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公開番号2025083178
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-30
出願番号2023196931
出願日2023-11-20
発明の名称磁気ディスク基板用研磨液の製造方法
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類G11B 5/84 20060101AFI20250523BHJP(情報記憶)
要約【課題】磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上と、フィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法の提供。
【解決手段】一態様において、シリカ粒子(成分A)と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造方法であって、シリカ粒子(成分A)と水とを含有する被処理シリカ分散液をメンブレンフィルタでろ過してろ過後のシリカ分散液を得る工程を含み、前記メンブレンフィルタの平均ポア径が2.4μm以下であり、前記メンブレンフィルタの平均開口率が10%以上である、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法に関する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
シリカ粒子（成分Ａ）と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造方法であって、
シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する被処理シリカ分散液をメンブレンフィルタでろ過してろ過後のシリカ分散液を得る工程を含み、
前記メンブレンフィルタの平均ポア径が２．４μｍ以下であり、
前記メンブレンフィルタの平均開口率が１０％以上である、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
続きを表示（約 620 文字）【請求項２】
前記メンブレンフィルタの平均ポア径をＡＰＤ、平均開口率をＡＡＲとしたとき、式：（ＡＡＲ）／（ＡＰＤ）で表される値が１０以上である、請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項３】
ろ過後のシリカ分散液に、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、アミン化合物、及びアニオン性水溶性高分子から選ばれる少なくとも１種をさらに混合する工程を有する、請求項１又は２に記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法により磁気ディスク基板用研磨液を製造する工程、及び、該工程で得られた磁気ディスク基板用研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び前記被研磨基板から選ばれる１種以上を動かして、前記研磨対象面を研磨する工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項５】
シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるろ過工程において使用するフィルタの閉塞を抑制する方法であって、
前記ろ過工程は、メンブレンフィルタでろ過する工程を含み、
前記メンブレンフィルタの平均ポア径が２．４μｍ以下であり、
前記メンブレンフィルタの平均開口率が１０％以上である、フィルタの閉塞を抑制する方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法、磁気ディスク基板の製造方法、磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるフィルタの閉塞を抑制する方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、そして更なる高記録密度化が求められている。これを実現するため単位記録面積の縮小が進められているが、それにより弱くなる磁気信号の検出感度向上を企図して、磁気ヘッドの浮上高さをより低くする技術開発が進められている。そこで、磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの浮上高さ低減と記録面積の確保に対応するため、表面粗さ、うねり、端面ダレ（ロールオフ）の低減に代表される平滑性・平坦性の向上とスクラッチ、突起、ピット等の低減に代表される欠陥低減に対する要求が厳しくなっている。
また、半導体分野においても、高集積化と高速化が進んでおり、特に高集積化では配線の微細化が要求されている。その結果、半導体基板の製造プロセスにおいては、フォトレジストに露光する際の焦点深度が浅くなり、より一層の表面平滑性が望まれている。
【０００３】
このような要求に対して、特許文献１には、大量の流体のろ過及び一定量の液体の高速ろ過に適したメンブレンとして、網目状の多孔性表面を有し、約２未満の泡立ち点正規化血清滞留時間を有するポリマー材料を含む、高スループットの応用例に適した非対称微孔性メンブレンが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１２－１３０９１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、基板の表面品質に対する要求特性はさらに厳しくなっているため、基板の製造における研磨工程の重要性はますます高まり、それには該研磨工程に用いられる研磨液の品質が鍵である。
磁気ディスクドライブの基板表面の欠陥の１つであるスクラッチの原因の一つは、研磨液に含まれる粗大粒子である。通常、研磨液中の粗大粒子は、その製造工程において、ろ過によって除去されている。
研磨液のろ過においては、得られる研磨液の品質（例えば、粗大粒子の少なさ）と、研磨液を製造する際に用いるフィルタの長寿命化とがトレードオフになる問題がある。すなわち、得られる研磨液の品質を高めるために製造過程において用いるフィルタの目開きを小さくするとフィルタの閉塞が起こりやすくフィルタ寿命が短くなり、一方、フィルタの長寿命化のためにフィルタのポア径を大きくすると、ろ過後のシリカ分散液の品質の確保が難しくなる。
【０００６】
そこで、本開示は、一態様において、得られる研磨液の品質と、フィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、一態様において、シリカ粒子（成分Ａ）と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造方法であって、シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する被処理シリカ分散液をメンブレンフィルタでろ過してろ過後のシリカ分散液を得る工程を含み、前記メンブレンフィルタの平均ポア径が２．４μｍ以下であり、前記メンブレンフィルタの平均開口率が１０％以上である、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法に関する。
【０００８】
本開示は、一態様において、本開示の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法により磁気ディスク基板用研磨液を製造する工程、及び、該工程で得られた磁気ディスク基板用研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び前記被研磨基板から選ばれる１種以上を動かして、前記研磨対象面を研磨する工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、シリカ粒子（成分Ａ）と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるろ過工程において使用するフィルタの閉塞を抑制する方法であって、前記ろ過工程はメンブレンフィルタでろ過する工程を含み、前記メンブレンフィルタの平均ポア径が２．４μｍ以下であり、前記メンブレンフィルタの平均開口率が１０％以上である、フィルタの閉塞を抑制する方法に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、一態様において、得られる研磨液の品質の向上と、フィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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