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公開番号2025083179
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-30
出願番号2023196932
出願日2023-11-20
発明の名称磁気ディスク基板用研磨液の製造方法
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類G11B 5/84 20060101AFI20250523BHJP(情報記憶)
要約【課題】得られる磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上と、磁気ディスク基板用研磨液製造におけるフィルタの長寿命化とを両立可能なシリカ分散液の製造方法の提供。
【解決手段】一態様において、シリカ粒子(成分A)と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造方法であって、シリカ粒子(成分A)と水とを含有する被処理シリカ分散液をメンブレンフィルタでろ過してろ過後のシリカ分散液を得る工程を含み、前記メンブレンフィルタの1次側平均ポア径Uの2次側平均ポア径Dに対する比U/Dが3.0以下であり、前記メンブレンフィルタの平均ポア径が0.5μm以上である、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法に関する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
シリカ粒子（成分Ａ）と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造方法であって、
シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する被処理シリカ分散液をメンブレンフィルタでろ過してろ過後のシリカ分散液を得る工程を含み、
前記メンブレンフィルタの１次側平均ポア径Ｕの２次側平均ポア径Ｄに対する比Ｕ／Ｄが３．０以下であり、
前記メンブレンフィルタの平均ポア径が０．５μｍ以上である、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
続きを表示（約 630 文字）【請求項２】
前記メンブレンフィルタの平均ポア径をＡＰＤとしたとき、式：（Ｕ／Ｄ）×｛（ＡＰＤ）
3
｝で表される値が０．１以上６．５以下である、請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項３】
ろ過後のシリカ分散液に、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、アミン化合物、及びアニオン性水溶性高分子から選ばれる少なくとも１種を混合する工程を有する請求項１又は２に記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項４】
請求項１～３のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法により磁気ディスク基板用研磨液を製造する工程、及び、該工程で得られた研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び前記被研磨基板から選ばれる１種以上を動かして、前記研磨対象面を研磨する工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項５】
シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるろ過工程において使用するフィルタの閉塞を抑制する方法であって、
前記フィルタが、メンブレンフィルタであり、
前記メンブレンフィルタの１次側平均ポア径Ｕの２次側平均ポア径Ｄに対する比Ｕ／Ｄが３．０以下であり、
前記メンブレンフィルタの平均ポア径が０．５μｍ以上である、フィルタの閉塞を抑制する方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法、磁気ディスク基板の製造方法、及びフィルタの閉塞を抑制する方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、そして更なる高記録密度化が求められている。これを実現するために単位記録面積の縮小が進められているが、それにより弱くなる磁気信号の検出感度向上を企図して磁気ヘッドの浮上高さ低減が進められており、これに対応するため磁気ディスク基板には、表面粗さ、うねり、端面ダレ（ロールオフ）の低減に代表される平滑性・平坦性の向上とスクラッチ、突起、ピット等の低減に代表される欠陥低減に対する要求が厳しくなっている。
また、半導体分野においても、高集積化と高速化が進んでおり、特に高集積化では配線の微細化が要求されている。その結果、半導体基板の製造プロセスにおいては、フォトレジストに露光する際の焦点深度が浅くなり、より一層の表面平滑性が望まれている。
【０００３】
このような要求に対して、例えば、特許文献１には、研磨用添加剤を含有する液のろ過方法として、パームポロメータで測定される平均孔径Ｐが０．１５μｍ以下である、及びＳＥＭ観察により測定される入口側（１次側）平均孔径Ｓｉｎと出口側（２次側）平均孔径Ｓｏｕｔの比である孔径勾配（Ｓｉｎ／Ｓｏｕｔ）が３以下である、の特性を有するフィルタによってろ過する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２１－２７３００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、上記のように基板の表面品質に対する要求特性はさらに厳しくなっている。基板の表面品質の指標の一つとしてスクラッチがあるが、その発生原因の一つである研磨液中の粗大粒子は、通常、研磨液の製造工程においてろ過によって除去されている。
しかしながらこのろ過は、研磨液の品質（例えば、粗大粒子の少なさ）と、フィルタの長寿命化による生産性／経済性の向上についてトレードオフの問題を引き起こす。
【０００６】
そこで、本開示は、一態様において、得られる磁気ディスク基板用研磨液の品質と、磁気ディスク基板用研磨液製造におけるフィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、一態様において、シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造方法であって、シリカ粒子(成分Ａ)と水とを含有する被処理シリカ分散液をメンブレンフィルタでろ過してろ過後のシリカ分散液を得る工程を含み、前記メンブレンフィルタの１次側平均ポア径Ｕの２次側平均ポア径Ｄに対する比Ｕ／Ｄが３．０以下であり、前記メンブレンフィルタの平均ポア径が０．５μｍ以上である、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法に関する。
【０００８】
本開示は、一態様において、本開示の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法により磁気ディスク基板用研磨液を製造する工程、及び、該工程で得られた研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び前記被研磨基板から選ばれる１種以上を動かして、前記研磨対象面を研磨する工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、シリカ粒子（成分Ａ）と水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるろ過工程において使用するフィルタの閉塞を抑制する方法であって、前記フィルタがメンブレンフィルタであり、前記メンブレンフィルタの１次側平均ポア径Ｕの２次側平均ポア径Ｄに対する比Ｕ／Ｄが３．０以下であり、前記メンブレンフィルタの平均ポア径が０．５μｍ以上である、フィルタの閉塞を抑制する方法に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、一態様において、得られる磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上と、磁気ディスク基板用研磨液製造におけるフィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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