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公開番号2024176265
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-19
出願番号2023094701
出願日2023-06-08
発明の名称露光装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20241212BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板に対して繋ぎ露光を行う際に基板の基板面上の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における露光量の計測結果と、第1のトレランス値とを互いに比較することによって、非走査方向に配列される第1の非繋ぎ領域と繋ぎ領域とを含む第1の露光領域、及び非走査方向に配列される繋ぎ領域と第2の非繋ぎ領域とを含む第2の露光領域を露光するか判定する制御部を備え、少なくとも一つの位置は、第1の非繋ぎ領域及び第2の非繋ぎ領域における露光量の計測結果から決定される第2のトレランス値と、繋ぎ領域における露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
原版及び基板を走査方向に走査しながら前記原版のパターンの像を前記基板の基板面上に投影し、前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持しながら前記走査方向と前記基板面内において前記走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、
該基板ステージによって保持されている前記基板の前記基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、
前記露光を制御する制御部と、
を備え、
前記基板面上の第１の露光領域は、前記非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、
前記基板面上の第２の露光領域は、前記非走査方向に配列される前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、
前記制御部は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における前記計測部による前記露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、
前記少なくとも一つの位置は、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域における前記計測部による前記露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 2,400 文字）【請求項２】
前記第２のトレランス値は、前記第１の露光領域を露光する際の前記露光装置の第１の構成において前記基板ステージ上の前記第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に前記第１の領域において計測される前記露光量を積算することによって取得される積算露光量と、前記第２の露光領域を露光する際の前記露光装置の第２の構成において前記基板ステージ上の前記第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に前記第２の領域において取得される前記積算露光量とのうち、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される前記積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、前記第３の領域において取得される前記積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記少なくとも一つの位置は、前記非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち該合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向において互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち該合算積算露光量が最も小さい位置とを含み、
前記合算積算露光量は、前記第１の露光の際に取得される第１の積算露光量と、前記第２の露光の際に取得される第２の積算露光量とを合算することで取得されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記判定工程は、
前記第１の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第３の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第１の積算露光量を取得する工程と、
前記第２の構成において前記少なくとも一つの位置を露光させる第４の露光を行うことで前記少なくとも一つの位置における第２の積算露光量を取得する工程と、
前記少なくとも一つの位置における前記第１の積算露光量及び前記第２の積算露光量の合算積算露光量と前記第１のトレランス値とを互いに比較する工程とを含むことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１のトレランス値は、前記露光装置の露光性能に基づいて決定されると共に、前記第２のプラス側トレランス値より大きい第１のプラス側トレランス値と、前記露光性能に基づいて決定されると共に、前記第２のマイナス側トレランス値より小さい第１のマイナス側トレランス値とを含み、
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第１のプラス側トレランス値以下であり、且つ前記第１のマイナス側トレランス値以上である場合に前記制御部によって前記第１の露光領域及び前記第２の露光領域を露光させる工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記判定工程は、前記少なくとも一つの位置における前記合算積算露光量が前記第１のプラス側トレランス値を上回っているか、若しくは前記第１のマイナス側トレランス値を下回っている場合に前記露光装置の構成を調整する調整工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記調整工程は、前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域内の複数の位置それぞれにおける前記合算積算露光量の最大値と前記第３の領域における前記積算露光量の平均値との間の差の絶対値、及び前記複数の位置それぞれにおける前記合算積算露光量の最小値と該平均値との間の差の絶対値が小さくなるように前記露光装置の構成を調整する工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記複数の位置は、前記少なくとも一つの位置であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記判定工程は、前記第１の露光領域を露光する際の前記露光装置の第１の構成において前記基板ステージ上の前記第１の露光領域に対応する第１の領域を露光させる第１の露光の間に前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域に対応する第４の領域において計測される前記露光量を積算することによって取得される第１の積算露光量と、前記第２の露光領域を露光する際の前記露光装置の第２の構成において前記基板ステージ上の前記第２の露光領域に対応する第２の領域を露光させる第２の露光の際に前記第４の領域において取得される第２の積算露光量との合算積算露光量と、前記第２のトレランス値とを互いに比較することで前記少なくとも一つの位置を決定する決定工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２のトレランス値は、前記第１の露光の際に前記第１の領域において取得される前記積算露光量と、前記第２の露光の際に前記第２の領域において取得される前記積算露光量とのうち、前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域に対応する第３の領域において取得される前記積算露光量の最大値である第２のプラス側トレランス値と、前記第３の領域において取得される前記積算露光量の最小値である第２のマイナス側トレランス値とを含み、
前記決定工程は、前記第４の領域内において、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のプラス側トレランス値を上回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も大きい位置と、前記非走査方向に互いに連続すると共に、それぞれにおける前記合算積算露光量が前記第２のマイナス側トレランス値を下回る複数の位置のうち前記合算積算露光量が最も小さい位置とを決定する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、露光装置においては基板上の隣接する露光領域を互いに部分的に重複させながら複数の当該露光領域それぞれに対して露光を行うことで、当該基板上の大きい領域にパターンを形成する、いわゆる繋ぎ露光が行われている。
そしてそのような繋ぎ露光を行う際には、隣接する露光領域において重複することで形成される繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制することが求められる。
【０００３】
特許文献１は、照明光学系と原版との間に設けられた露光光が通過する可変スリットの開口の形状を調整することで、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１７－５３８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、露光装置において繋ぎ露光を行う際に繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制するためには、当該繋ぎ領域における当該露光量を計測する必要がある。
このとき、繋ぎ領域内の多数の位置において露光量の計測を行うと当該計測に要する時間が増大することでスループットが低下してしまう。
【０００６】
そこで本発明は、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る露光装置は、原版及び基板を走査方向に走査しながら原版のパターンの像を基板の基板面上に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板を保持しながら走査方向と基板面内において走査方向に垂直な非走査方向とに移動可能な基板ステージと、基板ステージによって保持されている基板の基板面上の所定の位置における露光量を計測する計測部と、露光を制御する制御部とを備え、基板面上の第１の露光領域は、非走査方向に配列される第１の非繋ぎ領域と第１の繋ぎ領域とを含み、基板面上の第２の露光領域は、非走査方向に配列される第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域と第２の非繋ぎ領域とを含み、制御部は、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域内の少なくとも一つの位置における計測部による露光量の計測結果と、第１のトレランス値とを互いに比較することによって第１の露光領域及び第２の露光領域を露光するか判定する判定工程を行い、少なくとも一つの位置は、第１の非繋ぎ領域及び第２の非繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果から決定される第２のトレランス値と、第１の繋ぎ領域及び第２の繋ぎ領域における計測部による露光量の計測結果とを互いに比較することで決定されることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、繋ぎ領域における露光量のばらつきを抑制しつつスループットの低下を抑制することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第一実施形態に係る露光装置の模式的断面図。
第一実施形態に係る露光装置において行われる繋ぎ露光を説明する上面図。
第一実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による積算露光量及び合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
第一実施形態に係る露光装置において繋ぎ露光を行う際の可変スリット及び露光量調整板と露光領域との間の配置関係を示す上面図。
第一実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
第一実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域の露光量を調整するか判定する処理、及び当該判定する処理の際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャート。
第二実施形態に係る露光装置での繋ぎ露光による合算積算露光量の非走査方向位置依存性を示した図。
第二実施形態に係る露光装置において繋ぎ領域の露光量を調整するか判定する際に積算露光量が計測される特徴点を決定する処理を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
また以下では、投影光学系４の光軸に平行な方向をＺ方向とする。また当該Ｚ方向に垂直な断面内（基板面内）において、原版３及び基板１６それぞれの走査方向をＹ方向、当該Ｙ方向に直交する非走査方向をＸ方向と定義する。
（【００１１】以降は省略されています）

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