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公開番号2024160411
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-13
出願番号2024146524,2020218355
出願日2024-08-28,2020-12-28
発明の名称基板洗浄装置、基板の洗浄方法
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20241106BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】超音波洗浄による基板への負荷を軽減しつつ基板に付着した異物を効率よく除去できる基板洗浄装置、基板の洗浄方法の提供。
【解決手段】基板洗浄装置31は、基板Wを回転させる回転機構60と、基板Wの表面W1に、超音波振動が印加された洗浄液を吐出する洗浄液供給ノズル70と、洗浄液供給ノズル70を、基板Wの回転中心Cの近傍から基板Wの外周端W3に向かって、基板Wの半面D1より狭い範囲で揺動させる揺動機構80と、を備える。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
基板を回転させる回転機構と、
前記基板の表面に、超音波振動が印加された洗浄液を吐出する洗浄液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルを、前記基板の回転中心の近傍から前記基板の外周端に向かって、前記基板の半面より狭い範囲で揺動させる揺動機構と、を備える、ことを特徴とする基板洗浄装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
基板を回転させる回転機構と、
前記基板の表面に、超音波振動が印加された洗浄液を吐出する洗浄液供給ノズルと、前記基板の回転中心を通る位置で、前記基板の表面に接触して回転することで、前記基板を洗浄するロール洗浄部材と、
前記ロール洗浄部材が前記基板を洗浄中に、前記洗浄液供給ノズルを、前記基板の半面より狭い範囲で揺動させる揺動機構と、を備える、ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄液供給ノズルは、前記基板の回転中心から離れる方向に前記洗浄液を吐出する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄液は、アルカリ性水溶液、または、アニオン系の界面活性剤である、ことを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄液供給ノズルの揺動範囲から離れた位置に設置され、前記基板の表面に洗浄液を吐出する第２の洗浄液供給ノズルを備える、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記揺動機構は、前記基板の回転中心の近傍、及び／または、前記基板の外周端において、前記洗浄液供給ノズルの揺動を減速、及び／または、一時停止させる、ことを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記基板の回転中心の近傍において前記洗浄液供給ノズルを前記基板の回転中心に向かって傾動させ、及び／または、前記基板の外周端の近傍において前記洗浄液供給ノズルを前記基板の外周端に向かって傾動させる傾動機構を備える、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
基板を回転させ、
前記基板の表面に、洗浄液供給ノズルから超音波振動が印加された洗浄液を吐出させ、前記洗浄液供給ノズルを、前記基板の回転中心の近傍から前記基板の外周端に向かって、前記基板の半面より狭い範囲で揺動させる、ことを特徴とする基板の洗浄方法。
【請求項９】
基板を回転させ、
前記基板の表面に、洗浄液供給ノズルから超音波振動が印加された洗浄液を吐出させ、前記基板の回転中心を通る位置に配置したロール洗浄部材を、前記基板の表面に接触させて回転させることで、前記基板を洗浄し、
前記ロール洗浄部材が前記基板を洗浄中に、前記洗浄液供給ノズルを、前記基板の半面より狭い範囲で揺動させる、ことを特徴とする基板の洗浄方法。
【請求項１０】
前記洗浄液供給ノズルから前記基板の回転中心から離れる方向に前記洗浄液を吐出させる、ことを特徴とする請求項８または９に記載の基板の洗浄方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置、基板の洗浄方法に関するものである。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１には、基板の表面に、洗浄液供給ノズルから超音波振動を印加された洗浄液を吐出する基板洗浄装置が開示されている。洗浄液供給ノズルは、超音波振動子と一体的に形成されると共に、そのノズル先端が、基板の外周端から該基板の半径方向外側に所定の距離だけ離間して配置されている。洗浄液供給ノズルは、基板の厚みよりもノズル直径が大きく、基板の表裏両面を同時洗浄することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第４４８１３９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような超音波洗浄では、その洗浄原理の一部を構成しているキャビテーションが、基板へのピット（微細な穴欠陥）を発生させる例があることが知られている。従来では、キャビテーションが発生し基板へのピットを発生させても実質的に半導体基板製品の性能や歩留まりへの悪影響が無かったが、昨今の微細化された配線寸法の半導体基板製品に対しては、その微細化された配線寸法の構造に対し相対的に大きなピットとなることで、半導体基板製品の性能や歩留まりへの悪影響が懸念される例が出てきている。
【０００５】
また、昨今の微細化された配線寸法の半導体基板製品に対して、その微細化された配線寸法に応じた欠陥検査装置で検査をすると、基板端縁には成膜やエッチング時の残渣が非常に不安定な状態で付着しており、これらの異物が、基板端縁から基板の中心に向かう超音波洗浄の洗浄液の流れによって、基板表面に再付着し残留して、最終的な表面欠陥として検出される例があることが判ってきた。
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、超音波洗浄による基板への負荷を軽減しつつ基板に付着した異物を効率よく除去できる基板洗浄装置、基板の洗浄方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係る基板洗浄装置は、基板を回転させる回転機構と、前記基板の表面に、超音波振動が印加された洗浄液を吐出する洗浄液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルを、前記基板の回転中心の近傍から前記基板の外周端に向かって、前記基板の半面より狭い範囲で揺動させる揺動機構と、を備える。
【０００８】
また、本発明の一態様に係る基板洗浄装置は、基板を回転させる回転機構と、前記基板の表面に、超音波振動が印加された洗浄液を吐出する洗浄液供給ノズルと、前記基板の回転中心を通る位置で、前記基板の表面に接触して回転することで、前記基板を洗浄するロール洗浄部材と、前記ロール洗浄部材が前記基板を洗浄中に、前記洗浄液供給ノズルを、前記基板の半面より狭い範囲で揺動させる揺動機構と、を備える。
【０００９】
上記基板洗浄装置においては、前記洗浄液供給ノズルは、前記基板の回転中心から離れる方向に前記洗浄液を吐出してもよい。
【００１０】
上記基板洗浄装置においては、前記洗浄液は、アルカリ性水溶液、または、アニオン系の界面活性剤であってもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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