TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2024170289
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-12-06
出願番号
2024059579
出願日
2024-04-02
発明の名称
浸漬処理装置及び浸漬処理方法
出願人
三菱電機株式会社
代理人
弁理士法人深見特許事務所
主分類
C23G
3/00 20060101AFI20241129BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約
【課題】被処理物に形成された複数止まり穴のそれぞれの固有振動数が異なる場合でも、すべての止まり穴から気体を除去し、止まり穴内を処理できる浸漬処理装置及び浸漬処理方法を提供する。
【解決手段】浸漬処理装置101は、被処理物を処理液に浸漬させたときに第1の止まり穴の内部及び第2の止まり穴の内部に残る各気体の固有振動数の整数倍の周波数を含む複数の周波数を生成する周波数生成部8と、周波数生成部8で生成された複数の周波数に対応する周波数の振動を発生し、振動を被処理物に伝える振動発生部とを備えるものである。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
第1の止まり穴と第2の止まり穴を含む複数の止まり穴を有する1又は複数の被処理物の表面処理を処理液を用いて行う浸漬処理装置であって、
前記処理液を溜める処理槽と、
前記被処理物を前記処理液に浸漬させたときに前記第1の止まり穴の内部及び前記第2の止まり穴の内部に残る各気体の固有振動数の整数倍の周波数を含む複数の周波数を生成する周波数生成部と、
前記周波数生成部で生成された前記複数の周波数に対応する周波数の振動を発生し、前記振動を前記被処理物に伝える振動発生部とを備える浸漬処理装置。
続きを表示(約 870 文字)
【請求項2】
前記周波数生成部は、前記被処理物を前記処理液に浸漬させたときに前記第1の止まり穴の内部及び前記第2の止まり穴の内部に残る各気体の固有振動数の整数倍の周波数を含む周波数範囲の周波数を掃引して生成する請求項1に記載の浸漬処理装置。
【請求項3】
前記振動発生部は、前記周波数生成部で生成された前記複数の周波数に対応する周波数の振動を複数回発生する請求項1に記載の浸漬処理装置。
【請求項4】
前記振動発生部は、前記被処理物に対して複数方向から前記振動を伝えるように設けられる請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の浸漬処理装置。
【請求項5】
前記振動発生部は、前記周波数生成部で生成された前記複数の周波数に対応する振動を発生する振動器を有し、
前記振動器は、前記処理液に浸漬しない位置に設けられる請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の浸漬処理装置。
【請求項6】
前記振動発生部は、前記処理液に浸漬する部位と、前記振動器が取り付けられる部位とを有する振動伝播部材を含むことを特徴とする請求項5に記載の浸漬処理装置。
【請求項7】
前記振動伝播部材は、前記被処理物を前記処理液中に保持して前記被処理物に前記振動を伝える保持部を含む請求項6に記載の浸漬処理装置。
【請求項8】
前記振動器は、前記処理槽の側面又は底面に取り付けられる請求項5に記載の浸漬処理装置。
【請求項9】
第1の止まり穴と第2の止まり穴を含む複数の止まり穴を有する1又は複数の被処理物の表面処理を処理液を用いて行う浸漬処理方法であって、
前記被処理物を前記処理液に浸漬する手順と、
前記被処理物を前記処理液に浸漬させたときに前記第1の止まり穴の内部及び前記第2の止まり穴の内部に残る各気体の固有振動数の整数倍の周波数を含む複数の周波数に対応する周波数の振動を前記被処理物へ伝える手順とを有する浸漬処理方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、めっき、塗装、酸洗浄、脱脂など、被処理物の表面の処理を行う浸漬処理装置及び浸漬処理方法に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)
【背景技術】
【0002】
被処理物を処理液に浸漬して処理を行う浸漬処理装置及び浸漬処理方法においては、被処理物に止まり穴が形成されている場合、被処理物を処理液に浸漬させたときに止まり穴内に気体が気柱として残ることがある。気体が残ったままだと止まり穴内部に処理液が侵入しないため、止まり穴内部の処理ができない場合がある。
【0003】
そのため、水中にスピーカーを設け、スピーカーから1つの止まり穴に向け、その止まり穴内部に残っている気柱の固有振動数に一致する周波数の音波を発し、水を媒介として気柱に音波を伝えることにより、止まり穴内部の気体を除去する方法が開示されている(非特許文献1)。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
Matsumoto,Y.;Mizushima,Y.;Sanada,T.Removing Gas from a Closed-End Small Hole by Irradiating Acoustic Waves with Two Frequencies,Micromachines 2022,13,109.https://doi.org/10.3390/mi13010109
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、非特許文献1に記載の方法では、1つの止まり穴に残った気体を除去する方法が開示されているが、複数の止まり穴を有する被処理物や止まり穴を有する被処理物を複数同時に処理する場合では、複数の止まり穴内部の気体の固有振動数がそれぞれ異なることがある。この場合、気体を除去するために最適な周波数が止まり穴それぞれによって異なるため、これら複数の止まり穴から気体を除去することが困難である。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記のような課題を解決するため、本開示における浸漬処理装置は、第1の止まり穴と第2の止まり穴を含む複数の止まり穴を有する1又は複数の被処理物の表面処理を処理液を用いて行う浸漬処理装置であって、処理液を溜める処理槽と、被処理物を処理液に浸漬させたときに第1の止まり穴の内部及び第2の止まり穴の内部に残る各気体の固有振動数の整数倍の周波数を含む複数の周波数を生成する周波数生成部と、周波数生成部で生成された複数の周波数に対応する周波数の振動を発生し、振動を被処理物に伝える振動発生部とを備える。
【0007】
また、本開示における浸漬処理方法は、第1の止まり穴と第2の止まり穴を含む複数の止まり穴を有する1又は複数の被処理物の表面処理を処理液を用いて行う浸漬処理方法であって、被処理物を処理液に浸漬する手順と、被処理物を処理液に浸漬させたときに第1の止まり穴の内部及び第2の止まり穴の内部に残る各気体の固有振動数の整数倍の周波数を含む複数の周波数に対応する周波数の振動を被処理物へ伝える手順とを有する。
【発明の効果】
【0008】
本開示によれば、複数の止まり穴内部に残った気体の固有振動数がそれぞれ異なる場合でも、複数の止まり穴から気体を除去し、表面処理できる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本開示の実施の形態1に係る浸漬処理装置の斜視図である。
本開示の実施の形態1に係る浸漬処理装置の断面図である。
本開示の実施の形態2に係る浸漬処理装置の斜視図である。
本開示の実施の形態2に係る浸漬処理装置の断面図である。
本開示の実施の形態3に係る浸漬処理装置の斜視図である。
本開示の実施の形態3に係る浸漬処理装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
実施の形態1.
以下、本開示の実施の形態1に係る浸漬処理装置101について、図1、図2を用いて説明する。図1は、本開示の実施の形態1に係る浸漬処理装置101の斜視図である。図2は、本開示の実施の形態1に係る浸漬処理装置101の断面図である。図2では、簡略化のため、スタンド4、棒状部材5、周波数生成部8、増幅器9は省略している。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
三菱電機株式会社
冷蔵庫
1か月前
三菱電機株式会社
換気扇
22日前
三菱電機株式会社
清掃具
1か月前
三菱電機株式会社
梱包材
1か月前
三菱電機株式会社
給湯機
1か月前
三菱電機株式会社
冷蔵庫
1か月前
三菱電機株式会社
炊飯器
1か月前
三菱電機株式会社
照明装置
1日前
三菱電機株式会社
照明装置
1か月前
三菱電機株式会社
照明器具
1日前
三菱電機株式会社
駆動回路
1か月前
三菱電機株式会社
照明器具
23日前
三菱電機株式会社
照明器具
1日前
三菱電機株式会社
照明器具
1か月前
三菱電機株式会社
照明器具
14日前
三菱電機株式会社
給湯装置
1か月前
三菱電機株式会社
電機機器
16日前
三菱電機株式会社
換気装置
1か月前
三菱電機株式会社
照明装置
1か月前
三菱電機株式会社
照明器具
1日前
三菱電機株式会社
端子構造
1か月前
三菱電機株式会社
照明器具
2日前
三菱電機株式会社
制御装置
2か月前
三菱電機株式会社
空気清浄機
28日前
三菱電機株式会社
空気清浄機
28日前
三菱電機株式会社
加熱調理器
23日前
三菱電機株式会社
漏電遮断器
1か月前
三菱電機株式会社
レーダ装置
15日前
三菱電機株式会社
加熱調理器
1か月前
三菱電機株式会社
加熱調理器
1か月前
三菱電機株式会社
加熱調理器
1か月前
三菱電機株式会社
空気清浄機
28日前
三菱電機株式会社
レーダ装置
14日前
三菱電機株式会社
空気清浄機
28日前
三菱電機株式会社
半導体装置
8日前
三菱電機株式会社
半導体装置
1か月前
続きを見る
他の特許を見る