特許ウォッチ

公開番号2025108105
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-23
出願番号2024001784
出願日2024-01-10
発明の名称二酸化炭素吸着分離装置
出願人個人
代理人個人
主分類B01D 53/04 20060101AFI20250715BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】二酸化炭素を効率よく吸着し分離できるようにした二酸化炭素吸着分離装置を提供する。
【解決手段】二酸化炭素を含有する被処理ガスが導入されて流通され該被処理ガスにプラズマを作用させるプラズマ処理路10と、石炭灰層が充填内蔵され上記プラズマを作用させた被処理ガスが導入されて上記石炭灰層に流通され上記被処理ガスに含まれる二酸化炭素が上記石炭灰層に吸着されて被処理ガスから分離される吸着処理路20と、該吸着処理路を出た被処理ガスが導入されて所定の圧力で次段のプラズマ処理路に送り出すバファタンク30と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
二酸化炭素を含有する被処理ガスが導入されて流通され該被処理ガスにプラズマを作用させるプラズマ処理路と、石炭灰層が充填内蔵され上記プラズマを作用させた被処理ガスが導入されて上記石炭灰層に流通され上記被処理ガスに含まれる二酸化炭素が上記石炭灰層に吸着されて被処理ガスから分離される吸着処理路と、該吸着処理路を出た被処理ガスが導入されて所定の圧力で次段のプラズマ処理路に送り出すバファタンクと、を備えたことを特徴とする二酸化炭素吸着分離装置。
続きを表示（約 250 文字）【請求項２】
二酸化炭素を含有する被処理ガスが導入されて流通され該被処理ガスにプラズマを作用させるプラズマ処理路と、ゼオライト、イモゴライト及び花崗岩の群から選ばれる鉱物粉層が充填内蔵され上記プラズマを作用させた被処理ガスが導入されて上記鉱物灰層に流通され上記被処理ガスに含まれる二酸化炭素が上記鉱物灰層に吸着されて被処理ガスから分離される吸着処理路と、該吸着処理路を出た被処理ガスが導入されて所定の圧力で次段のプラズマ処理路に送り出すバファタンクと、を備えたことを特徴とする二酸化炭素吸着分離装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この発明は二酸化炭素吸着分離装置に関し、特に二酸化炭素を効率よく吸着し分離できるようにした装置に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
地球温暖化対策として二酸化炭素の排出削減が注目されており、産業界において各種の二酸化炭素除去技術の開発が進められている。
【０００３】
例えば、分離膜を用いて二酸化炭素を分離する方法が知られている（特許文献１、特許文献２）が、膜の製造が非常に困難である。
【０００４】
また、アミン化合物を用いて二酸化炭素を吸着して分離する方法が知られているが、化学薬品を使用する必要がある。
【０００５】
また、酸化カルシウムを主成分とする鉄鋼スラグ粉末を多孔質体に成形し、多孔質成形体に水分を添加して二酸化炭素と酸化カルシウムとの反応を進行させることにより、炭酸カルシウムを多孔質成形体のスラグ粒子間に析出させることにより二酸化炭素を分離するようにした方法が提案されている（非特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０２２－２１１７５号公報
特開２０２１－１４５３１８号公報
【非特許文献】
【０００７】
著者：安江任（日本大学理工学部）、「二酸化炭素の無機化学的プロセスによる固定化」、Journa1 of the Society of Inorganic Materials,Japan,9 (299)、無機マテリアル学会、2002、p192-207
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、非特許文献１記載の方法では鉄鋼スラグ粉末における二酸化ケイ素等の含有量が多く、酸化カルシウムの含有量が４割程度に過ぎないため、この酸化カルシウムの含有量の低さが二酸化炭素の除去にとって不利となる。
【０００９】
本発明はかかる点に鑑み、二酸化炭素を効率よく吸着し分離できるようにした二酸化炭素吸着分離装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで、本発明に係る二酸化炭素吸着分離装置は、二酸化炭素を含有する被処理ガスが導入されて流通され該被処理ガスにプラズマを作用させるプラズマ処理路と、石炭灰層が充填内蔵され上記プラズマを作用させた被処理ガスが導入されて上記石炭灰層に流通され上記被処理ガスに含まれる二酸化炭素が上記石炭灰層に吸着されて被処理ガスから分離される吸着処理路と、該吸着処理路を出た被処理ガスが導入されて所定の圧力で次段のプラズマ処理路に送り出すバファタンクと、を備えたことを特徴とする。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許