特許ウォッチ

公開番号2024135730
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023046565
出願日2023-03-23
発明の名称硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液
出願人東京応化工業株式会社
代理人個人,個人
主分類G03F 7/42 20060101AFI20240927BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】金属へのダメージを抑制しつつ、(メタ)アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる硬化物層を基板から剥離可能な、硬化膜の剥離方法と、前述の方法により硬化物層が剥離された基板上にインプリント法によってパターン化された硬化物層を備える基板の製造方法と、前述の方法において好ましく使用され得る剥離液とを提供すること。
【解決手段】基板上に形成された、(メタ)アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる硬化物層を酸含有洗浄液と接触させた後に、基板上の硬化物層を、無機塩基化合物(A)と、水溶性アルカノールアミン(B)と、溶剤(S)を含む剥離液と接触させることにより、基板上に形成された硬化物層を剥離する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
基板上に形成された硬化物層を、前記基板から剥離する剥離方法であって、
前記剥離方法が、
前記硬化物層を、酸含有洗浄液と接触させることと、
前記硬化物層を、剥離液と接触させることにより、前記基板から剥離させることと、を含み、
前記硬化物層は、（メタ）アクリル化合物を含有する感光性組成物の硬化物からなり、
前記剥離液が、無機塩基性化合物（Ａ）と、水溶性アルカノールアミン（Ｂ）と、溶剤（Ｓ）とを含み、
前記無機塩基性化合物（Ａ）が、メタケイ酸ナトリウム、及びリン酸ナトリウムを含む、剥離方法。
続きを表示（約 910 文字）【請求項２】
前記酸含有洗浄液が、有機スルホン酸化合物を含有する、請求項１に記載の剥離方法。
【請求項３】
前記基板が、その表面にアルミニウム含有層を備え、前記硬化物層が、前記アルミニウム含有層上に形成されている、請求項１又は２に記載の剥離方法。
【請求項４】
前記水溶性アルカノールアミン（Ｂ）が、トリアルカノールアミン、ジアルカノールアミン、及びＮ－アルキルモノアルカノールアミンから選択される１種以上である、請求項１又は２に記載の剥離方法。
【請求項５】
６０℃以上１００℃以下の温度において、１０分以上６０分以下、前記硬化物層と、前記剥離液とを接触させる、請求項１又は２に記載の剥離方法。
【請求項６】
前記硬化物層が、
前記基板上に、前記感光性組成物の塗布膜を形成することと、
前記塗布膜に、モールドを圧接させ、前記塗布膜に前記モールドの形状を転写することと、
前記モールドが圧接した状態で、前記塗布膜を露光して硬化させることにより、パターン化された硬化物層を形成することと、
前記モールドを、前記硬化物層から離すことと、
を含む方法により形成された硬化物層である、請求項１又は２に記載の剥離方法。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の方法により前記硬化物層が剥離された基板上に、（メタ）アクリル化合物を含有する感光性組成物の硬化物からなり、パターン化された硬化物層をインプリント法によって形成することを含む、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法。
【請求項８】
無機塩基性化合物（Ａ）と、水溶性アルカノールアミン（Ｂ）と、溶剤（Ｓ）とを含み、
前記無機塩基性化合物（Ａ）が、メタケイ酸ナトリウム、及びリン酸ナトリウムを含む、剥離液。
【請求項９】
前記水溶性アルカノールアミン（Ｂ）が、トリアルカノールアミン、ジアルカノールアミン、及びＮ－アルキルモノアルカノールアミンから選択される１種以上である、請求項８に記載の剥離液。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に形成された硬化物層を基板から剥離する剥離方法と、前述の方法により硬化物層が剥離された基板上にパターン化された硬化物層を形成する基板の製造方法と、剥離液と、に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
種々の基板を加工して、種々の素子を製造する際、基板上にレジスト膜に代表する有機膜が形成されることが多い。しかし、基板上に形成された有機膜に欠陥が発生することがしばしばある。この場合、基板を再利用する目的で、有機膜が基板から剥離される。典型的には、有機膜は、有機膜を剥離液に接触させることにより基板から剥離される。このような剥離液としては、例えば、ノボラック樹脂を含むポジ型レジスト組成物がベークされた有機膜の剥離に用いられる剥離液が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
国際公開第２０１８／０６１０６４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、種々の素子を製造する際に、基板上に、（メタ）アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる有機膜が形成されることも多い。このため、（メタ）アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる有機膜を基板上から良好に剥離できる剥離液が求められている。
また、製造される素子の種類に応じて、金属基板が使用されたり、その表面に金属膜や金属配線等を備える基板が使用される場合がある。この場合、有機膜を剥離液により基板から剥離することにより、金属にダメージが生じることがある。
以上より、金属へのダメージを抑制しつつ、（メタ）アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる有機膜を基板から剥離可能な方法が求められている。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、金属へのダメージを抑制しつつ、（メタ）アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる硬化物層を基板から剥離可能な、硬化膜の剥離方法と、前述の方法により硬化物層が剥離された基板上にインプリント法によってパターン化された硬化物層を備える基板の製造方法と、前述の方法において好ましく使用され得る剥離液とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、基板上に形成された、（メタ）アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる硬化物層を酸含有洗浄液と接触させた後に、基板上の硬化物層を、無機塩基化合物（Ａ）と、水溶性アルカノールアミン（Ｂ）と、溶剤（Ｓ）を含む剥離液と接触させることにより、基板上に形成された硬化物層を剥離することにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明の第１の態様は、基板上に形成された硬化物層を、基板から剥離する剥離方法であって、
剥離方法が、硬化物層を、酸含有洗浄液と接触させることと、
酸含有洗浄液と接触した硬化物層を、剥離液と接触させることにより、基板から剥離させることと、を含み、
硬化物層は、（メタ）アクリル化合物を含有する感光性組成物の硬化物からなり、
剥離液が、無機塩基性化合物（Ａ）と、水溶性アルカノールアミン（Ｂ）と、溶剤（Ｓ）とを含み、
無機塩基性化合物（Ａ）が、メタケイ酸ナトリウム、及びリン酸ナトリウムを含む、剥離方法である。
【０００８】
本発明の第２の態様は、第１の態様にかかる方法により硬化物層が剥離された基板上に、（メタ）アクリル化合物を含有する感光性組成物の硬化物からなり、パターン化された硬化物層をインプリント法によって形成する、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法である。
【０００９】
本発明の第３の態様は、無機塩基性化合物（Ａ）と、水溶性アルカノールアミン（Ｂ）と、溶剤（Ｓ）とを含み、
無機塩基性化合物（Ａ）が、メタケイ酸ナトリウム、及びリン酸ナトリウムを含む、剥離液である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、金属へのダメージを抑制しつつ、（メタ）アクリル化合物を含む感光性組成物の硬化物からなる硬化物層を基板から剥離可能な、硬化膜の剥離方法と、前述の剥離方法により無機塩基化合物（Ａ）と、水溶性アルカノールアミン（Ｂ）と、溶剤（Ｓ）とを含む剥離液と、酸含有洗浄液とを用いて、基板上に形成された硬化物層を剥離する剥離方法と、硬化物層が剥離された基板上にインプリント法によってパターン化された硬化物層を備える基板の製造方法と、剥離液とを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許