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公開番号2025013942
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-28
出願番号2024186990,2022026469
出願日2024-10-23,2015-08-25
発明の名称金属基板およびこれを用いた蒸着用マスク
出願人エルジーイノテックカンパニーリミテッド
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20250121BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】蒸着の均一度を高めることができる蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】本発明の実施例は有機発光素子などの蒸着工程に適用可能なマスク構造に対するものであって、金属板の前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第1面および第2面を具備し、前記第1面および第2面を貫通し、相互間に連通する第1面穴および第2面穴を有する単位ホールを多数含み、互いに隣り合う単位ホールの間の第1面穴または第2面穴の大きさ偏差が任意の単位ホール間の大きさ偏差を基準として2%～10%以内に調節したり、前記第1面穴の中心と前記第2面穴の中心が前記第1面の表面を基準として相互に一致しない位置に配置される蒸着マスクを提供できるようにする。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
厚さを有する金属板；
前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備
し、
前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する
単位ホールを多数含み、
互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が任意の単位ホ
ール間の大きさの偏差を基準として１０％以内である蒸着用マスク。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
単位ホール間の大きさの偏差は、
互いに隣り合う第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が±３μｍ以内である、請求項１
に記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記第１面穴または第２面穴の大きさ偏差は、
第１面穴または第２面の第１方向の直径と前記第１方向に直交する第２方向の直径の間
の直径の偏差である、請求項２に記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
前記第２面穴の外周面から中心方向に突出する突起の幅または高さの最大値が２０μｍ
以下である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項５】
厚さを有する金属板；
前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備
し、
前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する
単位ホールを多数含み、
前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心とが前記第１面の表面を基準として相互に一
致しない位置に配置される単位ホールを少なくとも一つ以上含む蒸着用マスク。
【請求項６】
前記相互に一致しない構造は、
前記金属板の第１面または第２面の表面と直交する仮想の垂直線を前記第１面穴の中心
と前記第２面穴の中心のうちいずれか一つで引くとき、前記第１面穴の中心と前記第２面
穴の中心のうち他の中心を過ぎないようにずれて配置される構造である、請求項５に記載
の蒸着用マスク。
【請求項７】
前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心との間の距離（Ｂ）は、前記第２面穴の直径
の長さ（Ａ）の０．９Ａ以下である、請求項５に記載の蒸着用マスク。
【請求項８】
互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が任意の単位ホ
ール間の大きさの偏差を基準として１０％以内である、請求項５に記載の蒸着用マスク。
【請求項９】
前記単位ホールは、
前記第１面穴および第２面穴の相互に連通する地点である境界面まで前記金属板の厚さ
方向に行くほど幅が狭くなる、請求項５に記載の蒸着用マスク。
【請求項１０】
前記第１面穴の第１面上に露出する開口幅が前記第２面穴の第２面上に露出する開口幅
より大きい、請求項７に記載の蒸着用マスク。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施例は、有機発光素子などの蒸着工程に適用可能な金属基板およびこれを用
いたマスク構造に関するものである。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ発光素子から成る有機ＥＬカラーディスプレーなどの製造工程においては、有
機材料から成る有機層が真空蒸着によって形成され、このとき、有機層のパターンに合わ
せて材料を透過させるための複数の透過穴が設けられた蒸着用マスクが使用されている。
一般に、蒸着用マスクを構成する透過穴の場合、金属薄膜にフォトレジスト膜を使用して
パターン露光した後エッチングを行うフォトエッチング法や、ガラス円板に所望のパター
ンで電気めっきを実施した後剥離する電気鋳造法によって形成することができる。
【０００３】
従来の蒸着マスクは通常メタルマスク（ＭｅｔａｌＭａｓｋ）として具現され、これ
は蒸着のための透過穴（ＯｐｅｎＡｒｅａ）だけを正確に具現することに集中している
。しかしこのような方式では蒸着の効率と蒸着が行われない領域（ＤｅａｄＳｐａｃｅ
）を減らす部分では大きな効用を示すことができない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施例は、前述した問題を解決するために案出されたものであって、特に隣接
する蒸着用単位ホームの間の均一度を調節して蒸着後ＯＬＥＤパネルなどのむら防止およ
びモアレ（Ｍｏｒｉｅ）を防止できる構造の蒸着用マスクを提供できるようにする。
【０００５】
また、本発明の他の実施例によると、蒸着用単位ホームを構成する１面穴と２面穴の中
心の位置を外れるように配置して蒸着効率を増大することができ、蒸着時蒸着が行われな
い部分（ｄｅａｄｓｐａｃｅ）を最小化することができるようにし、大面積の蒸着対象
物の場合にも蒸着の均一度を高めることができる蒸着用マスクを提供できるようにする。
【０００６】
特に蒸着用マスクとして製造するために金属基板をエッチングする場合、発生するねじ
れ現象を最小化できる金属基板を提供できるようにする。さらに、このような金属基板を
基に多数の蒸着用単位ホールを具備する蒸着用マスクを具現することができるようにする
。また、蒸着用マスクの単位ホールのラフネスを制御して蒸着効率を上げられるようにす
る。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前述した課題を解決するための手段として、本発明の実施例においては厚さを有する金
属板；前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を
具備し、前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を
有する単位ホールを多数含んで、互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面
穴の大きさ偏差が任意の単位ホール間の大きさの偏差を基準として１０％以内である蒸着
用マスクを提供できるようにする。
【０００８】
また、本発明の他の実施例においては厚さ（ｔ）を有する金属板；前記金属板は前記厚
さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備し、前記第１面および
第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する単位ホールを多数含
み、前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心が前記第１面の表面を基準として相互に一
致しない位置に配置される蒸着マスクを提供できるようにする。
【０００９】
また、本発明のまた他の実施例においては、厚さを有するベース金属板；前記ベース金
属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備し、前記
ベース金属板の任意の地点に３０ｍｍ＊１８０ｍｍ（横＊縦）で採取したサンプル基板の
、両側末端から内側に１０ｍｍを残してその内部に対して前記厚さの２／３～１／２厚さ
にエッチングしたエッチング領域を具現し、前記サンプル基板を水平対象面に据え置きす
る場合、前記サンプル基板のねじれ指数（Ｈｒ）が次の関係を充足する金属基板を提供で
きるようにする。
［数１］
ＨＲ＝｛（Ｈ１－Ｈａ）２＋（Ｈ２－Ｈａ）２＋（Ｈ３－Ｈａ）２＋（Ｈ４－Ｈａ
）２｝１／２
［数２］
Ｈａ＝（Ｈ１＋Ｈ２＋Ｈ３＋Ｈ４）／４
【００１０】
Ｈａは、前記サンプル基板の４隅が水平対象面から離隔する距離（Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、
Ｈ４）の平均隔離距離と定義する。また、前述したねじれ指数（Ｈｒ）を満足する金属基
板を用いて多数の蒸着用単位ホールを具備する蒸着マスクを提供できるようにする。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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