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公開番号2024129957
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-30
出願番号2023039389
出願日2023-03-14
発明の名称電気光学装置、および電子機器
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G09F 9/30 20060101AFI20240920BHJP(教育;暗号方法;表示;広告;シール)
要約【課題】品質信頼性の低下が抑制された電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に設けられる周辺領域とを有する電気光学装置であって、第1基板と、前記第1基板に対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、前記第1基板および前記第2基板の一方または両方は、前記周辺領域に設けられる遮光層と、前記周辺領域に設けられる反射層と、を備え、前記反射層の可視光に対する反射率は、前記遮光層の可視光に対する反射率よりも高く、前記遮光層は、前記反射層よりも前記表示領域側に配置される。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に設けられる周辺領域とを有する電気光学装置であって、
第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、
前記第１基板および前記第２基板の一方または両方は、
前記周辺領域に設けられる遮光層と、
前記周辺領域に設けられる反射層と、を備え、
前記反射層の可視光に対する反射率は、前記遮光層の可視光に対する反射率よりも高く、
前記遮光層は、前記反射層よりも前記表示領域側に配置される、
ことを特徴とする電気光学装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記遮光層と前記反射層とは、互いに異なる層に設けられる、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記遮光層と前記反射層とは接触しており、
前記遮光層の平面積は、前記遮光層の平面積よりも小さい、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記反射層は、アルミニウムを含み、
前記遮光層は、窒化チタン、タングステン、またはタングステンシリサイドを含む、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１基板および前記第２基板のそれぞれは、前記反射層および前記遮光層を有する、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第１基板に設けられる前記遮光層は、前記第２基板に設けられる前記反射層よりも前記表示領域側に位置する部分を含む、
請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記周辺領域に設けられるトランジスターをさらに有し、
前記反射層は、前記周辺領域の前記遮光層よりも光の入射側に配置され、かつ、平面視で前記トランジスターと重なる、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記第１基板は、
前記表示領域に設けられた複数の画素電極と、
前記周辺領域に設けられ、前記複数の画素電極の外側に位置する複数のダミー画素電極と、をさらに備え、
前記遮光層は、平面視で前記複数のダミー画素電極の一部または全部に重なる部分を含む、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記第１基板は、前記表示領域に設けられるトランジスターと、
前記トランジスターに対応して設けられる画素電極と、
前記トランジスターと前記画素電極との間の層に配置される中継電極と、
前記中継電極と前記画素電極との間の層を貫通する貫通孔の内部に設けられ、前記中継電極と前記画素電極とを電気的に接続するコンタクトプラグと、
前記中継電極と前記画素電極との間の層に配置される第２反射層と、
を備える、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記反射層は、第１反射層であり、
前記第１基板は、前記第１反射層を有し、
前記第１反射層は、前記第２反射層と同層に配置される、
請求項９に記載の電気光学装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、および電子機器に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
プロジェクター等の電子機器には、例えば、画素ごとに光学的特性を変更可能な液晶表示装置等の電気光学装置が用いられる。当該電気光学装置の例として、特許文献１に記載の電気光学装置が知られている。
【０００３】
当該文献の電気光学装置は、第１基板と第２基板とこれら基板の間に配置された液晶層とを含む。当該電気光学装置には、表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とが設けられる。また、第１基板の表示領域には、トランジスターおよび画素電極が設けられる。第２基板の表示領域には、対向電極が設けられる。
【０００４】
また、第１基板の周辺領域には、導電膜が設けられる。導電膜は、遮光性を有しており、周辺領域における光漏れを防止するために設けられる。当該導電膜は、アルミニウム膜と、光吸収性を有する窒化チタン膜との積層体で構成される。また、第２基板の周辺領域には、見切り部が設けられる。見切り部によって、第１基板同様に、周辺領域における光漏れを防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１７－０８３６７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
当該導電体および見切り部が設けられることで、周辺領域における光漏れが抑制される反面、当該導電体および見切り部が光を吸収することで、第１基板および第２基板の温度が上昇してしまう。このため、光漏れを抑制しつつ、温度上昇を抑制することが難しい。この結果、電気光学装置の品質信頼性が低下するおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置の一態様は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に設けられる周辺領域とを有する電気光学装置であって、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、前記第１基板および前記第２基板の一方または両方は、前記周辺領域に設けられる遮光層と、前記周辺領域に設けられる反射層と、を備え、前記反射層の可視光に対する反射率は、前記遮光層の可視光に対する反射率よりも高く、前記遮光層は、前記反射層よりも前記表示領域側に配置される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
実施形態に係る電気光学装置の平面図である。
図１に示す電気光学装置のＡ－Ａ線の断面図である。
図１の第１基板の電気的な構成を示す等価回路図である。
図２の電気光学装置の周辺領域における断面構造を示す図である。
図４の第１基板が有する遮光層および反射層の平面的な配置を示す図である。
図４の第２基板が有する遮光層および反射層の平面的な配置を示す図である。
図４の電気光学装置の周辺領域における光路を説明するための図である。
図２の画素電極および第２トランジスターの平面的な配置を示す図である。
図２の第１基板の表示領域における断面構造を示す図である。
図９の第２反射層の平面図である。
変形例の電気光学装置の周辺領域における断面構造を示す図である。
電子機器の一例であるパーソナルコンピューターを示す斜視図である。
電子機器の一例であるスマートフォンを示す平面図である。
電子機器の一例であるプロジェクターを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態を説明する。なお、図面において各部の寸法または縮尺は実際と適宜に異なり、理解を容易にするために模式的に示す部分もある。また、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られない。
【００１０】
Ａ．電気光学装置１００
Ａ－１．電気光学装置１００の概要
図１は、実施形態に係る電気光学装置１００の平面図である。図２は、図１に示す電気光学装置１００のＡ－Ａ線の断面図である。以下では、説明の便宜上、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を適宜用いて説明する。また、Ｘ軸に沿う一方向をＸ１方向と表記し、Ｘ１方向とは反対の方向をＸ２方向と表記する。同様に、Ｙ軸に沿う一方向をＹ１方向と表記し、Ｙ１方向とは反対の方向をＹ２方向と表記する。Ｚ軸に沿う一方向をＺ１方向と表記し、Ｚ１方向とは反対の方向をＺ２方向と表記する。
（【００１１】以降は省略されています）

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