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公開番号2024162027
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-21
出願番号2023077173
出願日2023-05-09
発明の名称保持装置
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人弁理士法人暁合同特許事務所
主分類H01L 21/683 20060101AFI20241114BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】プラズマ処理中に静電チャックから放出されるガスによる異常放電を防止する保持装置を提供する。
【解決手段】保持装置において、保持基板10は、ヘリウムガス等の熱伝導ガスを放出する多孔質体70を有し、多孔質体70の下面70b側に、多孔質体70に十分な流量のガスを導入するための空間Vを確実に確保するため、縦流路部120と接続し、第1表面S1に対して平行に延びた横流路部130を有する。多孔質体70は、第2表面S2側に配される多孔質体70の端面70bと、端面70bと対向する縦流路部120の底面120b1との間に空間Vが形成されるように縦流路部120に充填される。保持装置は、底面120b1と端面70bとの間に介在され、多孔質体70を支える支柱部126を備える。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
対象物を保持する第１表面及び前記第１表面の反対側に配される第２表面を含む板状部材と、前記板状部材の内部に形成されるガス流路と、ガス透過性の多孔質体とを有する保持基板を備える保持装置であって、
前記ガス流路は、前記第１表面側に開口したガス流出口を含み、前記ガス流出口から前記第２表面側に延びつつ、前記多孔質体が充填される縦流路部と、前記縦流路部と接続し、前記第１表面に対して平行に延びた横流路部とを有し、
前記多孔質体は、前記第２表面側に配される前記多孔質体の端面と、前記端面と対向する前記縦流路部の底面との間に空間が形成されるように前記縦流路部に充填され、
前記底面と前記端面との間に介在され、前記多孔質体を支える支柱部を備える保持装置。
続きを表示（約 400 文字）【請求項２】
前記支柱部は、前記板状部材の一部からなり、かつ前記板状部材の内部に形成された前記縦流路部の前記底面から前記端面に向かって凸状に盛り上がった形をなす請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
前記底面と前記端面との間において、前記支柱部の周りを囲むように前記空間が形成される請求項１又は請求項２に記載の保持装置。
【請求項４】
前記支柱部は、前記端面側から前記底面側に向かって広がるように傾斜した傾斜面を含む請求項３に記載の保持装置。
【請求項５】
前記支柱部は、複数あり、
前記空間は、隣り合った前記支柱部の間に形成される請求項１又は請求項２に記載の保持装置。
【請求項６】
前記支柱部は、前記多孔質体の一部からなり、かつ前記端面から前記底面に向かって凸状に盛り上がった形をなす請求項１に記載の保持装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体を製造する際にウェハ（半導体ウェハ）を保持する保持装置の一例として、静電チャックが挙げられる（特許文献１参照）。静電チャックは、絶縁性のセラミックス（例えば、アルミナ）を主体とした保持基板（セラミック基板）を備えており、その保持基板の表面上でウェハが静電引力により保持される。静電引力は、保持基板の内部に設けられたチャック電極に電圧が印加されることで、発生する。
【０００３】
この種の静電チャックでは、プラズマエッチング等のプラズマ処理において、保持基板とウェハとの間に、ヘリウムガス等の熱伝導ガスを供給して、ウェハから熱を取り除くことが行われている。そのため、静電チャックの保持基板の内部には、外部から供給された熱伝導ガスを、ウェハに向かって流すためのガス流路が形成されている。保持基板の表面には、ガス流路の終端に位置するガス流出口が複数設けられており、各ガス流出口から、ウェハに向かって熱伝導ガスが供給される。
【０００４】
なお、プラズマ処理時に印加される高周波電力により、ガス流路内で異常放電（アーキング）が発生して、その異常放電により保持基板上のウェハが損傷することがあった。そのため、このような異常放電の発生を抑制するために、ガス流路の内部に、絶縁性のセラミック材料からなるガス透過性の多孔質体が設けられていた。多孔質体は、例えば、ガス流路の一部であり、ガス流出口から保持基板の厚み方向に真っ直ぐに延びた縦流路部の内部に、上面がガス流出口から露出する形で充填されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第４９５９９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の保持装置において、ガス流路を利用して供給されるガス（熱伝導ガス等の不活性ガス）と、縦流路部内に充填されている多孔質体との圧力損失を抑制するために、多孔質体の下側の端面と、縦流路部の底側との間に空間を設けることが試みられていた。しかしながら、保持装置（保持基板）の作製時に、多孔質体が縦流路部の底側に位置ずれする等して、多孔質体の下面側の空間が潰れて確保できなくなる虞があった。
【０００７】
本発明の目的は、ガス流路内に充填されている多孔質体の下面側に、多孔質体内に十分な流量のガスを導入するための空間が確実に確保される保持装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞対象物を保持する第１表面及び前記第１表面の反対側に配される第２表面を含む板状部材と、前記板状部材の内部に形成されるガス流路と、ガス透過性の多孔質体とを有する保持基板を備える保持装置であって、前記ガス流路は、前記第１表面側に開口したガス流出口を含み、前記ガス流出口から前記第２表面側に延びつつ、前記多孔質体が充填される縦流路部と、前記縦流路部と接続し、前記第１表面に対して平行に延びた横流路部とを有し、前記多孔質体は、前記第２表面側に配される前記多孔質体の端面と、前記端面と対向する前記縦流路部の底面との間に空間が形成されるように前記縦流路部に充填され、前記底面と前記端面との間に介在され、前記多孔質体を支える支柱部を備える保持装置。
【０００９】
＜２＞前記支柱部は、前記板状部材の一部からなり、かつ前記板状部材の内部に形成された前記縦流路部の前記底面から前記端面に向かって凸状に盛り上がった形をなす前記＜１＞に記載の保持装置。
【００１０】
＜３＞前記底面と前記端面との間において、前記支柱部の周りを囲むように前記空間が形成される前記＜１＞又は＜２＞に記載の保持装置。
（【００１１】以降は省略されています）

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