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公開番号2025016183
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-31
出願番号2023119298
出願日2023-07-21
発明の名称露光方法、露光装置、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250124BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】1つの露光領域に対して間欠的な露光を行う露光処理のスループット向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板のショット領域を間欠的に複数回露光する間欠露光を行う露光方法は、露光光の光路を開閉するためのシャッタを遮光状態から光通過状態にすることにより、第1ショット領域の第1露光を開始する第1工程と、前記シャッタを前記光通過状態から前記遮光状態にすることにより、前記第1露光を終了させ、その後、前記シャッタを再び前記光通過状態にすることにより、前記第1ショット領域の第2露光を開始する第2工程と、を有し、前記第2工程においては前記シャッタを静止させない。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板のショット領域を間欠的に複数回露光する間欠露光を行う露光方法であって、
露光光の光路を開閉するためのシャッタを遮光状態から光通過状態にすることにより、第１ショット領域の第１露光を開始する第１工程と、
前記シャッタを前記光通過状態から前記遮光状態にすることにより、前記第１露光を終了させ、その後、前記シャッタを再び前記光通過状態にすることにより、前記第１ショット領域の第２露光を開始する第２工程と、
を有し、
前記第２工程においては前記シャッタを静止させない、
ことを特徴とする露光方法。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
前記第１露光と前記第２露光との間で露光が中断される中断期間の長さが調整されるよう前記第２工程における前記シャッタの駆動プロファイルを設定する設定工程を更に有する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記設定工程において、前記中断期間における等速駆動の速度および前記等速駆動の継続時間を設定する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
前記第２露光の後、前記シャッタを前記光通過状態から前記遮光状態にして、前記第１ショット領域の次に第２ショット領域を露光するために前記基板を保持するステージを移動する移動工程を更に有し、
前記設定工程では、前記中断期間における等速駆動の速度を前記移動工程における等速駆動の速度より遅くし、前記中断期間における等速駆動の継続時間を前記移動工程における等速駆動の継続時間より長くする、
ことを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
【請求項５】
前記シャッタを前記光通過状態から前記遮光状態にすることにより、前記第２露光を終了させ、その後、前記シャッタを再び前記光通過状態にすることにより、前記第１ショット領域の第３露光を開始する第３工程を更に有し、
前記第３工程においては前記シャッタを静止させず、
前記第２工程と前記第３工程とでは、前記シャッタの駆動プロファイルが異なる、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項６】
前記第１露光が行われる期間および前記第２露光が行われる期間はそれぞれ、前記光通過状態で前記シャッタを静止させる期間を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項７】
前記第１露光が行われる期間、前記第２露光が行われる期間、および前記第３露光が行われる期間はそれぞれ、前記光通過状態で前記シャッタを静止させる期間を含む、ことを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【請求項８】
前記第１露光が行われる期間および前記第２露光が行われる期間のいずれか一方は、前記光通過状態で前記シャッタを静止させる期間を含み、他方では、前記シャッタを静止させない、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項９】
前記第１露光が行われる期間、前記第２露光が行われる期間、および前記第３露光が行われる期間のうちのいずれか１つの期間は、前記光通過状態で前記シャッタを静止させる期間を含み、残りの期間では、前記シャッタを静止させない、ことを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【請求項１０】
基板のショット領域を間欠的に複数回露光する間欠露光を行う露光装置であって、
光通過部と光遮蔽部とを有するシャッタと、
露光光の光路上に前記光遮蔽部を位置させることにより前記シャッタを遮光状態にし、前記光路上に前記光通過部を位置させることにより前記シャッタを光通過状態にするように、前記シャッタを駆動する駆動部と、
制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記シャッタを前記遮光状態から前記光通過状態にすることにより、第１ショット領域の第１露光を開始する第１工程と、
前記シャッタを前記光通過状態から前記遮光状態にすることにより、前記第１露光を終了させ、その後、前記シャッタを再び前記光通過状態にすることにより、前記第１ショット領域の第２露光を開始する第２工程と、を実行するように構成され、
前記制御部は、前記第１工程においては前記シャッタを静止させないように前記駆動部を制御する、
ことを特徴とする露光装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光方法、露光装置、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
デバイス（半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子等）、カラーフィルタ、又はハードディスク等の製造において、基板（ガラスプレート、ウエハなど）を露光する露光装置が使用される。露光装置は、例えば、パターンが形成された原版（レチクル、マスク）に光を照射して、投影光学系を介して原版からの光を基板に照射することにより、基板を露光する。
【０００３】
特許文献１には、露光によるレンズの温度上昇により露光装置の光学系に生じる影響を防止するために、基板上の露光されるべき領域（ショット領域）に対して露光を間欠的に行う露光方法が開示されている。ここで、ショット領域に対して露光を間欠的に行うとは、ショット領域に対する露光と中断を繰り返し行うことである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第２８４４６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板上のショット領域に対して露光を間欠的に行う場合、露光を中断する期間があるため、露光処理の期間が長くなり、スループットの向上が抑制される可能性がある。そのため、間欠的な露光を行う露光処理において露光を中断する期間を短縮してスループットを向上することが望まれている。
【０００６】
本発明は、１つのショット領域に対して間欠的な露光を行う露光処理のスループット向上に有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面によれば、基板のショット領域を間欠的に複数回露光する間欠露光を行う露光方法であって、露光光の光路を開閉するためのシャッタを遮光状態から光通過状態にすることにより、第１ショット領域の第１露光を開始する第１工程と、前記シャッタを前記光通過状態から前記遮光状態にすることにより、前記第１露光を終了させ、その後、前記シャッタを再び前記光通過状態にすることにより、前記第１ショット領域の第２露光を開始する第２工程と、を有し、前記第２工程においては前記シャッタを静止させない、ことを特徴とする露光方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、１つの露光領域に対して間欠的な露光を行う露光処理のスループット向上に有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
露光装置の構成を示す図。
遮光機構の構成を示す図。
基板上の複数のショット領域の例を示す図。
比較例１に係る露光処理を示す図。
比較例２に係る、間欠露光を含む露光処理を示す図。
第１実施形態に係る露光処理を示す図。
第１実施形態の変形例１に係る露光処理を示す図。
第１実施形態の変形例２に係る露光処理を示す図。
第２実施形態に係る露光処理を示す図。
第２実施形態の変形例に係る露光処理を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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