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公開番号
2025003640
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-01-09
出願番号
2024187781,2022175423
出願日
2024-10-24,2022-01-20
発明の名称
フッ素樹脂フィルム、銅張積層体及び回路用基板
出願人
ダイキン工業株式会社
代理人
弁理士法人タス・マイスター
主分類
B32B
27/30 20060101AFI20241226BHJP(積層体)
要約
【課題】ラミネート時の不良を低減し、銅箔との接着性も良好であるようなフッ素樹脂フィルム及びこれを使用した銅張積層体を得る。
【解決手段】フッ素樹脂フィルムと基材層とを有する積層体であって、
20GHzにおける誘電率が3.31未満であり、誘電正接が0.00244未満であることを特徴とする積層体。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
フッ素樹脂フィルムと基材層とを有する積層体であって、
20GHzにおける誘電率が3.31未満であり、誘電正接が0.00244未満であることを特徴とする積層体。
続きを表示(約 650 文字)
【請求項2】
20GHzにおける誘電率が3.03未満であり、誘電正接が0.00208未満である請求項1記載の積層体。
【請求項3】
フッ素樹脂フィルムと基材層とを有する積層体であって、
40GHzにおける誘電率が3.38未満であり、誘電正接が0.00294未満であることを特徴とする積層体。
【請求項4】
40GHzにおける誘電率が3.02未満であり、誘電正接が0.00252未満である請求項3記載の積層体。
【請求項5】
更に銅箔層を有する請求項1~4のいずれかに記載の積層体。
【請求項6】
基材層は、ガラス繊維からなる布帛にフッ素樹脂組成物を含浸させて得られるプリプレグである請求項1又は3に記載の積層体。
【請求項7】
基材層は、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルファイド、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ビスマレイミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンエーテル、及び、ポリブタジエンからなる群から選択される少なくとも1種を含む層である請求項1又は3に記載の積層体。
【請求項8】
請求項1又は3に記載の積層体、及び、銅箔からなることを特徴とする銅張積層板。
【請求項9】
請求項1又は3に記載の積層体からなることを特徴とする回路用基板。
【請求項10】
請求項8記載の銅張積層板からなることを特徴とする回路用基板。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、フッ素樹脂フィルム、銅張積層体及び回路用基板に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
回路基板には、絶縁層としてエポキシ樹脂やポリイミド樹脂が広く用いられている。近年、数十ギガヘルツレベルの高周波領域の用途で用いられる高周波回路基板には、誘電特性や吸湿性の観点から銅箔上にフッ素樹脂の絶縁層を形成する構成がいくつか提案されている(特許文献1~3)。
【0003】
このようなプリント配線基板において、フッ素樹脂フィルムに表面処理を施すことによって、銅箔との接着性を得ることも行われている(特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
国際公開2016/021666号
国際公開2019/203243号
国際公開2020/145133号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示は、ラミネート時の不良を低減し、銅箔との接着性も良好であるようなフッ素樹脂フィルム及びこれを使用した銅張積層体を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示は、
フッ素樹脂を含む組成物からなるフィルムであって、
180℃×3分間熱処理した後にその片面又は両面の表面状態を走査型X線光電子分光分析装置(XPS/ESCA)によって測定した際の酸素元素比率が1.35atomic%以上であり、
当該フィルムを180℃×10分間の熱処理後に25℃まで冷却し測定した際、熱処理前後のMDおよびTDの寸法変化率の絶対値が2%以下である
フッ素樹脂フィルムである。。
【0007】
上記酸素元素比率は、1.5atomic%以上であることが好ましい。
上記フッ素樹脂フィルムは、テトラフルオロエチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテル(PFA)又はテトラフルオロエチレン―ヘキサフルオロプロピレン(FEP)を含むことが好ましい。
【0008】
上記フッ素樹脂フィルムは、
片面又は両面の表面状態を走査型X線光電子分光分析装置(XPS/ESCA)によって測定した際の酸素元素比率と、当該フィルムをアルゴンガスクラスターイオンビームによって、入射角45°で深さ方向に15分間エッチングしたあと、走査型X線光電子分光分析装置(XPS/ESCA)によって測定した際の酸素元素比率の差が1.0atomic%以上であることが好ましい。
【0009】
上記フッ素樹脂フィルムは、片面のみまたは両面において、フィルムの同一面内同士を200℃で貼り合わせたときの接着強度が30N/mより大きいことが好ましい。
【0010】
上記フッ素樹脂フィルムは、10GHzにおける誘電正接が0.0015未満であることが好ましい。
上記フッ素樹脂フィルムは、40GHzにおける誘電正接が0.0015未満であることが好ましい。
上記フッ素樹脂フィルムは、不安定末端基数がフッ素樹脂の主鎖炭素数10
6
個あたり10未満であることが好ましい。
(【0011】以降は省略されています)
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