TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025009140
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-01-20
出願番号
2023111936
出願日
2023-07-07
発明の名称
排ガス浄化用触媒
出願人
トヨタ自動車株式会社
,
株式会社キャタラー
代理人
弁理士法人平木国際特許事務所
主分類
B01J
23/63 20060101AFI20250110BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】HC被毒しやすい空燃比がリッチである雰囲気において、貴金属のHC被毒を抑制しつつ、暖機性が改善された排ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と該基材上にコートされている触媒コート層とを有する排ガス浄化用触媒であって、触媒コート層が、基材上にコートされている下層コート層と、下層コート層上にコートされている上層コート層とを有し、上層コート層が、Pd及び/又はPt並びに第1の担体粒子を含み、第1の担体粒子が、Al
2
O
3
を含み、上層コート層中に含まれるPd及び/又はPtの一定量以上が、Al
2
O
3
に担持されており、上層コート層の厚さが、調整されており、下層コート層が、Rh及び第2の担体粒子を含み、第2の担体粒子の平均粒径D50が特定されており、下層コート層中に含まれるRhが、局所的に配置されている、排ガス浄化用触媒に関する。
【選択図】図7
特許請求の範囲
【請求項1】
基材と該基材上にコートされている触媒コート層とを有する排ガス浄化用触媒であって、
触媒コート層が、基材上にコートされている下層コート層と、下層コート層上にコートされている上層コート層とを有し、
上層コート層が、Pd及び/又はPt並びに第1の担体粒子を含み、
第1の担体粒子が、Al
2
O
3
を含み、
上層コート層中に含まれるPd及び/又はPtの全重量の80重量%以上が、Al
2
O
3
に担持されており、
上層コート層と下層コート層の厚さの比(上層コート層/下層コート層)が、0.2以下であり、
下層コート層が、Rh及び第2の担体粒子を含み、
第2の担体粒子の平均粒径D50が、5μm~16μmであり、
下層コート層中に含まれるRhが、下記式で表されるRhの局所度合い:
Rhの局所度合い=1/Rhの均一度合い
(式中、「Rhの均一度合い」は、1-(0のセル数/総セル数)を示し、ここで、「0のセル数」は、下層コート層の500倍率のRhを抽出したEPMA画像の元データであるcsvデータにおいて、200セル×200セルの部分を切り出し、前記切り出した部分からそれぞれ50セル×50セルの下部、中央部及び上部を切り出したときの、前記下部、中央部及び上部の総セル中の0の値を示すセルの総数を示し、「総セル数」は、前記下部、中央部及び上部のセルの総数を示す)
が1.47~2.10になるように配置されている、
排ガス浄化用触媒。
続きを表示(約 750 文字)
【請求項2】
第1の担体粒子の平均粒径D50が、第2の担体粒子の平均粒径D50と同等以上である、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項3】
上層コート層中に含まれるPd及び/又はPtの全重量の95重量%以上が、Al
2
O
3
に担持されている、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項4】
上層コート層の厚さが、20μm以下である、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項5】
請求項1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法であって、
(i)Rhの前駆体、第2の担体粒子、及び溶媒を撹拌及び混合し、得られた混合物を乾燥及び焼成してRh担持担体粒子を得る工程と、
(ii)(i)の工程で得られたRh担持担体粒子、Rhを担持させていない第2の担体粒子、及び溶媒を撹拌及び混合し、第2の担体粒子の平均粒径D50が5μm~16μmになるように粉砕して下層コート層用の触媒コート層スラリーを調製する工程と、
(iii)基材上に、(ii)の工程で得られた下層コート層用の触媒コート層スラリーを被覆し、乾燥及び焼成して下層コート層を形成させる工程と、
(iv)Pd及び/又はPtの前駆体、Al
2
O
3
を含む第1の担体粒子、及び溶媒を撹拌及び混合して上層コート層用の触媒コート層スラリーを調製する工程と、
(v)(iii)の工程で得られた下層コート層が形成された基材上に、(iv)の工程で得られた上層コート層用の触媒コート層スラリーを被覆し、乾燥及び焼成して上層コート層を形成させる工程と
を含む方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、排ガス浄化用触媒に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
自動車等のための内燃機関、例えば、ガソリンエンジン又はディーゼルエンジン等の内燃機関から排出される排ガス中には、有害成分、例えば、一酸化炭素(CO)、炭化水素(HC)、及び窒素酸化物(NOx)等が含まれている。
【0003】
このため、一般的には、これらの有害成分を分解除去するための排ガス浄化装置が内燃機関に設けられており、この排ガス浄化装置内に取り付けられた排ガス浄化用触媒によってこれらの有害成分がほとんど無害化されている。
【0004】
例えば、特許文献1は、ハニカム担体と、前記ハニカム担体上に設けられた触媒層と、を備え、前記触媒層は、貴金属粒子と、該貴金属粒子が担持され、Ceを含む酸化物又はMnとAlとの複合酸化物である複数の第1化合物と、これら貴金属粒子を担持した複数の第1化合物を覆い、第1化合物同士を互いに離隔させ、さらにAl及びZrのうち少なくともいずれかを含む酸化物である第2化合物と、を有し、前記触媒層の細孔容積が0.24~0.8cm
3
/gの範囲内にあり、前記第2化合物の粒子径が10~100nmの範囲内にあることを特徴とする排気ガス浄化用触媒を開示している。
【0005】
特許文献2は、基材と、該基材の表面に形成された触媒コート層とを備える排ガス浄化用触媒であって、触媒コート層が、基材表面に近い方を下層とし相対的に遠い方を上層とする上下層を含み、触媒コート層の上層が、Rh及びPdと担体とを含有し、触媒コート層の上層が、上流側の端部から下流方向に20mm以上の範囲の表面に、上層の他の部位より相対的にPd濃度が高いPd最表面層を含み、触媒コート層の下層が、Pd及びPtから選択される少なくとも1種の貴金属と担体とを含有し、Pd最表面層に含有されるPdの60質量%以上が、基材表面に相対的に遠いPd最表面層の表面から上層の厚さ50%までの層に存在する、排ガス浄化用触媒を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2007-313498号公報
特開2019-069402号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
各触媒コート層中に含まれる貴金属の量は、資源リスクの観点から低減させることが求められている。貴金属の量を低減させるためには、貴金属の触媒活性が排ガス浄化用触媒の使用によって低下することを防止すればよく、貴金属の触媒活性が低下するのを防ぐためには、例えば、貴金属の触媒活性の低下の1つの要因である貴金属の排ガス中のHCによる被毒(HC被毒)を抑制することが挙げられる。
【0008】
一方で、排ガス浄化用触媒には良好な暖機性、すなわち排ガス浄化初期(例えば、エンジンをかけ始めた直後)における排ガスの浄化も求められる。
【0009】
したがって、本発明は、HC被毒しやすい空燃比(A/F)がリッチである雰囲気(酸素希薄雰囲気)において、貴金属のHC被毒を抑制しつつ、暖機性が改善された排ガス浄化用触媒を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
各触媒コート層は、通常それぞれ異なる有害成分の浄化の役割を担う。したがって、排ガス浄化用触媒が、基材と、基材上にコートされている下層コート層と、下層コート層上にコートされている上層コート層とを有する場合、上層コート層は、下層コート層と有害成分を含む排ガスとが速やかに互いに接触することができる構造、すなわちガス拡散性に優れた構造を有することが望まれる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
東レ株式会社
複合半透膜
13日前
東ソー株式会社
多孔質ゼオライト成形体
28日前
東レ株式会社
スパイラル分離膜エレメント
1か月前
前澤工業株式会社
沈殿池構造
26日前
冷化株式会社
撹拌混合装置
26日前
株式会社ナノバブル研究所
微細気泡発生板
4日前
新東工業株式会社
集塵機
14日前
旭化成株式会社
多孔性中空糸膜
4日前
大陽日酸株式会社
排ガス処理システム
5日前
みづほ工業株式会社
撹拌装置、及び撹拌方法
1日前
株式会社クラレ
ろ過膜及びその製造方法
4日前
三菱ケミカル株式会社
分離材および分離材の製造方法
27日前
DOWAメタルマイン株式会社
撹拌装置
13日前
オリオン機械株式会社
圧縮空気除湿装置システム
4日前
株式会社西部技研
ガス濃縮装置
4日前
オリオン機械株式会社
圧縮空気除湿装置システム
4日前
積水化学工業株式会社
ガス製造装置
12日前
前澤工業株式会社
沈殿池のピット排泥装置
26日前
オリオン機械株式会社
圧縮空気除湿装置システム
4日前
JFEエンジニアリング株式会社
多重管式反応容器
1か月前
JFEエンジニアリング株式会社
多重管式反応容器
1か月前
JFEエンジニアリング株式会社
多重管式反応容器
1か月前
株式会社美和製作所
触媒材
1か月前
東ソー株式会社
二酸化炭素分離用アミン組成物及びその用途
26日前
セイコーエプソン株式会社
流体デバイス
4日前
株式会社AZUMA
湿式空気清浄機
4日前
株式会社島津製作所
ピペット装置
13日前
日本特殊陶業株式会社
回収装置
14日前
大同工機株式会社
濾過用ストレーナの自動洗浄システム
12日前
新明和工業株式会社
気泡生成装置
4日前
三菱重工業株式会社
攪拌翼及び攪拌装置
12日前
オリオン機械株式会社
吸着剤再生装置および除去システム
4日前
富士電機株式会社
膜分離システム、及び膜分離方法
26日前
株式会社アーステクニカ
流動層装置
4日前
ウシオ電機株式会社
処理装置
4日前
東洋紡エムシー株式会社
吸着剤
4日前
続きを見る
他の特許を見る