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公開番号2025041431
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-26
出願番号2023148734
出願日2023-09-13
発明の名称磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類C09K 3/14 20060101AFI20250318BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】得られる研磨液の品質と、研磨液製造における生産性及び経済性とを両立可能な磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法の提供。
【解決手段】一態様において、シリカ粒子と水とを含有する磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法であって、シリカ粒子と水を含む混合物をろ過するろ過工程を含み、前記ろ過工程は、工程(1):シリカ粒子と水を含む混合物をろ過助剤含有フィルタF1でろ過してろ過物(1)を得る工程及び工程(2):工程(1)で得られたろ過物(1)をプリーツ型フィルタF2でろ過する工程を含む。工程(1)のろ過助剤含有フィルタF1の通気抵抗が0.02MPa以上であり、工程(2)の前記プリーツ型フィルタF2の通気抵抗が0.2MPa以上である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
シリカ粒子と水とを含有する磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法であって、
シリカ粒子と水を含む混合物をろ過するろ過工程を含み、
前記ろ過工程は、下記工程（１）及び工程（２）を含み、
工程（１）：シリカ粒子と水を含む混合物をろ過助剤含有フィルタＦ１でろ過してろ過物（１）を得る工程；
工程（２）：工程（１）で得られたろ過物（１）をプリーツ型フィルタＦ２でろ過する工程；
工程（１）のろ過助剤含有フィルタＦ１の通気抵抗が０．０２ＭＰａ以上であり、
工程（２）のプリーツ型フィルタＦ２の通気抵抗が０．２ＭＰａ以上である、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法。
続きを表示（約 940 文字）【請求項２】
前記ろ過助剤含有フィルタＦ１が含有するろ過助剤が珪藻土を含有するものである、請求項１に記載の磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法。
【請求項３】
前記ろ過工程が、前記工程（１）の前に、シリカ粒子と水を含む混合物をデプス型フィルタＦ０でろ過してろ過物（０）を得る工程を含み、
前記工程（１）において、前記ろ過物（０）をろ過助剤含有フィルタＦ１でろ過してろ過物（１）を得ることを含む、請求項１又は２に記載の磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法。
【請求項４】
前記ろ過工程の前、途中、又は後に、シリカ粒子と水を含む混合物と、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、アミン化合物、及び、アニオン性水溶性高分子から選ばれる少なくとも１種を配合する工程を含む、請求項１から３のいずれかに記載の磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法。
【請求項５】
磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造において、シリカ粒子と水を含む混合物のろ過工程におけるフィルタの閉塞を抑制する方法であって、
前記ろ過工程を、下記工程（１）及び工程（２）を含むものとすることを含む、フィルタの閉塞抑制方法。
工程（１）：シリカ粒子と水を含む混合物をろ過助剤含有フィルタＦ１でろ過してろ過物（１）を得る工程；
工程（２）：工程（１）で得られたろ過物（１）をプリーツ型フィルタＦ２でろ過する工程；
ここで、工程（１）のろ過助剤含有フィルタＦ１の通気抵抗が０．０２ＭＰａ以上であり、
工程（２）のプリーツ型フィルタＦ２の通気抵抗が０．２ＭＰａ以上である。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載の磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法により得られる磁気ディスク基板研磨用研磨液。
【請求項７】
請求項６に記載の磁気ディスク基板研磨用研磨液を被研磨磁気ディスク基板の研磨対象面に供給し、前記被研磨磁気ディスク基板の研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び／又は前記被研磨磁気ディスク基板を動かして、前記研磨対象面を研磨することを含む、磁気ディスク基板の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造におけるフィルタの閉塞抑制方法、磁気ディスク基板研磨用研磨液及び磁気ディスク基板の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、高記録密度化が求められている。高記録密度化するために、単位記録面積を縮小し、弱くなった磁気信号の検出感度を向上するため、磁気ヘッドの浮上高さをより低くするための技術開発が進められている。磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの低浮上化と記録面積の確保に対応するため、表面粗さ、うねり、端面ダレ（ロールオフ）の低減に代表される平滑性・平坦性の向上とスクラッチ、突起、ピット等の低減に代表される欠陥低減に対する要求が厳しくなっている。
また、半導体分野においても、高集積化と高速化が進んでおり、特に高集積化では配線の微細化が要求されている。その結果、半導体基板の製造プロセスにおいては、フォトレジストに露光する際の焦点深度が浅くなり、より一層の表面平滑性が望まれている。
【０００３】
このような要求に対して、例えば、特許文献１には、シリコンウエハ用研磨液組成物の製造に用いられるシリカ分散液の製造方法であって、シリカ粒子Ａと含窒素塩基性化合物Ｂと水とを含有する被処理シリカ分散液Ｐをろ過するろ過工程を含み、被処理シリカ分散液Ｐにおけるシリカ粒子Ａ１００質量部に対する含窒素塩基性化合物Ｂの含有量が１質量部以上１５質量部以下であり、被処理シリカ分散液Ｐは水溶性高分子化合物、ナトリウム及びカリウムを実質的に含まない、シリカ分散液の製造方法が提案されている。
特許文献２には、コロイダルシリカ砥粒含有液を用いて研磨用組成物を製造する方法であって、前記コロイダルシリカ砥粒含有液はフィルタによってろ過されており、前記フィルタは平均繊維径が１μｍ未満のフィルタ繊維から構成されたフィルタ繊維層を備える、研磨用組成物の製造方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１７－１１７８４７号公報
特開２０１５―７１６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、基板の表面品質に対する要求特性はさらに厳しくなっているため、基板の製造における研磨工程の重要性はますます高まり、それには該研磨工程に用いられる研磨液の品質が鍵である。
磁気ディスクドライブの基板表面の欠陥の１つであるスクラッチの原因の一つは、研磨液に含まれる粗大粒子である。通常、研磨液中の粗大粒子は、その研磨液製造工程において、ろ過によって除去されている。
研磨液のろ過においては、得られる研磨液の品質（例えば、粗大粒子の少なさ）と、生産性及び経済性とがトレードオフになる問題がある。すなわち、得られる研磨液の品質を高めるためにフィルタ径を細かくすると、充填速度（生産性）が悪化する。また、フィルタ径を細かくするとフィルタの閉塞が起こりやすく、フィルタ閉塞が起こるとフィルタ交換頻度の増加につながり、経済性が悪化する。
【０００６】
そこで、本開示は、一態様において、得られる研磨液の品質と、生産性及び経済性とを両立可能な磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、一態様において、シリカ粒子と水とを含有する磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法であって、シリカ粒子と水を含む混合物をろ過するろ過工程を含み、前記ろ過工程は、工程（１）：シリカ粒子と水を含む混合物をろ過助剤含有フィルタＦ１でろ過してろ過物（１）を得る工程、及び工程（２）：工程（１）で得られたろ過物（１）をプリーツ型フィルタＦ２でろ過する工程を含み、工程（１）のろ過助剤含有フィルタＦ１の通気抵抗が０．０２ＭＰａ以上であり、工程（２）のプリーツ型フィルタＦ２の通気抵抗が０．２ＭＰａ以上である、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法に関する。
【０００８】
本開示は、一態様において、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造において、シリカ粒子と水を含む混合物のろ過工程におけるフィルタの閉塞を抑制する方法であって、前記ろ過工程を、工程（１）：シリカ粒子と水を含む混合物をろ過助剤含有フィルタＦ１でろ過してろ過物（１）を得る工程、及び工程（２）：工程（１）で得られたろ過物（１）をプリーツ型フィルタＦ２でろ過する工程を含むものとすることを含み、ここで、工程（１）のろ過助剤含有フィルタＦ１の通気抵抗が０．０２ＭＰａ以上であり、工程（２）のプリーツ型フィルタＦ２の通気抵抗が０．２ＭＰａ以上である、フィルタの閉塞抑制方法に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液の製造方法により得られる磁気ディスク基板研磨用研磨液に関する。
【００１０】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液の製造方法により得られた磁気ディスク基板研磨用研磨液を被研磨磁気ディスク基板の研磨対象面に供給し、前記被研磨磁気ディスク基板の研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び／又は前記被研磨磁気ディスク基板を動かして、前記研磨対象面を研磨することを含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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