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公開番号2025104615
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-10
出願番号2023222539
出願日2023-12-28
発明の名称撥水体、撥水部品及び撥水体の製造方法
出願人TOWA株式会社
代理人弁理士法人R&C
主分類B32B 3/30 20060101AFI20250703BHJP(積層体)
要約【課題】高い撥水性を有し、撥水部の剥離を抑制することができる耐久性の高い撥水体、撥水体を備える撥水部品及び撥水体の製造方法を提供する。
【解決手段】撥水体1は、凹凸構造30を有する基材(金属被膜3)と、凹凸構造30を覆う被膜4と、を備え、被膜4は、フッ素化合物を含む撥水部6と、基材(金属被膜3)に密着する密着部5と、を有し、密着部5は、シリカとイットリアとを含む混合物である。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
凹凸構造を有する基材と、
前記凹凸構造を覆う被膜と、を備え、
前記被膜は、フッ素化合物を含む撥水部と、前記基材に密着する密着部と、を有し、
前記密着部は、シリカとイットリアとを含む混合物である撥水体。
続きを表示(約 640 文字)【請求項2】
前記混合物は、イットリウム原子の一部が4A族元素の原子に置換されている請求項1に記載の撥水体。
【請求項3】
前記4A族元素の原子は、ジルコニウム原子である請求項2に記載の撥水体。
【請求項4】
前記凹凸構造は、クロムを含んでいる請求項1~3の何れか一項に記載の撥水体。
【請求項5】
前記基材は、可撓性を有する樹脂フィルムである請求項1~3の何れか一項に記載の撥水体。
【請求項6】
前記フッ素化合物は、ジフルオロメチル基を含む請求項1~5の何れか一項に記載の撥水体。
【請求項7】
請求項1~6の何れか一項に記載の撥水体と、
表面に前記撥水体が形成される被膜対象材と、を備える撥水部品。
【請求項8】
基材の表面に凹凸構造を形成する凹凸構造形成工程と、
前記凹凸構造の表面にシリカとイットリアとを含む混合物からなる密着部を形成する密着部形成工程と、
前記密着部の表面にフッ素化合物を含む撥水部を形成する撥水部形成工程と、を含む撥水体の製造方法。
【請求項9】
前記混合物は、イットリウム原子の一部が4A族元素の原子に置換されている請求項8に記載の撥水体の製造方法。
【請求項10】
前記4A族元素の原子は、ジルコニウム原子である請求項9に記載の撥水体の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、撥水体、撥水部品及び撥水体の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,000 文字)【背景技術】
【0002】
従来、物品の表面への水滴や粉塵等の付着を防止するため、物品の表面に撥水性を有する被膜を形成した撥水体が知られている(例えば、特許文献1)。このような撥水体は水との接触角が大きく、水滴等を容易に弾くことができるため、撥水性の必要とされる自動車のボディやカメラレンズ等に使用されている。
【0003】
特許文献1には、フッ素樹脂と、親水性シリカ粒子と、疎水性シリカ粒子とを含む被膜を基材に形成した撥水体が記載されている。フッ素樹脂及び親水性シリカ粒子は、基材と被膜とを接着させる役割を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
国際公開第2016/181676号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1の撥水体は、撥水性を有する被膜と基材との接着が弱いため、摩擦等により被膜が基材から剥離しやすく、撥水性を失いやすいという課題があった。
【0006】
そこで、高い撥水性を有し、被覆(撥水部)の剥離を抑制することができる耐久性の高い撥水体が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る撥水体の一つの実施形態は、凹凸構造を有する基材と、前記凹凸構造を覆う被膜と、を備え、前記被膜は、フッ素化合物を含む撥水部と、前記基材に密着する密着部と、を有し、前記密着部は、シリカとイットリアとを含む混合物である。
【0008】
本発明に係る撥水部品の一つの実施形態は、撥水体と、表面に前記撥水体が形成される被膜対象材と、を備える。
【0009】
本発明に係る撥水体の製造方法の一つの実施形態は、基材の表面に凹凸構造を形成する凹凸構造形成工程と、前記凹凸構造の表面にシリカとイットリアとを含む混合物からなる密着部を形成する密着部形成工程と、前記密着部の表面にフッ素化合物を含む撥水部を形成する撥水部形成工程と、を含む。
【発明の効果】
【0010】
本発明の実施形態によれば、高い撥水性を有し、撥水部の剥離を抑制することができる耐久性の高い撥水体、撥水体を備える撥水部品及び撥水体の製造方法を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

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