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公開番号2024100102
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-26
出願番号2023003843
出願日2023-01-13
発明の名称乾燥装置
出願人日本碍子株式会社
代理人弁理士法人快友国際特許事務所
主分類F26B 15/00 20060101AFI20240719BHJP(乾燥)
要約【課題】ヒータの出力を低減することができる技術を開示する。
【解決手段】乾燥装置は、入口と出口とを備えており、入口から出口に向けてフィルムが走行する乾燥空間を内部に画定する本体と、乾燥空間内において、乾燥空間内を走行するフィルムの表面と対向して配置されるヒータであって、内管と外管とを備えており、内管と外管との間を流体が流れることにより外管の表面温度が200度以下に設定され、外管から電磁波を放射するヒータと、ヒータを少なくとも部分的に覆っており、ヒータの外管から放射される電磁波の少なくとも一部を、乾燥空間内を走行するフィルムに向けて反射する反射体と、を備えている。ヒータは、所定の波長未満の波長帯域の電磁波をフィルムに放射すると共に、所定の波長以上の波長帯域の電磁波を吸収するように構成されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
フィルムの溶媒を乾燥する乾燥装置であって、
入口と出口とを備えており、前記入口から前記出口に向けて前記フィルムが走行する乾燥空間を内部に画定する本体と、
前記乾燥空間内において、前記乾燥空間内を走行する前記フィルムの表面と対向して配置されるヒータであって、内管と外管とを備えており、前記内管と前記外管との間を流体が流れることにより前記外管の表面温度が２００度以下に設定され、前記外管から電磁波を放射するヒータと、
前記ヒータを少なくとも部分的に覆っており、前記ヒータの前記外管から放射される前記電磁波の少なくとも一部を、前記乾燥空間内を走行する前記フィルムに向けて反射する反射体と、を備えており、
前記ヒータは、所定の波長未満の波長帯域の前記電磁波を前記フィルムに放射すると共に、前記所定の波長以上の波長帯域の前記電磁波を吸収するように構成されている、乾燥装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記反射体は、前記ヒータに対して、前記乾燥空間内を走行する前記フィルムと反対側に配置される第１反射部を備えている、請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
前記反射体は、前記第１反射部の前記ヒータ側の表面に設けられた金属コート層をさらに備えており、
前記電磁波に対する前記金属コート層の反射率は、前記電磁波に対する前記第１反射部の反射率よりも高い、請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
前記反射体は、前記ヒータと、前記乾燥空間内を走行する前記フィルムの表面との間に、前記電磁波が通過する通過空間を画定しており、前記フィルムの走行方向に直交する前記フィルムの幅方向に離れている２個の反射側部を備えており、
前記フィルムは、前記フィルムの前記幅方向に関して、前記２個の反射側部の間に位置する、請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項５】
前記電磁波を透過可能であり、前記通過空間に配置されている仕切体をさらに備えており、
前記仕切体は、前記通過空間を、前記仕切体に対して前記ヒータ側に配置されるヒータ側空間と、前記仕切体に対して前記フィルム側に配置されるフィルム側空間とに分ける、請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記電磁波に対する前記反射体の反射率は、０．７以上である、請求項１から５のいずれか一項に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記電磁波に対する前記反射体の反射率は、０．９以上である、請求項６に記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記ヒータは、４．０マイクロメートル未満の波長帯域の前記電磁波を放射すると共に、４．０マイクロメートル以上の波長帯域の前記電磁波を吸収するように構成されている、請求項１から５のいずれか一項に記載の乾燥装置。
【請求項９】
前記ヒータは、４．０マイクロメートル未満の波長帯域の電磁波を８０％以上含む前記電磁波を前記フィルムに放射する、請求項８に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
前記ヒータから放射される前記電磁波の放射強度は、４．０マイクロメートルよりも小さい基準波長で最大となり、
４．０マイクロメートルの前記電磁波の前記放射強度は、前記基準波長の前記電磁波の前記放射強度の１０％未満である、請求項８に記載の乾燥装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書に開示する技術は、フィルムの溶媒を乾燥する乾燥装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、乾燥装置が開示されている。この乾燥装置は、フィルムが走行する乾燥空間を内部に画定する本体と、乾燥空間内において、所定の波長未満の波長帯域の赤外線を放射することによりフィルムを加熱するヒータと、を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第５８４２２２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の乾燥装置では、ヒータから放射された赤外線は、フィルムだけでなく、本体の炉壁等にも照射される。このため、炉壁等に照射される赤外線を考慮して、ヒータの出力を高く設定する必要があった。
【０００５】
本明細書は、ヒータの出力を低減することができる技術を開示する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本明細書に開示する技術の第１の態様では、乾燥装置は、フィルムの溶媒を乾燥する。乾燥装置は、入口と出口とを備えており、入口から出口に向けてフィルムが走行する乾燥空間を内部に画定する本体と、乾燥空間内において、乾燥空間内を走行するフィルムの表面と対向して配置されるヒータであって、内管と外管とを備えており、内管と外管との間を流体が流れることにより外管の表面温度が２００度以下に設定され、外管から電磁波を放射するヒータと、ヒータを少なくとも部分的に覆っており、ヒータの外管から放射される電磁波の少なくとも一部を、乾燥空間内を走行するフィルムに向けて反射する反射体と、を備えている。ヒータは、所定の波長未満の波長帯域の電磁波をフィルムに放射すると共に、所定の波長以上の波長帯域の電磁波を吸収するように構成されている。
【０００７】
上記の構成によれば、ヒータから放射された電磁波の一部は、反射体で反射されることなくフィルムに照射され、ヒータから放射された電磁波の他の一部は、反射体で反射されてフィルムに照射される。このため、乾燥装置が反射体を備えていない構成と比較して、ヒータから放射される電磁波を効率良くフィルムに照射することができる。これにより、ヒータの出力を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
第１実施例の乾燥装置の概略断面図である。
第１実施例の乾燥装置の概略断面図である。
第１実施例のヒータの断面図である。
第１実施例のヒータから放射される電磁波の波長と放射強度との関係を示す図である。
第２実施例の乾燥装置の概略断面図である。
【０００９】
以下に説明する実施例の主要な特徴を列記しておく。なお、以下に記載する技術要素は、それぞれ独立した技術要素であって、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。
【００１０】
本明細書に開示する技術の第２の態様では、上記の第１の態様において、反射体は、ヒータに対して、乾燥空間内を走行するフィルムと反対側に配置される第１反射部を備えていてもよい。上記の構成によれば、ヒータに対してフィルムと反対側に向かってヒータから照射された電磁波を、反射体で反射させて、フィルムに照射することができる。このため、ヒータから放射される電磁波を効率良くフィルムに照射することができる。これにより、ヒータの出力をより低減することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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