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公開番号2025056673
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-08
出願番号2023166285
出願日2023-09-27
発明の名称加熱装置及び磁気記録媒体の製造方法
出願人株式会社レゾナック・ハードディスク,ウシオ電機株式会社
代理人弁理士法人ITOH,個人,個人
主分類G11B 5/84 20060101AFI20250401BHJP(情報記憶)
要約【課題】中心部に孔が形成された円盤形状を有するワークの表面を高い生産性かつ高い均一性で加熱することができる加熱装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ワークに光を照射することにより、前記ワークを加熱する加熱装置であって、前記1対の主表面のうち少なくとも一方の主表面に対向し、前記ワークに前記光を照射する照射部を有し、前記照射部は、前記ワークの少なくとも一方の前記主表面に対向する面に複数の発光素子を備え、前記照射部の前記ワークに対向する面は、前記ワークの中心に対応する位置を含む第1領域と、前記第1領域を外から囲む第2領域と、及び前記第2領域を外から囲み前記ワークの外周に対応する位置を含む第3領域とを含み、前記第1領域における単位面積当たりの発光量、及び前記第2領域における単位面積当たりの発光量のそれぞれよりも、前記第3領域における単位面積当たりの発光量の方が多いことを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
中心部に孔が形成された円盤形状を有し、互いに対向する１対の主表面を有するワークに光を照射することにより、前記ワークを加熱する加熱装置であって、
前記１対の主表面のうち少なくとも一方の主表面に対向し、前記ワークに前記光を照射する照射部を有し、
前記照射部は、前記ワークの少なくとも一方の前記主表面に対向する面に複数の発光素子を備え、
前記照射部の前記ワークに対向する面は、前記ワークの中心に対応する位置を含む第１領域と、前記第１領域を外から囲む第２領域と、及び前記第２領域を外から囲み前記ワークの外周に対応する位置を含む第３領域とを含み、
前記第１領域における単位面積当たりの発光量、及び前記第２領域における単位面積当たりの発光量のそれぞれよりも、前記第３領域における単位面積当たりの発光量の方が多いことを特徴とする加熱装置。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
前記ワークの前記１対の主表面のそれぞれに対向する１対の前記照射部を備える請求項１に記載の加熱装置。
【請求項３】
前記第１領域の外周、前記第２領域の外周、前記ワークの外周、及び前記孔の形状は前記ワークの前記主表面に垂直な方向から見た場合に同心円であり、
前記ワークの半径をＲ
Ｗ
、前記孔の半径をＲ
Ｈ
とすると、
前記第１領域の外周の半径は、０．５０Ｒ
Ｈ
以上、０．４３Ｒ
Ｈ
＋０．５７Ｒ
Ｗ
以下であり、
前記第２領域の外周の半径は、０．４０Ｒ
Ｈ
＋０．６０Ｒ
Ｗ
以上、０．０３Ｒ
Ｈ
＋０．９７Ｒ
Ｗ
以下であり、
前記第３領域の外周の半径は、Ｒ
Ｗ
以上、１．５Ｒ
Ｗ
以下である請求項１に記載の加熱装置。
【請求項４】
前記第１領域における単位面積当たりに備えられる前記発光素子の数、及び前記第２領域における単位面積当たりに備えられる前記発光素子の数のそれぞれよりも、前記第３領域における単位面積当たりに備えられる前記発光素子の数の方が多い請求項１または２に記載の加熱装置。
【請求項５】
前記発光素子の発光を制御するコントローラを備え、
前記コントローラは、前記複数の発光素子のうち、発光させる前記発光素子を前記第１から第３領域の各々において選択する制御を行う請求項１～３のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項６】
前記発光素子の発光を制御するコントローラを備え、
前記コントローラは、前記第１から第３領域の各々における前記発光素子の発光量を制御する請求項１～３のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項７】
前記コントローラは、前記第１から第３領域の各々における前記発光素子の発光量を調整するための指令を行い、
前記コントローラからの指令に基づいて前記第１領域に備えられる前記発光素子の発光量を制御する第１ドライバと、
前記コントローラからの指令に基づいて前記第２領域に備えられる前記発光素子の発光量を制御する第２ドライバと、
前記コントローラからの指令に基づいて前記第３領域に備えられる前記発光素子の発光量を制御する第３ドライバと、を備える請求項６に記載の加熱装置。
【請求項８】
前記第１領域における単位面積当たりの発光量よりも、前記第２領域における単位面積当たりの発光量の方が多い請求項１～３のいずれか一項に記載の加熱装置。
【請求項９】
前記第１領域における単位面積当たりの発光量をＬ
１
、前記第２領域における単位面積当たりの発光量をＬ
２
、前記第３領域における単位面積当たりの発光量Ｌ
３
とすると、Ｌ
１
／Ｌ
２
は、０．７０以下であり、Ｌ
２
／Ｌ
３
は、０．０５０以上０．８０以下である請求項８に記載の加熱装置。
【請求項１０】
前記第１領域における単位面積当たりに備えられる前記発光素子の数よりも、前記第２領域における単位面積当たりに備えられる前記発光素子の数の方が多い請求項８に記載の加熱装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱装置及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
各種データを記録して保管するための記録媒体として、磁気記録媒体が広く使用されている。磁気記録媒体の構成としては、例えば、基板上に形成された軟磁性層及び下地層等の上に、磁性層が形成されている。
【０００３】
記録密度の向上の要求に対して、磁性層の構造の微細化が検討されている。また、記録品質の向上のために、磁性層にはＦｅＰｔ合金等の熱揺らぎ耐性の高い材料が用いられる。このような材料を用いる場合、磁気記録媒体の製造工程において、磁性層の形成後、この磁性層の規則化のため、加熱処理が行われることが多い。
【０００４】
例えば、特許文献１には、基板を保持する１又は複数の基板ホルダと、薄膜材料源と、基板ホルダと薄膜材料源との間に退避可能に配置されるシャッタと、が成膜室内に配置された成膜装置において、シャッタに、基板に対応して基板加熱用の面状ヒータを１又は複数個、設置した成膜装置が記載されている。
【０００５】
例えば、特許文献２には、複数の発光素子及び冷却部材を備えた複数の加熱用光源モジュールが複数配置された加熱用光源装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２００２－１２９３２６号公報
特開２０２２－１７２７７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
磁気記録媒体は、製造コストの低減が求められる。また、中心部に孔が形成された円盤形状を有する磁気記録媒体が広く用いられている。そのため、製造工程におけるワークも同様の形状を有していることが多い。
【０００８】
特許文献１では、面状ヒータとして、熱分解窒化ホウ素（ＰＢＮ）のような絶縁性基板上に熱分解グラファイト（ＰＧ）のような抵抗体が所定のパターンに形成された構成が記載されている。このようなヒータはコストが非常に高く、磁気記録媒体の製造コストの上昇につながる。また、面内での加熱量の分布をコントロールすることが難しい。そのため、過剰な加熱により不良品が発生する場合がある。また、中心部に孔が形成されたワークを加熱する際に、孔を通り抜ける赤外線の量により、装置内の部品が加熱されやすく、装置を保護するための手間がかかり、コストも高くなる。
【０００９】
特許文献２では、発光素子としてＬＥＤ素子を用いる構成が記載されている。しかし、加熱中は、基板の外周端部から熱が逃げるため、特許文献２に開示されている発光素子の配置では、基板外周付近は内側に比べて温度が低くなる。
【００１０】
そこで本発明の一実施形態は、中心部に孔が形成された円盤形状を有するワークの表面を高い生産性かつ高い均一性で加熱することができる加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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