TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024176265
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-19
出願番号2023094701
出願日2023-06-08
発明の名称露光装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20241212BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板に対して繋ぎ露光を行う際に基板の基板面上の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における露光量の計測結果と、第1のトレランス値とを互いに比較することによって、非走査方向に配列される第1の非繋ぎ領域と繋ぎ領域とを含む第1の露光領域、及び非走査方向に配列される繋ぎ領域と第2の非繋ぎ領域とを含む第2の露光領域を露光するか判定する制御部を備え、少なくとも一つの位置は、第1の非繋ぎ領域及び第2の非繋ぎ領域における露光量の計測結果から決定される第2のトレランス値と、繋ぎ領域における露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【選択図】 図6
特許請求の範囲【請求項1】
原版及び基板を走査方向に走査しながら前記原版のパターンの像を前記基板の基板面上に投影し、前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持しながら前記走査方向と前記基板面内において前記走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、
該基板ステージによって保持されている前記基板の前記基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、
前記露光を制御する制御部と、
を備え、
前記基板面上の第1の露光領域は、前記非走査方向に配列される第1の非繋ぎ領域と第1の繋ぎ領域とを含み、
前記基板面上の第2の露光領域は、前記非走査方向に配列される前記第1の繋ぎ領域に重なる第2の繋ぎ領域と第2の非繋ぎ領域とを含み、
前記制御部は、前記第1の繋ぎ領域及び前記第2の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における前記計測部による前記露光量の計測結果と、第1のトレランス値とを互いに比較することによって前記第1の露光領域及び前記第2の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、
前記少なくとも一つの位置は、前記第1の非繋ぎ領域及び前記第2の非繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果から決定される第2のトレランス値と、前記第1の繋ぎ領域及び前記第2の繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光装置。
続きを表示(約 2,400 文字)【請求項2】
前記第2のトレランス値は、前記第1の露光領域を露光する際の前記露光装置の第1の構成において前記基板ステージ上の前記第1の露光領域に対応する第1の領域を露光させる第1の露光の間に前記第1の領域において計測される前記露光量を積算することによって取得される積算露光量と、前記第2の露光領域を露光する際の前記露光装置の第2の構成において前記基板ステージ上の前記第2の露光領域に対応する第2の領域を露光させる第2の露光の際に前記第2の領域において取得される前記積算露光量とのうち、前記第1の非繋ぎ領域及び前記第2の非繋ぎ領域に対応する第3の領域において取得される前記積算露光量の最大値である第2のプラス側トレランス値と、前記第3の領域において取得される前記積算露光量の最小値である第2のマイナス側トレランス値とを含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
【請求項3】
前記少なくとも一つの位置は、前記非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が前記第2のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち該合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第2のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち該合算積算露光量が最も小さい位置とを含み、
前記合算積算露光量は、前記第1の露光の際に取得される第1の積算露光量と、前記第2の露光の際に取得される第2の積算露光量とを合算することで取得されることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
【請求項4】
前記判定工程は、
前記第1の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第3の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第1の積算露光量を取得する工程と、
前記第2の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第4の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第2の積算露光量を取得する工程と、
前記少なくとも一つの位置における前記第1の積算露光量及び前記第2の積算露光量の合算積算露光量と前記第1のトレランス値とを互いに比較する工程とを含むことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
【請求項5】
前記第1のトレランス値は、前記露光装置の露光性能に基づいて決定されると共に、前記第2のプラス側トレランス値より大きい第1のプラス側トレランス値と、前記露光性能に基づいて決定されると共に、前記第2のマイナス側トレランス値より小さい第1のマイナス側トレランス値とを含み、
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第1のプラス側トレランス値以下であり、且つ前記第1のマイナス側トレランス値以上である場合に前記制御部によって前記第1の露光領域及び前記第2の露光領域を露光させる工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
【請求項6】
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第1のプラス側トレランス値を上回っているか、若しくは前記第1のマイナス側トレランス値を下回っている場合に前記露光装置の構成を調整する調整工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
【請求項7】
前記調整工程は、前記第1の繋ぎ領域及び前記第2の繋ぎ領域に対応する第4の領域内の複数の位置それぞれにおける前記合算積算露光量の最大値と前記第3の領域における前記積算露光量の平均値との間の差の絶対値、及び前記複数の位置それぞれにおける前記合算積算露光量の最小値と該平均値との間の差の絶対値が小さくなるように前記露光装置の構成を調整する工程を含むことを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
【請求項8】
前記複数の位置は、前記少なくとも一つの位置であることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
【請求項9】
前記判定工程は、前記第1の露光領域を露光する際の前記露光装置の第1の構成において前記基板ステージ上の前記第1の露光領域に対応する第1の領域を露光させる第1の露光の間に前記第1の繋ぎ領域及び前記第2の繋ぎ領域に対応する第4の領域において計測される前記露光量を積算することによって取得される第1の積算露光量と、前記第2の露光領域を露光する際の前記露光装置の第2の構成において前記基板ステージ上の前記第2の露光領域に対応する第2の領域を露光させる第2の露光の際に前記第4の領域において取得される第2の積算露光量との合算積算露光量と、前記第2のトレランス値とを互いに比較することで前記少なくとも一つの位置を決定する決定工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
【請求項10】
前記第2のトレランス値は、前記第1の露光の際に前記第1の領域において取得される前記積算露光量と、前記第2の露光の際に前記第2の領域において取得される前記積算露光量とのうち、前記第1の非繋ぎ領域及び前記第2の非繋ぎ領域に対応する第3の領域において取得される前記積算露光量の最大値である第2のプラス側トレランス値と、前記第3の領域において取得される前記積算露光量の最小値である第2のマイナス側トレランス値とを含み、
前記決定工程は、前記第4の領域内において、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第2のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第2のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も小さい位置とを決定する工程を含むことを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示(約 2,000 文字)【背景技術】
【0002】
従来、露光装置においては基板上の隣接する露光領域を互いに部分的に重複させながら複数の当該露光領域それぞれに対して露光を行うことで、当該基板上の大きい領域にパターンを形成する、いわゆる繋ぎ露光が行われている。
そしてそのような繋ぎ露光を行う際には、隣接する露光領域において重複することで形成される繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制することが求められる。
【0003】
特許文献1は、照明光学系と原版との間に設けられた露光光が通過する可変スリットの開口の形状を調整することで、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2017-53888号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
一方、露光装置において繋ぎ露光を行う際に繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制するためには、当該繋ぎ領域における当該露光量を計測する必要がある。
このとき、繋ぎ領域内の多数の位置において露光量の計測を行うと当該計測に要する時間が増大することでスループットが低下してしまう。
【0006】
そこで本発明は、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板を保持しながら走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、露光を制御する制御部とを備え、基板面上の第1の露光領域は、非走査方向に配列される第1の非繋ぎ領域と第1の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第2の露光領域は、非走査方向に配列される第1の繋ぎ領域に重なる第2の繋ぎ領域と第2の非繋ぎ領域とを含み、制御部は、第1の繋ぎ領域及び第2の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第1のトレランス値とを互いに比較することによって第1の露光領域及び第2の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、少なくとも一つの位置は、第1の非繋ぎ領域及び第2の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第2のトレランス値と、第1の繋ぎ領域及び第2の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
第一実施形態に係る露光装置の模式的断面図。
第一実施形態に係る露光装置において行われる繋ぎ露光を説明する上面図。
第一実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による積算露光量及び合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
第一実施形態に係る露光装置において繋ぎ露光を行う際の可変スリット及び露光量調整板と露光領域との間の配置関係を示す上面図。
第一実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
第一実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域の露光量を調整するか判定する処理、及び当該判定する処理の際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャート。
第二実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
第二実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
また以下では、投影光学系4の光軸に平行な方向をZ方向とする。また当該Z方向に垂直な断面内(基板面内)において、原版3及び基板16それぞれの走査方向をY方向、当該Y方向に直交する非走査方向をX方向と定義する。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

キヤノン株式会社
電子機器
4日前
キヤノン株式会社
撮像装置
5日前
キヤノン株式会社
撮像装置
4日前
キヤノン株式会社
制御装置
1か月前
キヤノン株式会社
現像装置
4日前
キヤノン株式会社
測距装置
19日前
キヤノン株式会社
撮像装置
19日前
キヤノン株式会社
撮像装置
18日前
キヤノン株式会社
定着装置
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
1か月前
キヤノン株式会社
記録装置
1か月前
キヤノン株式会社
電子機器
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
18日前
キヤノン株式会社
記録装置
1か月前
キヤノン株式会社
表示装置
1か月前
キヤノン株式会社
電子機器
1か月前
キヤノン株式会社
電子機器
1か月前
キヤノン株式会社
光学機器
1か月前
キヤノン株式会社
電子機器
27日前
キヤノン株式会社
撮像装置
12日前
キヤノン株式会社
記録装置
4日前
キヤノン株式会社
記録装置
1か月前
キヤノン株式会社
表示装置
1か月前
キヤノン株式会社
表示装置
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
1か月前
キヤノン株式会社
半導体装置
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
25日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
25日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
26日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
4日前
キヤノン株式会社
情報処理装置
25日前
キヤノン株式会社
情報処理装置
25日前
キヤノン株式会社
画像表示装置
25日前
キヤノン株式会社
画像読取装置
25日前
キヤノン株式会社
画像表示装置
26日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
続きを見る