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公開番号2024122540
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-09
出願番号2023030132
出願日2023-02-28
発明の名称情報処理装置およびプログラム
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20240902BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】サンプルショット領域の決定処理に関わるパラメータの調整の効果を容易に確認するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】情報処理装置は、複数の項で構成される第1回帰モデルを用いて、基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定する処理部と、前記処理部で決定された前記複数のサンプルショット領域の情報がユーザインタフェース画面に表示されるように表示制御を行う表示制御部と、を有する。前記処理部は、前記複数の項のうちの一部の項で構成される第2回帰モデルを用いて複数のサンプルショット領域を再決定し、前記表示制御部は、前記処理部で再決定された前記複数のサンプルショット領域の情報が前記ユーザインタフェース画面に表示されるよう前記ユーザインタフェース画面の表示を更新する。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
複数の項で構成される第１回帰モデルを用いて、基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定する処理部と、
前記処理部で決定された前記複数のサンプルショット領域の情報がユーザインタフェース画面に表示されるように表示制御を行う表示制御部と、を有し、
前記処理部は、前記複数の項のうちの一部の項で構成される第２回帰モデルを用いて複数のサンプルショット領域を再決定し、
前記表示制御部は、前記処理部で再決定された前記複数のサンプルショット領域の情報が前記ユーザインタフェース画面に表示されるよう前記ユーザインタフェース画面の表示を更新する、
ことを特徴とする情報処理装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記ユーザインタフェース画面は、ユーザ指定により前記複数の項から前記一部の項を選択するための選択画面を含み、
前記第２回帰モデルは、前記選択画面を介して選択された前記一部の項で構成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記選択画面は、前記複数の項のそれぞれの選択を指定するためのチェックボックスを含む、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記処理部は、前記選択画面を介して前記一部の項が変更されたことに応じて、前記変更された一部の項で構成される前記第２回帰モデルを用いて複数のサンプルショット領域を再決定する、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記処理部は、ユーザによりサンプルショット領域の数が指定されたことに応じて、前記第２回帰モデルを用いて複数のサンプルショット領域を再決定する、ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記ユーザインタフェース画面は、ユーザがサンプルショット領域の数を指定する指定画面を含む、ことを特徴とする請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記複数のサンプルショット領域の前記情報は、前記複数のサンプルショット領域それぞれの前記基板における位置の情報を含み、
前記ユーザインタフェース画面は、前記複数のサンプルショット領域それぞれの前記基板における位置を表示する表示画面を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記複数のサンプルショット領域の前記情報は、前記複数のサンプルショット領域を用いて前記複数のショット領域の配列を補正したときの前記複数のショット領域それぞれの補正残差の情報を更に含み、
前記表示制御部は、前記表示画面において、前記複数のショット領域それぞれの補正残差の前記情報を表示する、
ことを特徴とする請求項７に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記表示制御部は、前記複数のショット領域それぞれの補正残差の前記情報をベクトル表示で表示する、ことを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記ユーザインタフェース画面は、前記選択画面を介して選択された前記一部の項で構成される前記第２回帰モデルを表す多項式を表示する表示画面を更に含む、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置およびプログラムに関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
露光装置は、原版のパターンを基板上の複数の層において重ね合わせて転写しうる。各層を高精度に重ね合わせるためには、基板の各ショット領域を原版に対して位置合わせ（アライメント）する必要がある。アライメントは、例えば、基板上の各ショット領域に対して配置されたアライメントマークを検出し、該検出により得られたアライメントマークの位置情報と原版のパターンの位置情報とに基づいて行われうる。
【０００３】
高精度なアライメントを実現するためには、基板上の全ショット領域に対してアライメントマークの検出を行うことが理想的である。しかし、それは生産性の観点からは現実的ではない。そこで一般には、基板上の全ショット領域と原版とのアライメントには、グローバルアライメント方式が採用される（特許文献１及び２参照）。
【０００４】
グローバルアライメント方式では、基板上の全ショット領域の相対位置がショット領域の位置座標の関数で表現できると想定する。その想定のもと、基板上の複数のショット領域のうちの一部のショット領域（サンプルショット領域）に対してのみ、アライメントマークの実測が行われる。次いで、想定した関数モデルおよび位置計測の結果から回帰分析的な統計演算処理を用いて、関数モデルのパラメータが推定される。そして、推定されたパラメータおよび関数モデルを用いて、ステージ座標系における各ショット領域の位置座標が算出され、位置合わせが行われる。グローバルアライメント方式では、一般的には、ステージ座標を変数とする多項式モデルが使用される。主には、ステージ座標の一次の多項式であるスケーリング、回転、一律オフセット等が用いられる（特許文献３参照）。
【０００５】
基板上のショット領域の配列の高次成分もパラメータとして考慮した回帰モデルを用いる方法も提案されている（特許文献４参照）。更に、事前に複数のサンプル点を計測し、そのデータと正則化項を持つ回帰モデルにより係数選別を行い、その選別された係数を用いてショット領域の位置情報を算出する方法も提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開昭６１－４４４２９号公報
特開昭６２－８４５１６号公報
特開平６－３４９７０５号公報
特許第３２３０２７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
少ないサンプルショット領域の数（サンプル点数）で高精度の補正を行うために、自由度の高いモデルを用いて基板の高次成分を高精度に（過学習をしない）予測する手法が検討されている。該手法は、例えば、複数の項で構成される第１回帰モデルから、当該複数の項のうちの一部の項で構成される第２回帰モデルを作成し、該第２回帰モデルを用いて複数のサンプルショット領域を決定することを含みうる。
【０００８】
しかし現状において、その効果を確認するためには、作成された第２回帰モデルについて予測によって決定されたパラメータを用いて実際に計測を行い重ね合わせ誤差を算出する必要がある。したがって、そのような実測をしなくても、予測前後のパラメータ比較やパラメータ調整を行った際の影響の予測等を簡易に行えることが望まれている。
【０００９】
本発明は、サンプルショット領域の決定処理に関わるパラメータの調整の効果を容易に確認するのに有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一側面によれば、複数の項で構成される第１回帰モデルを用いて、基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定する処理部と、前記処理部で決定された前記複数のサンプルショット領域の情報がユーザインタフェース画面に表示されるように表示制御を行う表示制御部と、を有し、前記処理部は、前記複数の項のうちの一部の項で構成される第２回帰モデルを用いて複数のサンプルショット領域を再決定し、前記表示制御部は、前記処理部で再決定された前記複数のサンプルショット領域の情報が前記ユーザインタフェース画面に表示されるよう前記ユーザインタフェース画面の表示を更新する、ことを特徴とする情報処理装置が提供される。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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