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公開番号2024127348
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-20
出願番号2023036455
出願日2023-03-09
発明の名称洗浄装置
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人東京アルパ特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20240912BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ウェーハの乾燥を防止しながら洗浄する手法を確立する。
【解決手段】回転するチャックテーブル20に保持されたウェーハ100の中心に、乾燥防止ノズル52から連続的に液体L1を供給する。これにより、ウェーハ100の回転による遠心力によって、ウェーハ100の中心から外周に向かって液体L1が流れ続ける。このため、たとえば洗浄ノズル42がウェーハ100の外周側に洗浄水W1を噴射しているときであっても、ウェーハ100の内側が乾燥することを抑制することができる。このように、ウェーハ100の中心に供給される液体L1によりウェーハ100が乾燥することを抑制しながら、洗浄水W1によってウェーハ100を洗浄することが可能である。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
板状の被加工物を洗浄する洗浄装置であって、
保持面に垂直な回転軸を有するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された該被加工物を洗浄するための洗浄水を供給する洗浄ノズルと、
該洗浄ノズルを該保持面と平行方向に移動させる移動軸と、
該チャックテーブルに保持された該被加工物の該回転軸と重なる位置に液体を供給する乾燥防止ノズルと、を備え、
該洗浄ノズルは、該チャックテーブルの該回転軸から傾くように形成された噴射口を含んでいる、
洗浄装置。
続きを表示（約 280 文字）【請求項２】
請求項１記載の洗浄装置を使用して、板状の被加工物を洗浄する洗浄方法であって、
該被加工物を該チャックテーブルによって保持する保持ステップと、
該チャックテーブルに保持された該被加工物の該回転軸と重なる位置に向かって該乾燥防止ノズルから液体を供給するとともに、該洗浄ノズルを該保持面と平行方向に移動させながら該被加工物の全面を洗浄する洗浄ステップと、
を備える洗浄方法。
【請求項３】
該洗浄ステップの後に、該被加工物を乾燥させる乾燥ステップ、を更に備える、
請求項２記載の洗浄方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば半導体デバイスの製造プロセスでは、半導体ウェーハの表面にＩＣやＬＳＩ等の複数の回路素子を形成した後、ウェーハの裏面を研削装置で研削して所定の厚みへと薄化する。その後、薄化されたウェーハを切削装置で切削することで、個々の半導体デバイスを製造している。
【０００３】
このような研削装置および切削装置では、加工によって発生した加工屑が、ウェーハに付着する。このため、ウェーハは、加工終了後に、たとえば特許文献１に記載のような洗浄装置によって洗浄される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００９－２６００９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
洗浄装置では、回転する洗浄テーブルに保持されたウェーハに向かって洗浄ノズルが移動（旋回）することによって、ウェーハの全面を洗浄する。
【０００６】
しかしながら、このような洗浄装置では、洗浄テーブルを高速回転させるため、回転による遠心力によってウェーハに付着する液体が飛散され、洗浄が完了する前にウェーハが乾燥してしまう。ウェーハが乾燥すると、加工屑がウェーハに固着し、洗浄しても加工屑が取れにくくなってしまう。
【０００７】
したがって、本発明の目的は、乾燥を防止しながらウェーハを洗浄する手法を確立することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の洗浄装置（本洗浄装置）は、板状の被加工物を洗浄する洗浄装置であって、保持面に垂直な回転軸を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該被加工物を洗浄するための洗浄水を供給する洗浄ノズルと、該洗浄ノズルを該保持面と平行方向に移動させる移動軸と、該チャックテーブルに保持された該被加工物の該回転軸と重なる位置に液体を供給する乾燥防止ノズルと、を備え、該洗浄ノズルは、該チャックテーブルの該回転軸から傾くように形成された噴射口を含んでいる。
【０００９】
本発明の洗浄方法（本洗浄方法）は、本洗浄装置を使用して、板状の被加工物を洗浄する洗浄方法であって、該被加工物を該チャックテーブルによって保持する保持ステップと、該チャックテーブルに保持された該被加工物の該回転軸と重なる位置に向かって該乾燥防止ノズルから液体を供給するとともに、該洗浄ノズルを該保持面と平行方向に移動させながら該被加工物の全面を洗浄する洗浄ステップと、を備える。
【００１０】
本洗浄方法は、該洗浄ステップの後に、該被加工物を乾燥させる乾燥ステップ、を更に備えていてもよい。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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