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公開番号2024166325
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-28
出願番号2024157538,2023118203
出願日2024-09-11,2018-05-15
発明の名称載置台及びプラズマ処理装置用部品
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人弁理士法人ITOH
主分類H01L 21/683 20060101AFI20241121BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】部品の製作時のリードタイムを短縮することを目的とする。
【解決手段】導電性材料から形成される基台と、前記基台の上面に配置され、セラミックス材料から形成される静電チャックと、前記基台と前記静電チャックとの間に設けられる境界層と、を備え、前記境界層は、前記導電性材料と前記セラミックス材料との混合物を含み、前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記境界層において前記基台から前記静電チャックに向かって変化する、載置台。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
導電性材料から形成される基台と、
前記基台の上面に配置され、セラミックス材料から形成される静電チャックと、
前記基台と前記静電チャックとの間に設けられる境界層と、を備え、
前記境界層は、前記導電性材料と前記セラミックス材料との混合物を含み、
前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記境界層において前記基台から前記静電チャックに向かって変化する、
載置台。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記基台から前記静電チャックに向かって徐々に減少する、
請求項１に記載の載置台。
【請求項３】
前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記基台から前記静電チャックに向かって線形的に減少する、
請求項２に記載の載置台。
【請求項４】
前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記基台から前記静電チャックに向かってステップ状に減少する、
請求項２に記載の載置台。
【請求項５】
前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記静電チャックに向かって１００％から０％まで減少する、
請求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載の載置台。
【請求項６】
前記境界層は、融解固化により形成される、
請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の載置台。
【請求項７】
前記導電性材料は、アルミニウム合金、窒化アルミニウム、炭化ケイ素又はチタンであり、
前記セラミックス材料は、酸化アルミニウム又は炭化ケイ素である、
請求項２乃至請求項６のいずれか１項に記載の載置台。
【請求項８】
第１の材料から形成される第１の部品と、
第２の材料から形成される第２の部品と、
前記第１の部品と前記第２の部品との間に設けられる境界層と、を備え、
前記境界層は、前記第１の材料と前記第２の材料との混合物を含み、
前記混合物における前記第１の材料の前記第２の材料に対する配合率が前記境界層において前記第１の部品から前記第２の部品に向かって変化する、
プラズマ処理装置用部品。
【請求項９】
前記混合物における前記第１の材料の前記第２の材料に対する配合率が前記第１の部品から前記第２の部品に向かって徐々に減少する、
請求項８に記載のプラズマ処理装置用部品。
【請求項１０】
前記混合物における前記第１の材料の前記第２の材料に対する配合率が前記第１の部品から前記第２の部品に向かって線形的に減少する、
請求項９に記載のプラズマ処理装置用部品。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、載置台及びプラズマ処理装置用部品に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマ処理装置に設けられる部品は、高機能化を図るために構造が複雑になっており、異なる部材を接着したり、接合したりして製作される場合がある(例えば、特許文献1を参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１８－４６１８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
かかる部品の製作においては、中空構造等の複雑な構造があり、長期の生産期間及び開発期間が必要になるため、部品製作時のリードタイムの増加が課題となる。部品の製造工程における工数を減らし、リードタイムを短縮することが求められている。
【０００５】
上記課題に対して、一側面では、部品の製作時のリードタイムを短縮することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、一の態様によれば、導電性材料から形成される基台と、前記基台の上面に配置され、セラミックス材料から形成される静電チャックと、前記基台と前記静電チャックとの間に設けられる境界層と、を備え、前記境界層は、前記導電性材料と前記セラミックス材料との混合物を含み、前記混合物における前記導電性材料の前記セラミックス材料に対する配合率が前記境界層において前記基台から前記静電チャックに向かって変化する、載置台が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
一の側面によれば、部品の製作時のリードタイムを短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
一実施形態に係るプラズマ処理装置の一例を示す図。
図１に示すプラズマ処理装置の載置台の一部を拡大して示す図。
一実施形態に係る３Ｄプリンタの構成の一例を示す図。
一実施形態に係る部品の形成処理の一例を示すフローチャート。
一実施形態に係る部品の形成方法を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本開示を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成については、同一の符号を付することにより重複した説明を省く。
【００１０】
［プラズマ処理装置］
図１に示すプラズマ処理装置１００は、容量結合型のプラズマ処理装置である。プラズマ処理装置１００は、処理容器１１２及び載置台１１６を備えている。処理容器１１２は、略円筒形状を有しており、その内部空間を処理室１１２ｃとして提供している。処理容器１１２は、例えば、アルミニウムから構成されている。処理容器１１２の内部空間側の表面には、アルマイト膜、及び／又は、酸化イットリウム膜といった耐プラズマ性を有するセラミックス製の皮膜が形成されている。処理容器１１２は接地されている。処理容器１１２の側壁には、ウェハＷを処理室１１２ｃに搬入し、処理室１１２ｃから搬出するための開口１１２ｐが形成されている。開口１１２ｐは、ゲートバルブＧＶによって開閉することが可能となっている。
（【００１１】以降は省略されています）

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