位置に配置された回転部材を回転させる、ことを特徴とする物品の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本開示によれば、基板の上に配置された溶液に含まれる溶媒の乾燥速度のムラが低減され、かつ乾燥速度が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１実施形態の基板処理装置の一例である減圧乾燥装置の構成を示す模式的な断面図である。
（ａ）は第１実施形態に係る減圧乾燥装置の構成の一部の上面図である。（ｂ）は第１実施形態に係る回転部材の側面図である。
（ａ）は第１実施形態の変形例に係る減圧乾燥装置の構成の一部の上面図である。（ｂ）は第１実施形態の変形例に係る回転部材の側面図である。
第１実施形態に係る溶媒量に対する乾燥速度を示すグラフである。
第１実施形態に係る物品の製造方法のフローチャートである。
第１実施形態に係る乾燥処理における圧力制御の例を示すグラフである。
（ａ）～（ｃ）は第１実施形態に係る乾燥処理の説明図である。
（ａ）は第２実施形態に係る減圧乾燥装置のカバーユニットの説明図である。（ｂ）は第２実施形態に係る回転部材の断面図である。（ｃ）は第２実施形態に係る回転部材を矢印ＶＩＩＩＣの方向に視た平面図である。
（ａ）～（ｄ）は第２実施形態に係る乾燥処理の説明図である。
（ａ）～（ｃ）は第３実施形態に係る乾燥処理の説明図である。
（ａ）～（ｃ）は第４実施形態に係る乾燥処理の説明図である。
第５実施形態に係る減圧乾燥装置のカバーユニットの説明図である。
（ａ）及び（ｂ）は第６実施形態に係る減圧乾燥装置のカバーユニットの説明図である。
（ａ）及び（ｂ）は第７実施形態に係る減圧乾燥装置の構成の一部の説明図である。
（ａ）は第８実施形態に係る減圧乾燥装置のカバーユニットの説明図である。（ｂ）は第８実施形態の変形例に係るカバーユニットの説明図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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