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公開番号
2024129960
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-09-30
出願番号
2023039393
出願日
2023-03-14
発明の名称
電気光学装置、および電子機器
出願人
セイコーエプソン株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
G09F
9/30 20060101AFI20240920BHJP(教育;暗号方法;表示;広告;シール)
要約
【課題】品質信頼性の低下が抑制された電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置は、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層とを備え、前記第1基板は、トランジスターと、前記トランジスターに対応して設けられる画素電極と、前記トランジスターと前記画素電極との間の層に配置される中継電極と、前記中継電極と前記画素電極との間の層に設けられ、前記中継電極と前記画素電極とを電気的に接続するコンタクトプラグと、前記中継電極と前記画素電極との間の層に配置される第1反射層と、を備える。
【選択図】図6
特許請求の範囲
【請求項1】
第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層とを備え、
前記第1基板は、トランジスターと、
前記トランジスターに対応して設けられる画素電極と、
前記トランジスターと前記画素電極との間の層に配置される中継電極と、
前記中継電極と前記画素電極との間の層に設けられ、前記中継電極と前記画素電極とを電気的に接続するコンタクトプラグと、
前記中継電極と前記画素電極との間の層に配置される第1反射層と、
を備える、
ことを特徴とする電気光学装置。
続きを表示(約 760 文字)
【請求項2】
前記第1反射層は、前記トランジスターが設けられる遮光領域に沿って配置される、
請求項1に記載の電気光学装置。
【請求項3】
前記コンタクトプラグは、平面視で前記第1反射層と異なる位置に設けられる、
請求項1に記載の電気光学装置。
【請求項4】
前記第1反射層は、アルミニウムを含む、
請求項1に記載の電気光学装置。
【請求項5】
前記コンタクトプラグは、タングステンを含む、
請求項1に記載の電気光学装置。
【請求項6】
前記中継電極は、窒化チタン、タングステン、またはタングステンシリサイドを含む、
請求項1に記載の電気光学装置。
【請求項7】
前記画素電極が配置される表示領域と、前記表示領域の外側に位置する周辺領域とが設けられており、
前記第1基板は、前記周辺領域に設けられ、前記第1反射層と同層に設けられる第2反射層を、さらに有する、
請求項1に記載の電気光学装置。
【請求項8】
前記第1基板は、前記周辺領域に設けられ、前記トランジスターと前記第2反射層との間の層に配置される第1遮光層を、さらに備える、
請求項7に記載の電気光学装置。
【請求項9】
前記第2基板は、前記周辺領域に設けられる第3反射層と、前記周辺領域に設けられる第2遮光層とを含み、
前記第2遮光層は、前記第3反射層よりも前記表示領域側に配置される、
請求項8に記載の電気光学装置。
【請求項10】
請求項1に記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置の動作を制御する制御部と、を有することを特徴とする電子機器。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、電気光学装置、および電子機器に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)
【背景技術】
【0002】
プロジェクター等の電子機器には、例えば、画素ごとに光学的特性を変更可能な液晶表示装置等の電気光学装置が用いられる。当該電気光学装置の例として、特許文献1に記載の電気光学装置が知られている。
【0003】
当該文献の電気光学装置は、2枚の基板間に液晶を封入して構成される。一方の基板には、トランジスターと、中継電極と、画素電極とを含む。中継電極は、コンタクトホールを介して、トランジスターに接続される電極と画素電極とに電気的に接続される。
【0004】
また、中継電極は、第1導体層と、電蝕防止膜とを有する。第1導体層は、アルミニウムを含み、電蝕防止層は、窒化チタンを含む。また、画素電極は、ITO(Indium Tin Oxide)を含む。画素電極のITOと、第1導体層のアルミニウムとがコンタクトホールを介して接続されると、アルミニウムに電蝕が生じるおそれがある。このため、当該文献では、電蝕防止層を設けることで、当該電蝕を防止している。
【0005】
また、第1導体層は、遮光層としての機能を有する。当該文献では、第1導体層の全領域が電蝕防止層で覆われることで第1導体層の遮光層の機能が失われないよう、電蝕防止層は第1導体層に部分的に設けられている。具体的には、電蝕防止層は、第1導体層とコンタクトホールとの間に部分的に設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2005-242296号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかし、中継電極がコンタクトホールを介して画素電極と電気的にされていると、コンタクトホールの開口面積分、電蝕防止膜の平面積が大きくなる。このため、第1導体層のうち電蝕防止膜が設けられていない領域の平面積が小さくなってしまう。この結果、第1導体層の遮光層の機能が低下してしまう。よって、電気光学装置の品質信頼性が低下するおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の電気光学装置の一態様は、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層とを備え、前記第1基板は、トランジスターと、前記トランジスターに対応して設けられる画素電極と、前記トランジスターと前記画素電極との間の層に配置される中継電極と、前記中継電極と前記画素電極との間の層に設けられ、前記中継電極と前記画素電極とを電気的に接続するコンタクトプラグと、前記中継電極と前記画素電極との間の層に配置される第1反射層と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【0009】
実施形態に係る電気光学装置の平面図である。
図1に示す電気光学装置のA-A線の断面図である。
図1の第1基板の電気的な構成を示す等価回路図である。
図2の画素電極およびトランジスターの平面的な配置を示す図である。
図2の第1基板の表示領域における断面構造を示す図である。
図5の第1反射層の平面図である。
図2の電気光学装置の周辺領域における断面構造を示す図である。
図7に示す第1遮光層および第2反射層の平面的な配置を示す図である。
図7に示す第3反射層および第2遮光層の平面的な配置を示す図である。
図7の電気光学装置の周辺領域における光路を説明するための図である。
変形例の電気光学装置の周辺領域における断面構造を示す図である。
電子機器の一例であるパーソナルコンピューターを示す斜視図である。
電子機器の一例であるスマートフォンを示す平面図である。
電子機器の一例であるプロジェクターを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態を説明する。なお、図面において各部の寸法または縮尺は実際と適宜に異なり、理解を容易にするために模式的に示す部分もある。また、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られない。
(【0011】以降は省略されています)
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