特許ウォッチ

公開番号2025101136
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-07
出願番号2023217759
出願日2023-12-25
発明の名称流体処理装置
出願人日亜化学工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類B01J 19/12 20060101AFI20250630BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】装置構成を簡素化することを可能とする流体処理装置を提供する。
【解決手段】流体処理装置1Aは、処理対象の流体(水W)が流れる流路20を有する流路部材2と、流路20と区画された空間30A、30Bを形成し、空間30A、30Bと流路20の間に配された光透過部32A、32Bを有する第1カバー部材3A及び第2カバー部材3Bと、第1カバー部材3A及び第2カバー部材3Bにより形成された空間30A、30B内に配置されて、流路20に向けて光を出射する第1光源4A及び第2光源4Bと、第1カバー部材3Aにより形成された空間30A内に配置されて、第1光源4A及び第2光源4Bから流路20に向けて出射された複数の部分光を受光する第1受光部と、を備える。第1受光部5Aは、流路20を通らずに第1受光部5Aに到達する第1部分光と、流路20を通った上で第1受光部5Aに到達する第2部分光とを含む複数の部分光を受光する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
処理対象の流体が流れる流路を有する流路部材と、
前記流路と区画された空間を形成し、前記空間と前記流路の間に配された光透過部を有する１又は複数のカバー部材と、
前記１又は複数のカバー部材により形成された前記空間内に配置されて、前記流路に向けて光を出射する１又は複数の光源と、
前記カバー部材により形成された前記空間内に配置されて、それぞれが前記１又は複数の光源から前記流路に向けて出射された前記光の一部である複数の部分光を受光する第１受光部と、を備え、
前記第１受光部は、
前記流路を通らずに前記第１受光部に到達する第１部分光と、前記流路を通った上で前記第１受光部に到達する第２部分光と、を含む前記複数の部分光を受光する、
流体処理装置。
続きを表示（約 2,200 文字）【請求項２】
前記第１受光部は、
前記第１受光部が配置された前記空間内に配置される前記光源から出射された前記光の一部が前記カバー部材で反射された前記第１部分光と、当該カバー部材の前記光透過部を透過した前記第２部分光と、を受光する、
請求項１に記載の流体処理装置。
【請求項３】
前記流路を挟んで前記光源と対向する位置に配置されて、前記光源から出射され前記流路を通る前記光を反射する反射部材を備え、
前記第１受光部は、
前記第１受光部が配置された前記空間内に配置される前記光源から出射された前記光の一部が前記カバー部材で反射された前記第１部分光と、当該光源から出射された前記光の一部が当該カバー部材の前記光透過部を透過し前記反射部材で反射された前記第２部分光と、を受光する、
請求項１に記載の流体処理装置。
【請求項４】
前記第１受光部で受光された前記光の光量に基づいて、前記１又は複数の光源の異常と、前記流路又は前記光透過部の異常とを検知する異常検知処理を行う異常検知制御部を備える、
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の流体処理装置。
【請求項５】
前記１又は複数のカバー部材は、
それぞれが前記流路を挟んで対向する位置に配置される第１カバー部材及び第２カバー部材を含み、
前記１又は複数の光源は、
前記第１カバー部材により形成される前記空間である第１空間内に配置される第１光源と、前記第２カバー部材により形成される前記空間である第２空間内に配置される第２光源と、を含み、
前記第１受光部は、
前記第１空間内に配置されて、前記第１光源から前記流路に向けて出射された光の一部である前記第１部分光と、前記第２光源から前記流路に向けて出射された光の一部である前記第２部分光と、を受光する、
請求項１又は請求項２に記載の流体処理装置。
【請求項６】
前記第１受光部で受光された前記光の光量に基づいて、前記第１光源の異常と、前記第２光源の異常と、前記流路又は前記光透過部の異常とのうち少なくとも２つの異常を検知する異常検知処理を行う異常検知制御部を備える、
請求項５に記載の流体処理装置。
【請求項７】
前記第１光源により出射される光の出力、及び、前記第２光源により出射される光の出力をそれぞれ制御する光出力制御部を備え、
前記光出力制御部は、
第１期間において、前記第１光源から光を出射させ、かつ、前記第２光源からは光を出射させず、
第２期間において、前記第１光源から光を出射させず、かつ、前記第２光源から光を出射させ、
前記異常検知制御部は、
前記第１期間において、前記第１受光部で受光された前記第１部分光の光量に基づいて、前記第１光源の異常を検知し、
前記第２期間において、前記第１受光部で受光された前記第２部分光の光量に基づいて、前記第２光源の異常と、前記流路又は前記光透過部の異常とうち少なくとも１つの異常を検知する、
請求項６に記載の流体処理装置。
【請求項８】
前記第２空間内に配置された第２受光部を備え、
前記第２受光部は、
前記第２光源から前記流路に向けて出射された光の一部であり、前記流路を通らずに前記第２受光部に到達する第１部分光と、前記第１光源から前記流路に向けて出射された光の一部であり、前記流路を通った上で前記第２受光部に到達する第２部分光と、を含む前記複数の部分光を受光する、
請求項５に記載の流体処理装置。
【請求項９】
前記第１受光部で受光された前記光の光量、及び、前記第２受光部で受光された前記光の光量に基づいて、前記第１光源の異常と、前記第２光源の異常と、前記流路又は前記光透過部の異常とのうち少なくとも２つの異常を検知する異常検知処理を行う異常検知制御部を備える、
請求項８に記載の流体処理装置。
【請求項１０】
前記第１光源により出射される光の出力、及び、前記第２光源により出射される光の出力をそれぞれ制御する光出力制御部を備え、
前記光出力制御部は、
第１期間において、前記第１光源から光を出射させ、かつ、前記第２光源から光を出射させず、
第２期間において、前記第１光源から光を出射させず、かつ、前記第２光源から光を出射させ、
前記異常検知制御部は、
前記第１期間において、前記第１受光部で受光された前記第１部分光の光量、及び、前記第２受光部で受光された前記第２部分光の光量に基づいて、前記第１光源の異常と、前記第１光源から出射される光が通る前記流路又は前記光透過部の異常とを検知し、
前記第２期間において、前記第２受光部で受光された前記第１部分光の光量、及び、前記第１受光部で受光された前記第２部分光の光量に基づいて、前記第２光源の異常と、前記第２光源から出射される光が通る前記流路又は前記光透過部の異常とを検知する、
請求項９に記載の流体処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体処理装置に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、流路を流れる流体に紫外光を照射することで、流体の殺菌処理が行われている。例えば、特許文献１には、光源から出射された紫外光を窓部材の第２面を介して流体に照射する流体処理装置が開示されている。特許文献１に開示された流体処理装置は、紫外光のモニタリング精度を向上させるために、窓部材の第２面とは異なる面から出射される紫外光を受光するように配置された第１受光部と、流路内の流体を通過した紫外光を受光するように配置された第２受光部とを備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１９－０３７４５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示された流体処理装置では、流路を通っていない紫外光を受光する第１受光部と、流路を通った紫外光を受光する第２受光部とを別々に備える必要があった。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、装置構成を簡素化することを可能とする流体処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係る流体処理装置は、
処理対象の流体が流れる流路を有する流路部材と、
前記流路と区画された空間を形成し、前記空間と前記流路の間に配された光透過部を有する１又は複数のカバー部材と、
前記１又は複数のカバー部材により形成された前記空間内に配置されて、前記流路に向けて光を出射する１又は複数の光源と、
前記カバー部材により形成された前記空間内に配置されて、それぞれが前記１又は複数の光源から前記流路に向けて出射された前記光の一部である複数の部分光を受光する第１受光部と、を備え、
前記第１受光部は、
前記流路を通らずに前記第１受光部に到達する第１部分光と、前記流路を通った上で前記第１受光部に到達する第２部分光と、を含む前記複数の部分光を受光する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の上記態様に係る流体処理装置によれば、流路を通っていない第１部分光と、流路を通った第２部分光とが第１受光部にて受光されるので、装置構成を簡素化することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
第１の実施形態に係る流体処理装置１Ａの一例を示す概略断面図である。
図１のＩＩ－ＩＩ線の断面図である。
第１光源４Ａから出射される光の光路を示す概略断面図である。
第２光源４Ｂから出射される光の光路を示す概略断面図である。
第１光源４Ａの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
第１受光部５Ａの光量値ＶＡに基づいて、流路２０又は光透過部３２Ａ、３２Ｂの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
第２光源４Ｂの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
第２受光部５Ｂの光量値ＶＢに基づいて、流路２０又は光透過部３２Ａ、３２Ｂの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
異常検知処理の一例を示すフローチャートである。
第２の実施形態に係る流体処理装置１Ｂの一例を示す概略断面図である。
第１光源４Ａの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
第２光源４Ｂの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
流路２０又は光透過部３２Ａ、３２Ｂの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
第３の実施形態に係る流体処理装置１Ｃの一例を示す概略断面図である。
第１光源４Ａの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
流路２０又は光透過部３２Ａの異常を検知するときの異常検知処理の一例を示すタイミングチャートである。
第４の実施形態に係る流体処理装置１Ｄの一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、本実施形態に係る流体処理装置１Ａ～１Ｄは、本発明の技術思想を具体化するためのものであって、特定的な記載がない限り、本発明を以下のものに限定しない。各図面に示す部材の大きさや位置関係は適宜誇張されたり、部材の一部が簡略化又は省略されていたりする場合もある。
【００１０】
本実施形態では、説明の便宜上、ＸＹＺ直交座標系を採用して説明する。具体的には、流体処理装置１Ａ～１Ｄが備える流路（詳細は後述する）の流れ方向を「Ｚ軸」、流れ方向にそれぞれ直交する二方向を「Ｘ軸」及び「Ｙ軸」とする。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許