TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024132023
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-30
出願番号2023042643
出願日2023-03-17
発明の名称紫外線処理装置
出願人東芝ライテック株式会社
代理人個人,個人
主分類B01J 19/12 20060101AFI20240920BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】紫外線光源の種類に関する選択肢の幅の拡大と、処理能力の向上とを図ることができる紫外線処理装置を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る紫外線処理装置は、箱状を呈する筐体と;前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の内部にある処理物に、紫外線を照射する光源と;前記筐体の内部にオゾンを供給するオゾン供給部と;を具備している。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
箱状を呈する筐体と;
前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の内部にある処理物に、紫外線を照射する光源と;
前記筐体の内部にオゾンを供給するオゾン供給部と;
を具備した紫外線処理装置。
続きを表示(約 300 文字)【請求項2】
前記オゾン供給部は、前記筐体が設けられる雰囲気に含まれている酸素を用いて、前記オゾンを生成する請求項1記載の紫外線処理装置。
【請求項3】
前記筐体の内部に供給される前記オゾンの濃度は、50ppm以上、500ppm以下である請求項1または2に記載の紫外線処理装置。
【請求項4】
前記光源は、波長が320nm以下の前記紫外線を照射する請求項1または2に記載の紫外線処理装置。
【請求項5】
前記光源は、前記紫外線を照射する放電ランプ、および前記紫外線を照射する発光素子の少なくともいずれかを有する請求項1または2に記載の紫外線処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、紫外線処理装置に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)【背景技術】
【0002】
紫外線を処理物に照射して、処理物の表面に付着している、有機物を含む異物を除去する紫外線処理装置がある。紫外線には、有機物の結合を解離させる作用と、雰囲気(空気)に含まれている酸素から活性酸素原子である一重項酸素原子を生成する作用と、がある。有機物の結合が解離し、且つ、一重項酸素原子が生成されると、有機物の解離された原子と、一重項酸素原子とを結合させることができるので、処理物の表面に付着してる異物を効率良く除去することができる。
【0003】
この様なドライ処理には、有機溶剤などを用いたウェット処理に比べて、処理物の表面に与える影響が少ないこと、処理物の表面に有機溶剤など残留物が残らないこと、作業効率が高いこと、環境負荷が小さいことなどの利点がある。そのため、紫外線処理装置は、例えば、半導体装置、フラットパネルディスプレイ、レンズなどの光学部品のドライ処理に用いられている。
【0004】
ここで、紫外線の波長が242nm以上の場合には、雰囲気(空気)に含まれている酸素に紫外線を照射しても一重項酸素原子を直接生成することができない。そのため、紫外線処理装置には、波長が242nm未満の紫外線を照射する光源が用いられている。
しかしながら、波長が242nm以上の紫外線を照射する光源を用いることができないと、使用できる光源が限られるので、紫外線処理装置の低価格化などを図るのが困難となる。
また、近年においては、一重項酸素原子の生成効率を高めることで、処理能力の向上を図ることが望まれている。
【0005】
そこで、紫外線光源の種類に関する選択肢の幅の拡大と、処理能力の向上とを図ることができる紫外線処理装置の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開平11-116281号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明が解決しようとする課題は、紫外線光源の種類に関する選択肢の幅の拡大と、処理能力の向上とを図ることができる紫外線処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
実施形態に係る紫外線処理装置は、箱状を呈する筐体と;前記筐体の内部に設けられ、前記筐体の内部にある処理物に、紫外線を照射する光源と;前記筐体の内部にオゾンを供給するオゾン供給部と;を具備している。
【発明の効果】
【0009】
本発明の実施形態によれば、紫外線光源の種類に関する選択肢の幅の拡大と、処理能力の向上とを図ることができる紫外線処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
本実施の形態に係る紫外線処理装置を例示するための模式図である。
他の実施形態に係る処理装置を例示するための模式図である。
オゾン供給部の効果を例示するための表である。
オゾン供給部の効果を例示するためのグラフである。
接触角と、紫外線の照射光量との関係を例示するための表である。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

TLC株式会社
脱泡装置
1か月前
東ソー株式会社
ろ過フィルター
17日前
サンノプコ株式会社
消泡剤
今日
株式会社サタケ
バグフィルタ装置
1か月前
三菱ケミカル株式会社
触媒の製造方法
1か月前
個人
油フィルタおよび油ろ過装置
18日前
東レ株式会社
分離膜エレメントブロック
3日前
東ソー株式会社
二酸化炭素分離用組成物
25日前
三洋化成工業株式会社
二酸化炭素濃縮装置
6日前
株式会社フクハラ
圧縮空気除湿装置
27日前
トヨタ自動車株式会社
DACシステム
11日前
ヤマシンフィルタ株式会社
フィルタ装置
27日前
国立大学法人広島大学
分離膜の製造方法
10日前
アイリスオーヤマ株式会社
除湿装置
10日前
静岡SDGs株式会社
濾過装置
1か月前
東レ株式会社
リチウム6回収装置および回収方法
1か月前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
18日前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
18日前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
18日前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
18日前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
18日前
株式会社キャタラー
排ガス浄化用触媒
今日
トヨタ紡織株式会社
フィルタエレメント
1か月前
東芝ライテック株式会社
紫外線処理装置
今日
株式会社カジワラ
攪拌装置及び洗浄方法
25日前
株式会社前川製作所
油分離器
今日
東ソー株式会社
金属含有ゼオライトおよびそれを含む触媒
17日前
株式会社日本触媒
吸水性樹脂組成物、およびその製造方法
21日前
セイコーエプソン株式会社
光触媒装置
28日前
東芝ライテック株式会社
流体処理装置
10日前
セイコーエプソン株式会社
流体デバイス
1か月前
ヤマシンフィルタ株式会社
フィルタ装置及び濾過装置
6日前
エステー株式会社
抽出装置
今日
東レ株式会社
オレフィン製造方法およびオレフィン製造装置
24日前
株式会社日本製鋼所
反応装置および反応生成物製造方法
今日
兵庫県公立大学法人
酸素還元触媒
17日前
続きを見る