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公開番号2025083180
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-30
出願番号2023196933
出願日2023-11-20
発明の名称磁気ディスク基板用研磨液の製造方法
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類G11B 5/84 20060101AFI20250523BHJP(情報記憶)
要約【課題】磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上と、フィルタの長寿命化とを両立可能な研磨液の製造方法を提供する。
【解決手段】疎水性ポリマーと親水性ポリマーによって構成されるメンブレンフィルタでろ過する工程を有する磁気ディスク用研磨液の製造方法であって、磁気ディスク基板用研磨液を得る工程と、得られた磁気ディスク基板用研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給し、研磨対象面に研磨パッドを接触させ、研磨パッド及び被研磨基板の少なくとも一方を動かして、研磨対象面を研磨する工程と、をさらに含む。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
疎水性ポリマーと親水性ポリマーによって構成されるメンブレンフィルタでろ過する工程を有する、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
続きを表示（約 890 文字）【請求項２】
前記メンブレンフィルタを構成する疎水性ポリマーに対する同親水性ポリマーの含有比が０．１％以上である、請求項１に記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項３】
前記親水性ポリマーは、ポリビニルピロリドンを含有するものである、請求項１又は２に記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項４】
前記疎水性ポリマーは、ポリスルホン及びポリエーテルスルホンから選ばれる少なくとも１種を含有するものである、請求項１から３のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項５】
前記メンブレンフィルタの平均ポア径が０．５μｍ以上２．４μｍ以下である、請求項１から４のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項６】
前記メンブレンフィルタの滴下液拡張度が１．５以上である、請求項１から５のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項７】
前記メンブレンフィルタの膜電位が－６２ｍＶ以上である、請求項１から６のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項８】
前記ろ過工程は、前記メンブレンフィルタでろ過する工程の前に、デプス型フィルタを用いてろ過する工程を含むものである、請求項１から７のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項９】
前記メンブレンフィルタでろ過する工程に供される成分が、シリカ粒子及び水を含有するものである、請求項１から８のいずれかに記載の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法。
【請求項１０】
磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるろ過工程において使用するフィルタの閉塞を抑制する方法であって、
前記ろ過工程は、疎水性ポリマーと親水性ポリマーによって構成されるメンブレンフィルタでろ過する工程を有する、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法におけるフィルタの閉塞を抑制する方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法におけるフィルタの閉塞を抑制する方法、磁気ディスク基板用研磨液及び磁気ディスク基板の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、そして更なる高記録密度化が求められている。これを実現するため単位記録面積の縮小が進められているが、それにより弱くなる磁気信号の検出感度向上を企図して、磁気ヘッドの浮上高さをより低くする技術開発が進められている。そこで磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの浮上高さ低減と記録面積の確保に対応するため、表面粗さ、うねり、端面ダレ（ロールオフ）の低減に代表される平滑性・平坦性の向上とスクラッチ、突起、ピット等の低減に代表される欠陥低減に対する要求が厳しくなっている。
また、半導体分野においても、高集積化と高速化が進んでおり、特に高集積化では配線の微細化が要求されている。その結果、半導体基板の製造プロセスにおいては、フォトレジストに露光する際の焦点深度が浅くなり、より一層の表面平滑性が望まれている。
【０００３】
このような要求に対して、例えば、特許文献１には、アルコールとガソリンとの混合物からアルコールを選択的に浸透気化させるための複合膜として、多孔質基材と、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）を含有するポリマー組成物を用いて形成されたポリマー層とを有する複合膜が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特表２０１８－５２２７１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、基板の表面品質に対する要求特性はさらに厳しくなっており、それを左右するスクラッチの低減が必須であるが、スクラッチ発生の原因の一つとされている研磨液に含まれる粗大粒子を低減しようとすると、その低減操作と研磨液の生産性の両立を図るのが困難になるという課題がある。
【０００６】
そこで本開示は、一態様において、磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上と、磁気ディスク基板用研磨液の製造の際に用いるフィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、一態様において、疎水性ポリマーと親水性ポリマーによって構成されるメンブレンフィルタでろ過する工程を有する、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法に関する。
【０００８】
本開示は、一態様において、磁気ディスク基板用研磨液の製造におけるろ過工程において使用するフィルタの閉塞を抑制する方法であって、前記ろ過工程は、疎水性ポリマーと親水性ポリマーによって構成されるメンブレンフィルタでろ過する工程を有する、磁気ディスク基板用研磨液の製造方法におけるフィルタの閉塞を抑制する方法に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、本開示の磁気ディスク基板用研磨液の製造方法により磁気ディスク基板用研磨液を得る工程、及び、該工程で得られた磁気ディスク基板用研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び前記被研磨基板の少なくとも一方を動かして、前記研磨対象面を研磨する工程、を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、一態様において、得られる磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上と、磁気ディスク基板用研磨液の製造の際に用いるフィルタの長寿命化とを両立可能な磁気ディスク基板用研磨液の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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