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公開番号2025048583
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-03
出願番号2023157474
出願日2023-09-22
発明の名称描画装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250327BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】安価な構成でカバー内を清浄に保ちつつ温度を調整することにより、描画装置の製造コストを削減する。
【解決手段】光の照射により基板にパターンを描画する描画装置は、基板を保持する保持部と、基板にパターンを描画する光照射部と、保持部および光照射部を覆うカバー6と、カバー6内に温度が調整された第1エアを供給するエア供給部とを備える。エア供給部は、カバー6の外部においてエアを取り込んで温度が調整された第2エアを生成する温調部71aと、カバー6の外部においてエアを取り込む吸気部72と、第2エアと第3エアとを混合して第1エアを生成する混合部として機能するダクト734とを備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
光の照射により基板にパターンを描画する描画装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持された基板に向けて光を出射することにより、前記基板にパターンを描画する光照射部と、
前記保持部および前記光照射部を覆うカバーと、
前記カバー内に温度が調整された第１エアを供給するエア供給部と、
を備え、
前記エア供給部が、
前記カバーの外部においてエアを取り込んで温度が調整された第２エアを生成する温調部と、
前記カバーの外部においてエアを取り込む吸気部と、
前記温調部から導かれる前記第２エアと前記吸気部から導かれる第３エアとを混合して前記第１エアを生成する混合部と、
を備える描画装置。
続きを表示（約 750 文字）【請求項２】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記エア供給部が、
前記第１エアの温度を取得する温度計と、
前記温度計にて取得された前記第１エアの温度に基づいて前記第２エアの温度を制御する温度制御部と、
をさらに備える描画装置。
【請求項３】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記エア供給部が、前記第１エアの目標流量に従って前記第２エアおよび前記第３エアの少なくとも一方の流量を制御する流量制御部をさらに備える描画装置。
【請求項４】
請求項３に記載の描画装置であって、
前記カバーが、前記保持部に保持された基板を交換する際に開く扉を有し、
前記扉が開いている間、前記流量制御部が前記第１エアの流量を増大する描画装置。
【請求項５】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記温調部と同一の型番の他の温調部をさらに備え、
前記他の温調部が、前記光照射部内に温度が調整された第４エアを供給する描画装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画装置であって、
前記保持部および前記光照射部の少なくとも１つを、前記保持部に保持された基板に平行な方向に移動することにより、前記保持部を前記光照射部に対して相対的に移動する移動機構をさらに備え、
前記光照射部が、前記保持部に保持された基板に向けて変調された光を出射する描画ヘッドを備え、
前記描画ヘッドが変調された光を出射している間に前記移動機構が前記保持部に保持された基板を前記光照射部に対して相対的に移動することにより、前記基板上にパターンが描画される描画装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の照射により基板にパターンを描画する描画装置に関連する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来より、プリント基板や半導体基板等（以下、「基板」という。）に対するパターンの描画において、基板上に形成された感光材料に光を照射してパターンを感光材料上に描画する描画装置が利用されている。このような描画装置では、基板周辺の雰囲気を一定に維持するために、基板を保持する保持部や基板に光を照射する光照射部等の主要部分がカバー内に収容される。
【０００３】
例えば、特許文献１に開示の直描型の描画装置である露光装置では、露光ユニットやカメラユニットを覆うチャンバが設けられ、チャンバと空調装置とがダクトで接続される。チャンバ内には機内温度計が配置され、チャンバ外には機外温度計が配置される。そして、チャンバ内が露光装置の設置環境温度の中央値よりも所定のオフセット値だけ低い温度に保持されるように空調装置が制御される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－２３５３７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、通常、描画装置が設置されるクリーンルームの温度と、描画装置内に求められる温度との差は大きくはない。一方、描画装置の内部を一定の温度に保つには温度が調整された多量のエアが必要となり、多量のエアを生成する大型の高価な温調装置が必要となる。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、安価な構成でカバー内の温度を調整することにより、描画装置の製造コストを削減することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様１は、光の照射により基板にパターンを描画する描画装置であって、基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された基板に向けて光を出射することにより、前記基板にパターンを描画する光照射部と、前記保持部および前記光照射部を覆うカバーと、前記カバー内に温度が調整された第１エアを供給するエア供給部とを備え、前記エア供給部が、前記カバーの外部においてエアを取り込んで温度が調整された第２エアを生成する温調部と、前記カバーの外部においてエアを取り込む吸気部と、前記温調部から導かれる前記第２エアと前記吸気部から導かれる第３エアとを混合して前記第１エアを生成する混合部とを備える。
【０００８】
本発明の態様２は、態様１の描画装置であって、前記エア供給部が、前記第１エアの温度を取得する温度計と、前記温度計にて取得された前記第１エアの温度に基づいて前記第２エアの温度を制御する温度制御部とをさらに備える。
【０００９】
本発明の態様３は、態様１（態様１または２であってもよい。）の描画装置であって、前記エア供給部が、前記第１エアの目標流量に従って前記第２エアおよび前記第３エアの少なくとも一方の流量を制御する流量制御部をさらに備える。
【００１０】
本発明の態様４は、態様３の描画装置であって、前記カバーが、前記保持部に保持された基板を交換する際に開く扉を有し、前記扉が開いている間、前記流量制御部が前記第１エアの流量を増大する。
（【００１１】以降は省略されています）

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