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公開番号2024119992
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-03
出願番号2024097408,2020555692
出願日2024-06-17,2019-11-11
発明の名称殺菌及び洗浄用組成物、その製造方法、及びそれを用いた殺菌及び洗浄方法
出願人三菱瓦斯化学株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C11D 3/39 20060101AFI20240827BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】安定性、殺菌性が向上され、さらにスケール除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物、また、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供する。さらに、前記組成物の製造方法及び前記組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法も提供する。
【解決手段】過酢酸を0.001～30質量%、過酸化水素を0.001～30質量%、酢酸及び/又はその塩を1～70質量%、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を0.001～5質量%、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物であって、前記組成物のpHが、4.0～10.0である、殺菌及び洗浄用組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
過酢酸を０．００１～３０質量％、過酸化水素を０．００１～３０質量％、酢酸及び／又はその塩を１～７０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１～５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物であって、
前記殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を０．０００１～５質量％含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記リン酸系安定剤が、ピロリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩、ニトリロトリスメチレンホスホン酸又はその塩、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸又はその塩、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸又はその塩からなる群より選択され、好ましくは１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である、請求項２又は３に記載の組成物。
【請求項５】
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩、ピコリン酸又はその塩、ジピコリン酸又はその塩、ニトリロ三酢酸又はその塩、Ｎ－（２-ヒドロキシエチル）エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ”－三酢酸又はその塩、トリエチレンテトラミン－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’，Ｎ”’－六酢酸又はその塩、１，３-プロパンジアミン－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－四酢酸、１，３－ジアミノ－２－プロパノール－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－四酢酸、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）イミノ二酢酸又はその塩、Ｎ，Ｎ－ジ（２－ヒドロキシエチル）グリシン又はその塩、グリコールエーテルジアミン四酢酸、及び（Ｓ，Ｓ）－エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’－二コハク酸又はその塩のいずれかを含み、好ましくはエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、請求項２又は３のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物と、
追加の水
とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
【請求項７】
過酢酸を０．００１～１．５質量％、過酸化水素を０．００１～２．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１～０．１質量％含み、
前記希釈組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、請求項６に記載の希釈組成物。
【請求項８】
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
【請求項９】
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
【請求項１０】
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）アルカリ
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に医療用器具の殺菌・洗浄に適する殺菌及び洗浄用組成物に関する。
続きを表示（約 2,500 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、過酸水溶液は広く医療用器具の殺菌・洗浄に使われている（特許文献１～４）。
しかしながら、従来の過酸水溶液は、安定性、殺菌性、スケール除去能の点で必ずしも満足のいくものではない。
【０００３】
また、従来、医療機器の殺菌・洗浄には、酸性やアルカリ性の薬品が使用されており、過酸水溶液もその１つである。しかしながら、酸性やアルカリ性の薬品が使用されるために、その廃液が下水排除基準を満たさないまま排水されて、コンクリート製の下水道管が損傷している例が後を絶たない。下水道管の損傷は、下水への排水ができなくなると共に、道路陥没を引き起こす可能性もあり、早急な対応が必要である。このような背景のもと、東京都下水道局は、２０１９年１月に、透析排水と下水道管についての注意喚起を発表した。東京都下水道局では、排水についての下水排除基準を水素イオン濃度（ｐＨ）が５を超え９未満の範囲内に収めることを求めている。
【０００４】
医療機器の殺菌・洗浄に用いる殺菌及び洗浄用過酢酸組成物としては、酸性の過酢酸水溶液（特許文献５）、アルミニウム腐食抑制性の酸性酸化剤含有組成物（特許文献６）、アルカリ性の殺菌洗浄用製剤（特許文献７）などが知られている。しかしながら、これらの組成物は、必ずしも排水についての下水排除基準を満たすものとは言えない。よって、依然として、配水管を傷めない洗浄剤に対するニーズも存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特表2007-507599号公報
特表2013-505929号公報
特開2015-40209号公報
特開2016-17056号公報
特開2010-184868号公報
ＷＯ2010/095231号公報
特表2016-532634号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
安定性、殺菌性が向上され、さらにスケール除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物が求められている。また、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物に対するニーズも存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、過酢酸へ特殊なアニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸）を添加することにより、従来の過酢酸水溶液より安定性、殺菌性を向上することができ、さらにスケール除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることを見出した。また、本発明者らは、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることも見出した。
【０００８】
すなわち、本発明は、下記の実施形態を含む。
【０００９】
＜１＞
過酢酸を０．００１～３０質量％、過酸化水素を０．００１～３０質量％、酢酸及び／又はその塩を１～７０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１～５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物であって、
前記組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
＜２＞
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤をさらに含む、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞
前記リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を０．０００１～５質量％含む、＜２＞に記載の組成物。
＜４＞
前記リン酸系安定剤が、ピロリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩、ニトリロトリスメチレンホスホン酸又はその塩、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸又はその塩、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸又はその塩からなる群より選択され、好ましくは１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である、＜２＞又は＜３＞に記載の組成物。
＜５＞
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩、ピコリン酸又はその塩、ジピコリン酸又はその塩、ニトリロ三酢酸又はその塩、Ｎ－（２-ヒドロキシエチル）エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ”－三酢酸又はその塩、トリエチレンテトラミン－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’，Ｎ”’－六酢酸又はその塩、１，３-プロパンジアミン－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－四酢酸、１，３－ジアミノ－２－プロパノール－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－四酢酸、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）イミノ二酢酸又はその塩、Ｎ，Ｎ－ジ（２－ヒドロキシエチル）グリシン又はその塩、グリコールエーテルジアミン四酢酸、及び（Ｓ，Ｓ）－エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’－二コハク酸又はその塩のいずれかを含み、好ましくはエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、＜２＞又は＜３＞のいずれかに記載の組成物。
【００１０】
＜６＞
＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の組成物と、
追加の水
とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜７＞
過酢酸を０．００１～１．５質量％、過酸化水素を０．００１～２．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１～０．１質量％含み、
前記希釈組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、＜６＞に記載の希釈組成物。
（【００１１】以降は省略されています）

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