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公開番号2025042634
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-27
出願番号2024230741,2023149297
出願日2024-12-26,2023-09-14
発明の名称ゲームプログラム、ゲームシステム、ゲーム処理方法、およびゲーム装置
出願人任天堂株式会社
代理人弁理士法人小笠原特許事務所,個人
主分類A63F 13/52 20140101AFI20250319BHJP(スポーツ;ゲーム;娯楽)
要約【課題】正射影で2D風の影を描画できるゲームプログラム、ゲームシステム、ゲーム処
理方法、ゲーム装置を提供すること。
【解決手段】プレイヤキャラクタと、これより奥側に背面オブジェクトとが少なくとも配
置された仮想空間を、正射影によって、かつデプステストを行って、フレームバッファに
描画させる。SSAOに基づいた遮蔽判定方法であって、かつ画素ごとに、当該画素に対
応する仮想空間内の位置の周辺に設定される複数のサンプル点の奥行値と、対応するデプ
スバッファ内の位置のデプスとの比較をする際に、サンプル点の位置に第1のオフセット
を加えて比較を行う遮蔽判定方法に基づいて、画素ごとの遮蔽度合いを判定させる。そし
て、遮蔽度合いが高い部分に対応する画素に影を更に描画させる。
【選択図】図24
特許請求の範囲【請求項１】
情報処理装置のコンピュータに、
プレイヤキャラクタオブジェクトと、当該プレイヤキャラクタオブジェクトよりも奥側
に背面オブジェクトとが少なくとも配置された仮想空間内において、前記プレイヤキャラ
クタオブジェクトと仮想カメラを少なくとも制御させ、
正射影によって、かつデプステストを行って、前記仮想空間をフレームバッファに描画
させ、
ＳＳＡＯ（Screen Space Ambient Occlusion）に基づいた遮蔽判定方法であって、かつ
画素ごとに、当該画素に対応する前記仮想空間内の位置の周辺に設定される複数のサンプ
ル点の奥行値と、対応するデプスバッファ内の位置のデプスとの比較をする際に、前記サ
ンプル点の位置に所定方向の第１のオフセットを加えて比較を行う遮蔽判定方法に基づい
て、前記画素ごとの遮蔽度合いを判定させ、
前記遮蔽度合いが高いと判定された部分に対応する前記フレームバッファ内の画素に影
を更に描画させる、
ゲームプログラム。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記仮想空間内において、前記背面オブジェクトは、それぞれ異なる奥行となる位置に
多層に複数配置され、
前記遮蔽判定方法は、前記比較において、前記デプスの差に基づいた前記遮蔽度合いの
減衰をさせない遮蔽判定方法である、請求項１記載のゲームプログラム。
【請求項３】
前記仮想空間内には、前記背面オブジェクトよりも更に奥側に背景オブジェクトが配置
され、
前記コンピュータに、
前記背景オブジェクトに対応する画素を対象外として、前記影の描画を行わせる、請
求項２記載のゲームプログラム。
【請求項４】
前記コンピュータに更に、
前記仮想空間の前記フレームバッファへの描画において、所定のオブジェクトについ
て、法線ベクトルを前記仮想カメラのある位置を向く方向に近づけるように変形させて描
画を行わせる、請求項１記載のゲームプログラム。
【請求項５】
前記コンピュータに、
前記法線ベクトルについて、奥行方向の成分を所定の倍率でスケーリングした上で、当
該法線ベクトルの長さを正規化することで、前記仮想カメラのある位置を向く方向に近づ
けるように変形させる、請求項４記載のゲームプログラム。
【請求項６】
前記コンピュータに更に、
前記仮想空間内に配置された、前記プレイヤキャラクタオブジェクトを含む複数のキ
ャラクタオブジェクトについて、前記フレームバッファへの描画の際に、キャラクタオブ
ジェクト毎に異なる奥行値となるように第２のオフセットを加えて描画させる、請求項２
記載のゲームプログラム。
【請求項７】
コンピュータを備えたゲームシステムであって、
前記コンピュータは、
プレイヤキャラクタオブジェクトと、当該プレイヤキャラクタオブジェクトよりも奥側
に背面オブジェクトとが少なくとも配置された仮想空間内において、前記プレイヤキャラ
クタオブジェクトと仮想カメラを少なくとも制御し、
正射影によって、かつデプステストを行って、前記仮想空間をフレームバッファに描画
し、
ＳＳＡＯ（Screen Space Ambient Occlusion）に基づいた遮蔽判定方法であって、かつ
画素ごとに、当該画素に対応する前記仮想空間内の位置の周辺に設定される複数のサンプ
ル点の奥行値と、対応するデプスバッファ内の位置のデプスとの比較をする際に、前記サ
ンプル点の位置に所定方向の第１のオフセットを加えて比較を行う遮蔽判定方法に基づい
て、前記画素ごとの遮蔽度合いを判定し、
前記遮蔽度合いが高いと判定された部分に対応する前記フレームバッファ内の画素に影
を更に描画する、
ゲームシステム。
【請求項８】
前記仮想空間内において、前記背面オブジェクトは、それぞれ異なる奥行となる位置に
多層に複数配置され、
前記遮蔽判定方法は、前記比較において、前記デプスの差に基づいた前記遮蔽度合いの
減衰をさせない遮蔽判定方法である、請求項７記載のゲームシステム。
【請求項９】
前記仮想空間内には、前記背面オブジェクトよりも更に奥側に背景オブジェクトが配置
され、
前記コンピュータは、
前記背景オブジェクトに対応する画素を対象外として、前記影の描画を行う、請求項
８記載のゲームシステム。
【請求項１０】
前記コンピュータは更に、
前記仮想空間の前記フレームバッファへの描画において、所定のオブジェクトについ
て、法線ベクトルを前記仮想カメラのある位置を向く方向に近づけるように変形させて描
画を行う、請求項７記載のゲームシステム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、ゲーム処理における画像処理に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、ゲーム処理等で、仮想３次元空間における影を表現することが行われている
。また、その中でも、シャドウボリューム技法を用いた影を表現手法も知られている（例
えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００４－２８０５９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の技術は、透視投影による表現を想定した技術であった。そのため、２Ｄ風ゲーム
のように、正射影でゲーム画像を表現する場合においては、適さない場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の点に鑑みて、例えば以下のような構成例が挙げられる。
【０００６】
（構成１）
構成１は、情報処理装置のコンピュータに、プレイヤキャラクタオブジェクトと、当該
プレイヤキャラクタオブジェクトよりも奥側に背面オブジェクトとが少なくとも配置され
た仮想空間内において、プレイヤキャラクタオブジェクトと仮想カメラを少なくとも制御
させ、正射影によって、かつデプステストを行って、仮想空間をフレームバッファに描画
させる。また、ＳＳＡＯに基づいた遮蔽判定方法であって、かつ画素ごとに、当該画素に
対応する仮想空間内の位置の周辺に設定される複数のサンプル点の奥行値と、対応するデ
プスバッファ内の位置のデプスとの比較をする際に、サンプル点の位置に所定方向の第１
のオフセットを加えて比較を行う遮蔽判定方法に基づいて、画素ごとの遮蔽度合いを判定
させる。そして、遮蔽度合いが高いと判定された部分に対応するフレームバッファ内の画
素に影を更に描画させる。
【０００７】
上記構成例によれば、背面オブジェクトにプレイヤキャラクタオブジェクトの影を描画
する際、２Ｄ風の影を描画できる。
【０００８】
（構成２）
構成２は、上記構成１において、仮想空間内において、背面オブジェクトは、それぞれ
異なる奥行となる位置に多層に複数配置されていてもよい。そして、上記遮蔽判定方法は
、比較において、デプスの差に基づいた遮蔽度合いの減衰をさせない遮蔽判定方法であっ
てもよい。
【０００９】
上記構成例によれば、正射影による見た目とは異なるデプス（奥行き位置）に背面オブ
ジェクトが配置されている場合であっても、２Ｄゲームをして見た場合に違和感のない影
を描画できる。
【００１０】
（構成３）
構成３は、上記構成２において、仮想空間内には、前記背面オブジェクトよりも更に奥
側に背景オブジェクトが配置されていてもよい。そして、コンピュータに、背景オブジェ
クトに対応する画素を対象外として、上記影の描画を行わせてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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