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公開番号2025004959
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-16
出願番号2023104880
出願日2023-06-27
発明の名称排ガス処理システム
出願人大陽日酸株式会社
代理人個人,個人
主分類B01D 53/74 20060101AFI20250108BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】複雑な制御を要せず、複数の除害装置に排ガスを分流可能とする排ガス処理システムを提供する。
【解決手段】排ガスを除害処理する排ガス処理システム10は、排ガスが供給される集合配管L1に連結される入口圧力制御部30と、該入口圧力制御部30から分岐する複数の配管L3a,b,cによって連結される複数の除害処理部40a,b,cとを有し、入口圧力制御部30は、圧力センサー32と、該圧力センサー32の指示値が設定値となるように制御する自動制御弁33とを備え、除害処理部40a,b,cは、除害装置42a,b,cと、除害装置の前段に設けられる真空発生器43a,b,cとを備えている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
排ガス導入経路から導入される排ガスを除害処理する排ガス処理システムにおいて、
前記排ガス導入経路から分岐される複数の分岐配管によって連結される複数の除害処理部を有し、
前記除害処理部は、
除害装置と、該除害装置の前段に設けられる真空発生器とを備え
ていることを特徴とする排ガス処理システム。
続きを表示（約 600 文字）【請求項２】
前記排ガス導入経路と前記分岐配管との間に入口圧力制御部を備え、
前記入口圧力制御部は、
圧力センサーと、
該圧力センサーの指示値が設定値となるように制御する自動制御弁とを備え
ていることを特徴とする請求項１記載の排ガス処理システム。
【請求項３】
前記入口圧力制御部は、前記圧力センサーの指示値が設定値となるように、圧力調整用ガスを前記圧力センサーの前段に導入する圧力調整用ガス導入経路を備えていることを特徴とする請求項２記載の排ガス処理システム。
【請求項４】
前記圧力調整用ガスは窒素、ドライエア、酸素のいずれかであることを特徴とする請求項３記載の排ガス処理システム。
【請求項５】
前記入口圧力制御部は、圧力逃し経路を備え、前記圧力センサーの指示値が設定値よりも大きい場合に、排ガスの流路を前記圧力逃し経路に切り替える三方弁を有していることを特徴とする請求項３記載の排ガス処理システム。
【請求項６】
前記真空発生器は、容積移送式多段ルーツ型の真空ポンプであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の排ガス処理システム。
【請求項７】
前記真空発生器は、エゼクターであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の排ガス処理システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス処理システムに関し、詳しくは、複数の半導体などの各種電子デバイス製造装置から排出される排ガスを処理する排ガス処理システムに関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
排ガス処理システムでは、半導体等の製造装置により排出される排ガスの流量に応じた除害装置を設置する必要がある。特に、排ガスの流量が大流量の場合、大型の除害装置を１台用いて対応するとなると、大型の除害装置は一般的に開発や製造にかかるコストが高く、標準的な除害装置を並列増設して設置することが好ましい。
【０００３】
特に、複数の半導体製造装置が接続されている排ガス処理装置の排ガス流量は、稼働台数や稼働状況に応じて変動するため、効率的な装置の稼働をするために、複数の除害装置を併設し、排ガスを分流する排ガス処理装置が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１０－２０７７７１号公報
特許第５９５８６４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に示されるような排ガス処理装置で、複数の除害装置に分流しようとすると、複雑な制御が必要であった。より詳述すると、各除害装置は処理対象ガスの外部漏洩を防止するため、系内の負圧条件での使用を基本設計にしている。分流を実施する場合には、各除害装置の入口圧力の圧力差にて流量の分配を制御することが考えられるが、もともとのガス圧力が微圧であり、明確な圧力差を生じさせることが難しく、圧力センサーも高精度なものが要求される。また、半導体製造装置からの排ガスについては、成膜の種類や工程に応じて、腐食性ガス、粉体等が含まれており、配管・センサーへの粉付着により、指示値にズレが生じ、圧力による分流制御は難しい。
【０００６】
特に、特許文献１の図１のような排ガス処理装置において、各除害装置に負圧を確保する排気ファンなどが設置されている場合、除害装置５２ａの負圧が除害装置５２ｂに比べて低くなることで、除害装置５２ｂからの吸引が生じ加熱部の熱気を逆流させてしまうことが考えられる。逆止弁を設置することが対策として考えられるが、粉体閉塞での固着等が考えられる為、実運用上、許容されるものではない。同様の理由で排気配管に流量計を設置し、流量制御をすることは粉体・腐食性ガスによる故障が生じやすい為、困難である。また、排気ファンが設置されていない場合であっても、装置の立ち上げ初期は配管圧損等を加味し設備設計を実施していたとしても、時間経過による配管内閉塞などにより、各除害装置への排ガスの分流の流量が均一になされないといった問題が生じる。
【０００７】
特許文献２のように、許容処理量に十分なマージンが取れる場合は、逆流したとしても処理可能なので、並列設置することは可能であるが、上述のように大型の除害装置を用意することになるので、装置コストの観点から好ましくない。
【０００８】
このように、特に大気圧から微負圧における排ガスの分流は、複雑な制御が求められるため、現実的には実施が困難であった。
【０００９】
よって、本発明は、複雑な制御を要せず、複数の除害装置に排ガスを分流可能とする排ガス処理システムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の排ガス処理システムは、排ガス導入経路から導入される排ガスを除害処理する排ガス処理システムにおいて、前記排ガス導入経路から分岐される複数の分岐配管によって連結される複数の除害処理部を有し、前記除害処理部は、除害装置と、該除害装置の前段に設けられる真空発生器とを備えていることを特徴としている。さらに、前記排ガス導入経路と前記分岐配管との間に入口圧力制御部を備え、前記入口圧力制御部は、圧力センサーと、該圧力センサーの指示値が設定値となるように制御する自動制御弁とを備えていることを特徴としている。
（【００１１】以降は省略されています）

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