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公開番号2024161225
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-15
出願番号2024152531,2020128331
出願日2024-09-04,2020-07-29
発明の名称画像処理方法及び画像処理装置
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人谷・阿部特許事務所
主分類B41J 2/01 20060101AFI20241108BHJP(印刷;線画機;タイプライター;スタンプ)
要約【課題】記録位置ずれに耐性のある高画質な画像を記録する。
【解決手段】画像処理装置1は、第1ドットパターン101と第2ドットパターン102とを記録媒体に重ねて記録するための量子化データを生成する。第1ドットパターン101と第2ドットパターン102は、2つの基底ベクトルの組み合わせが互いに異なる格子パターンである。これらを合成した合成ドットパターン100には、重畳ドット104と、第1ドットパターン101のドットと第2ドットパターン102のドットが格子間距離よりも小さな距離を置いて配置される近接ドット105が存在する。近接ドット105には、近接方向が異なる複数の前記近接ドットが含まれる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
第１ドットパターンと第２ドットパターンとを記録媒体に重ねて記録することにより前記記録媒体で所定の階調値を表現するために、前記第１ドットパターンを記録ヘッドに記録させるためのデータと、前記第２ドットパターンを前記記録ヘッドに記録させるためのデータとを、前記所定の階調値に対応する階調データに基づいて生成する画像処理方法であって、
前記第１ドットパターンと前記第２ドットパターンのそれぞれは、任意のドットの位置から他のドットの位置を２つの基底ベクトルで指定でき、且つ前記２つの基底ベクトルの組み合わせが互いに異なる格子パターンであり、
前記第１ドットパターンに含まれる任意のドットと前記第２ドットパターンに含まれる任意のドットを重畳することによって形成される合成ドットパターンには、前記第１ドットパターンに含まれるドットと前記第２ドットパターンに含まれるドットが重畳して構成される重畳ドットと、前記第１ドットパターンに含まれるドットと前記第２ドットパターンに含まれるドットが前記基底ベクトルで定義される格子間距離よりも小さな距離を置いて配置される近接ドットと、が存在し、
前記近接ドットには、該近接ドットを構成する前記第１ドットパターンのドットの中心と前記第２ドットパターンのドットの中心とを結ぶ直線の傾きが、互いに異なる複数の前記近接ドットが含まれることを特徴とする画像処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像処理方法及び画像処理装置に関する。
続きを表示（約 2,700 文字）【背景技術】
【０００２】
記録ヘッドと記録媒体との相対移動によって画像を記録する記録装置においては、上記相対移動に伴う記録位置ずれに起因して画像の粒状性や濃度ムラが目立ってしまうことがある。例えば、シリアル型のインクジェット記録装置でマルチパス記録を行った場合、任意の記録走査で記録位置ずれが発生すると、異なる記録走査で記録したドット群の相対的なずれがドットの分散性に影響を与え、粒状感や濃度ムラとして感知される場合がある。
【０００３】
特許文献１には、マルチパス記録において、一方の走査で記録されるドットと他方の走査で記録されるドットが走査方向に隣接する頻度を制御することにより、走査間の記録位置ずれに伴う濃度ムラを抑制する方法が開示されている。
【０００４】
また特許文献２には、第１の記録走査と第２の記録走査の間で記録位置ずれが発生しても、記録媒体上におけるドットの被覆率を安定させるような、第１の記録走査と第２の記録走査のそれぞれのための閾値マトリクスとを作成する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１７－３５８８６号公報
特開２０１４－１１３８１９号公報
米国特許第６８６７８８４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１の構成では、一方の走査で記録したドットと他方の走査で記録したドットが、記録ヘッドの走査方向にずれる場合は有効であるものの、副走査方向にずれる場合は、その効果は得られなかった。また特許文献２の構成では、濃度ムラと粒状性の変化を抑えることはできるものの、元々画像に存在する粒状性についての課題は残されていた。
【０００７】
本発明は上記問題点を解消するためのものである。よって、その目的とするところは、記録ヘッドと記録媒体との相対移動に伴う記録位置ずれが発生した場合であっても、粒状感や濃度ムラを目立たせることなく、高画質な画像を記録することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そのために本発明は、第１ドットパターンと第２ドットパターンとを記録媒体に重ねて記録することにより前記記録媒体で所定の階調値を表現するために、前記第１ドットパターンを記録ヘッドに記録させるためのデータと、前記第２ドットパターンを前記記録ヘッドに記録させるためのデータとを、前記所定の階調値に対応する階調データに基づいて生成する画像処理方法であって、前記第１ドットパターンと前記第２ドットパターンのそれぞれは、任意のドットの位置から他のドットの位置を２つの基底ベクトルで指定でき、且つ前記２つの基底ベクトルの組み合わせが互いに異なる格子パターンであり、前記第１ドットパターンに含まれる任意のドットと前記第２ドットパターンに含まれる任意のドットを重畳することによって形成される合成ドットパターンには、前記第１ドットパターンに含まれるドットと前記第２ドットパターンに含まれるドットが重畳して構成される重畳ドットと、前記第１ドットパターンに含まれるドットと前記第２ドットパターンに含まれるドットが前記基底ベクトルで定義される格子間距離よりも小さな距離を置いて配置される近接ドットと、が存在し、前記近接ドットには、該近接ドットを構成する前記第１ドットパターンのドットの中心と前記第２ドットパターンのドットの中心とを結ぶ直線の傾きが、互いに異なる複数の前記近接ドットが含まれることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、記録ヘッドと記録媒体との相対移動に伴う記録位置ずれが発生した場合であっても、粒状感や濃度ムラを目立たせることなく、高画質な画像を記録することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
ロバストパターンの一例を示す図。
第１、第２ドットパターンをずらした状態を示す図。
ずれと並進対称ドットパターンの再現を説明する図。
並進対称ドットパターン再現周期内のずれ状態を示す図。
被覆率変動を説明する図。
重畳ドットの分離に伴う被覆面積の変化を示す図。
重畳ドットの分離と近接ドットの重畳を並行して示す図。
ロバストパターンを実現する第２の条件の反例を説明する図。
ロバストパターンを実現する第２の条件の反例を説明する図。
ロバストパターンを実現する第３の条件の反例を説明する図。
記録装置の構成を説明するための図。
記録ヘッドを説明する図。
記録システムの構成を示すブロック図。
第１実施形態における画像処理のフローチャート。
双方向のマルチパス記録の説明図。
量子化処理を実現するための機能ブロック図。
閾値マトリクスの一例を示す図。
異なる階調値に対応する量子化処理を行った結果を示す図。
量子化処理の結果に従うドットパターンを示す図。
第２実施形態における量子化処理を行った結果を示す図。
第２実施形態における量子化処理の結果に従うドットパターンを示す図。
第３実施形態で用いる記録ヘッドの概略図。
第３実施形態における画像処理のフローチャート。
ドット配置パターンと基準インデックスパターンを示す図。
時分割駆動法を説明するための図。
第３実施形態における駆動制御を説明するための図。
往復走査における駆動タイミングのずらしを説明するための図。
ラスタグループのカラムずらしを説明する図。
第３実施形態で実現される格子パターンを示す図。
インデックスパターンと２値データを示す図。
インデックスパターンの作成方法を示す図。
第３実施形態で用いる閾値マトリクスを示す図。
第３実施形態で実現されるロバストパターンを示す図。
低階調領域で使用する閾値マトリクスを示す図。
低階調領域で形成されるドットパターンを示す図。
第４実施形態における画像処理のフローチャート。
第４実施形態のドット配置パターンとインデックスパターンを示す図。
マスク処理で使用するマスクパターンを示す図。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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