特許ウォッチ

公開番号2024169040
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-05
出願番号2023086215
出願日2023-05-25
発明の名称電気光学装置および電子機器
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G09F 9/30 20060101AFI20241128BHJP(教育;暗号方法;表示;広告;シール)
要約【課題】レンズ形成層を貫通する導電部材を介した電気的導通の信頼性を向上できる電気光学装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置は、画素電極10と、周辺電極と、画素電極10と基体90との間のトランジスター1と、画素電極10とトランジスター1との間の中継層30と、周辺電極と基体90との間の中継層130と、画素電極10と中継層30との間に設けられ、レンズ面34sとコンタクトホール33とを有するレンズ形成層35と、周辺電極と中継層130との間に設けられ、レンズ面134sとコンタクトホール133とを有するレンズ形成層135と、コンタクトホール33内に設けられ、画素電極10と中継層30とを電気的に接続するコンタクトプラグ31と、コンタクトホール133内に設けられ、周辺電極と中継層130とを電気的に接続するコンタクトプラグ131と、を有する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気光学層と、を備え、
前記第１基板は、
表示領域に設けられた画素電極と、
周辺領域に設けられた周辺電極と、
前記画素電極と前記第１基板との間に設けられたトランジスターと、
前記画素電極と前記トランジスターとの間に設けられた第１中継電極と、
前記周辺電極と前記第１基板との間に設けられ、前記第１中継電極と同層の第２中継電極と、
前記画素電極と前記第１中継電極との間に設けられ、第１レンズと第１コンタクトホールとを有する第１レンズ形成層と、
前記周辺電極と前記第２中継電極との間に設けられ、第２レンズと第２コンタクトホールとを有し、前記第１レンズ形成層と同層の第２レンズ形成層と、
前記第１コンタクトホール内に設けられ、前記画素電極と前記第１中継電極とを電気的に接続する第１導電部材と、
前記第２コンタクトホール内に設けられ、前記周辺電極と前記第２中継電極とを電気的に接続する第２導電部材と、を有する、
電気光学装置。
続きを表示（約 850 文字）【請求項２】
前記第１レンズは、所定のピッチで配置され、
前記第２レンズは、前記所定のピッチで配置される、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１レンズは、所定のサイズを有し、
前記第２レンズは、前記所定のサイズを有する、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１レンズは、所定の形状を有し、
前記第２レンズは、前記所定の形状を有する、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１導電部材は、所定のピッチで配置され、
前記第２導電部材は、前記所定のピッチで配置される、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第１コンタクトホールは、所定のアスペクト比を有し、
前記第２コンタクトホールは、前記所定のアスペクト比を有する、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記所定のアスペクト比は、３以上１３以下である、
請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記第１基板は、
前記周辺領域において、前記第２レンズ形成層と前記第１基板との間に設けられた光学読み取りマークと、を有し、
前記光学読み取りマークは、平面視で、前記第２レンズと重ならない、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記画素電極は、平面視において、所定のサイズを有し、
前記周辺電極は、平面視において、前記所定のサイズを有する、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記画素電極は、平面視において、第１のサイズを有し、
前記周辺電極は、平面視において、前記第１のサイズより大きい第２のサイズを有する、
請求項１に記載の電気光学装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置および電気光学装置を備えた電子機器に関する。
続きを表示（約 2,600 文字）【背景技術】
【０００２】
従来の電気光学装置としては、例えば、特許文献１に記載されたものが知られている。
特許文献１には、素子基板の基板本体上に設けられた画素電極と、画素電極と基板本体との間に設けられたトランジスターと、画素電極とトランジスターとの間に設けられたレンズと、レンズが設けられた層を貫通して設けられ、画素電極とトランジスターとを電気的に接続する接続部材と、を備えた電気光学装置が、記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２１－１６７８８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
画素電極とトランジスターとの間のレンズが設けられた層が厚いため、レンズが設けられた層を貫通する接続部材を設けるためには、レンズが設けられた層に高アスペクト比のコンタクトホールを形成する必要がある。
しかし、高アスペクト比のコンタクトホールを形成する工程は、エッチングに長い時間を要するため、加工の難易度が高い、という課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願の一態様に係る電気光学装置は、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気光学層と、を備え、前記第１基板は、表示領域に設けられた画素電極と、周辺領域に設けられた周辺電極と、前記画素電極と前記第１基板との間に設けられたトランジスターと、前記画素電極と前記トランジスターとの間に設けられた第１中継電極と、前記周辺電極と前記第１基板との間に設けられ、前記第１中継電極と同層の第２中継電極と、前記画素電極と前記第１中継電極との間に設けられ、第１レンズと第１コンタクトホールとを有する第１レンズ形成層と、前記周辺電極と前記第２中継電極との間に設けられ、第２レンズと第２コンタクトホールとを有し、前記第１レンズ形成層と同層の第２レンズ形成層と、前記第１コンタクトホール内に設けられ、前記画素電極と前記第１中継電極とを電気的に接続する第１導電部材と、前記第２コンタクトホール内に設けられ、前記周辺電極と前記第２中継電極とを電気的に接続する第２導電部材と、を有する。
【０００６】
本願の一態様に係る電気光学装置は、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた電気光学層と、を備え、前記第１基板は、表示領域に設けられた画素電極と、周辺領域に設けられた周辺電極と、前記画素電極と前記第１基板との間に設けられたトランジスターと、前記画素電極と前記トランジスターとの間に設けられた第１中継電極と、前記周辺電極と前記第１基板との間に設けられ、前記第１中継電極と同層の第２中継電極と、前記画素電極と前記第１中継電極との間に設けられた第３中継電極と、前記周辺電極と前記第２中継電極との間に設けられ、前記第３中継電極と同層の第４中継電極と、前記第３中継電極と前記第１中継電極との間に設けられ、第１レンズと第１コンタクトホールとを有する第１レンズ形成層と、前記第４中継電極と前記第２中継電極との間に設けられ、第２レンズと第２コンタクトホールとを有し、前記第１レンズ形成層と同層の第２レンズ形成層と、前記第１コンタクトホール内に設けられ、前記画素電極と前記第１中継電極とを電気的に接続する第１導電部材と、前記第２コンタクトホール内に設けられ、前記周辺電極と前記第２中継電極とを電気的に接続する第２導電部材と、を有する。
【０００７】
本願の一態様に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
実施形態１に係る電気光学装置の平面図。
図１のＡ－Ａ線に沿う電気光学装置の断面図。
素子基板の電気的な構成を示す等価回路図。
素子基板の表示領域の断面構造を示す説明図。
素子基板の周辺領域の断面構造を示す説明図。
素子基板の表示領域の一部を示す平面図。
図６のＣ－Ｃ線に沿う断面構造を示す説明図。
変形例１に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
変形例２に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
変形例３に係り、図１のＢ－Ｂ線に沿う断面構造を示す説明図。
変形例４に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
変形例５に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
変形例６に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
変形例７に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
実施形態２に係る素子基板の表示領域の断面構造を示す説明図。
実施形態２に係る素子基板の周辺領域の断面構造を示す説明図。
変形例８に係る周辺領域の断面構造を示す説明図。
実施形態３に係る電子機器の一例を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
なお、以下の各図面においては各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
また、以下では、説明の便宜上、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸、およびＺ軸を適宜用いて説明する。また、Ｘ軸に沿う一方向をＸ１方向と表記し、Ｘ１方向とは反対の方向をＸ２方向と表記する。同様に、Ｙ軸に沿う一方向をＹ１方向と表記し、Ｙ１方向とは反対の方向をＹ２方向と表記する。Ｚ軸に沿う一方向をＺ１方向と表記し、Ｚ１方向とは反対の方向をＺ２方向と表記する。また、以下では、Ｚ１方向またはＺ２方向に見ることを「平面視」とし、Ｚ軸を含む断面に対して垂直方向から見ることを「断面視」とする。
【００１０】
さらに、以下の説明において、例えば基板に対して、「基板上に」との記載は、基板の上に接して配置される場合、基板の上に他の構造物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接して配置され、一部が他の構造物を介して配置される場合のいずれかを表すものとする。また、「基板の上面」との記載は、基板のＺ１方向側の面を示すものとする。
（【００１１】以降は省略されています）

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