TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2024123661
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-09-12
出願番号
2023031266
出願日
2023-03-01
発明の名称
排ガス浄化用触媒
出願人
株式会社キャタラー
代理人
個人
,
個人
主分類
B01J
35/57 20240101AFI20240905BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】内燃機関の稼働状況に応じて適切な浄化性能を発揮できる排ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】ここに開示される排ガス浄化用触媒は、下層触媒層22と上層触媒層24とを有する触媒層20を備えている。そして、下層触媒層22の上流側には下層フロント部Aが設けられ、下流側には下層リア部Bが設けられている。また、上層触媒層24の上流側には上層フロント部Cが設けられ、下流側には上層リア部Dが設けられている。そして、フロント部Aと下層リア部Bと上層フロント部Cと上層リア部Dの各々は、触媒金属の種類が個別に設定されている。これによって、内燃機関の稼働状況に応じて適切な浄化性能を発揮できる。また、この排ガス浄化用触媒では、排ガス浄化性能と圧損抑制との両立という観点から、下層ラップ部25と上層ラップ部27とが筒軸方向Xにおいて重複しないように形成されている。
【選択図】図4
特許請求の範囲
【請求項1】
内燃機関の排気経路に配置され、前記内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化用触媒であって、
複数のセルと、前記複数のセルを仕切る隔壁とを有する筒状の基材と、
前記隔壁の表面に設けられた多孔質層であって、触媒金属を有する触媒層と
を備え、
前記触媒層は、前記隔壁の表面に近い方を下層触媒層とし相対的に遠い方を上層触媒層とする少なくとも2層の積層構造を有しており、
前記下層触媒層は、
排ガス流通方向における前記基材の上流側の端部から下流側に向かって延在し、前記触媒金属としてPdを含む下層フロント部Aと、
前記排ガス流通方向における前記基材の下流側の端部から上流側に向かって延在し、前記触媒金属としてPdおよびPtの少なくとも一方を含む下層リア部Bと、
前記下層フロント部Aと前記下層リア部Bとが積層した下層ラップ部と、
を有し、
前記上層触媒層は、
前記排ガス流通方向における前記基材の上流側の端部から下流側に向かって延在し、前記触媒金属としてRhを含む上層フロント部Cと、
前記排ガス流通方向における前記基材の下流側の端部から上流側に向かって延在し、前記触媒金属としてRhを含む上層リア部Dと、
前記上層フロント部Cと前記上層リア部Dとが積層した上層ラップ部と、
を有しており、
前記下層ラップ部の形成位置と前記上層ラップ部の形成位置は、前記基材の筒軸方向において重複していない、排ガス浄化用触媒。
続きを表示(約 880 文字)
【請求項2】
前記筒軸方向における前記隔壁の全長を100%としたとき、前記上層ラップ部の中心は、前記基材の上流側の端部から40%~70%の位置に配置されている、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項3】
前記筒軸方向における前記隔壁の全長を100%としたとき、前記下層ラップ部の中心は、前記基材の上流側の端部から35%~50%の位置に配置されている、請求項1または2に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項4】
前記筒軸方向における前記隔壁の全長を100%としたとき、前記下層フロント部Aの長さL
A
は、45%~55%である、請求項1または2に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項5】
前記筒軸方向における前記隔壁の全長を100%としたとき、前記下層リア部Bの長さL
B
は、65%~75%である、請求項4に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項6】
前記筒軸方向における前記隔壁の全長を100%としたとき、前記上層フロント部Cの長さL
C
は、50%~80%である、請求項5に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項7】
前記筒軸方向における前記隔壁の全長を100%としたとき、前記上層リア部Dの長さL
D
は、40%~70%である、請求項6に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項8】
前記触媒層は、CeO
2
を含むOSC材をさらに有する、請求項1または2に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項9】
前記OSC材は、CeO
2
-ZrO
2
複合酸化物である、請求項8に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項10】
前記下層フロント部Aにおける前記CeO
2
の含有量A
CeO2
が0g/L~15g/Lである、請求項8に記載の排ガス浄化用触媒。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
ここに開示される技術は、排ガス用浄化触媒に関する。
続きを表示(約 2,400 文字)
【背景技術】
【0002】
自動車エンジン等の内燃機関から排出される排ガスには、炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)、窒素酸化物(NO
x
)等の有害成分が含まれる。このため、内燃機関の排気系には、有害成分を浄化する排ガス浄化用触媒が配置される。この排ガス浄化用触媒は、基材と、当該基材の表面に形成される触媒層とを備えている。この触媒層には、例えば、触媒金属とOSC材が含まれる。触媒金属は、上記有害成分の酸化(又は還元)を促進する貴金属材料である。また、OSC材には、例えば、CeO
2
が使用される。このCeO
2
は、リーン状態(酸素過多)の排ガスが供給されている間に酸素を貯蔵し、リッチ状態(酸素不足)の排ガスが供給された際に酸素を放出する。これによって、排ガスの空燃比が変動しても、排ガスを安定的に浄化できる。
【0003】
近年の排ガス浄化用触媒の分野では、組成の異なる複数の触媒層を基材表面に形成することが提案されている。例えば、特許文献1に記載の排ガス浄化用触媒は、上流側下層コート層と、上流側上層コート層と、下流側下層コート層と、下流側上層コート層とからなる4種類の触媒層を備えている。そして、特許文献1に記載の排ガス浄化用触媒では、各層における触媒金属(Pt、Pd、Rh)の濃度を異ならせている。これによって、高温環境におけるHC浄化能力と、低温環境におけるNO
X
浄化能力とを高度に両立できる。また、特許文献2には、排ガス用浄化触媒の他の例が開示されている。この特許文献2に記載の排ガス用浄化触媒では、複数の触媒層の各々にOSC材が添加されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特許第7061655号
米国出願公開第2010/0104491号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、内燃機関から排出される排ガスは、当該内燃機関の稼働状況に応じて様々な要素(温度、流速、空燃比など)が変化する。例えば、始動直後の暖機運転では、低温低速の排ガスが排出される。一方、高速運転では、高温高速の排ガスが排出される。加えて、一般的な排ガス浄化用触媒は、暖機運転や高速運転などの特殊な状況だけではなく、通常の運転においても高い浄化性能が要求される。このため、特定の状況(例えば、暖機運転)のみに着目して排ガス浄化用触媒を設計すると、内燃機関の稼働状況が変化した際に、有害成分のエミッションが増大するおそれがある。
【0006】
ここに開示される技術は、上述の課題を解決するためになされたものであり、様々な稼働状況で好適な浄化性能を発揮できる排ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するべく、ここに開示される技術によって下記の構成の排ガス浄化用触媒が提供される。
【0008】
ここに開示される排ガス浄化用触媒(1)は、内燃機関の排気経路に配置され、内燃機関から排出される排ガスを浄化する。かかる排ガス浄化用触媒は、複数のセルと、複数のセルを仕切る隔壁とを有する筒状の基材と、隔壁の表面に設けられた多孔質層であって、触媒金属を有する触媒層とを備えている。そして、触媒層は、隔壁の表面に近い方を下層触媒層とし相対的に遠い方を上層触媒層とする少なくとも2層の積層構造を有している。この下層触媒層は、排ガス流通方向における基材の上流側の端部から下流側に向かって延在し、触媒金属としてPdを含む下層フロント部Aと、排ガス流通方向における基材の下流側の端部から上流側に向かって延在し、触媒金属としてPdおよびPtの少なくとも一方を含む下層リア部Bと、下層フロント部Aと下層リア部Bとが積層した下層ラップ部とを有している。また、上層触媒層は、排ガス流通方向における基材の上流側の端部から下流側に向かって延在し、触媒金属としてRhを含む上層フロント部Cと、排ガス流通方向における基材の下流側の端部から上流側に向かって延在し、触媒金属としてRhを含む上層リア部Dと、上層フロント部Cと上層リア部Dとが積層した上層ラップ部とを有している。そして、ここに開示される排ガス浄化用触媒では、下層ラップ部の形成位置と上層ラップ部の形成位置は、基材の筒軸方向において重複していない。
【0009】
上述の通り、ここに開示される排ガス浄化用触媒は、触媒金属の種類が異なる4種類の触媒層(下層フロント部A、下層リア部B、上層フロント部C、上層リア部D)を備えている。これによって、様々な稼働状況において好適な浄化性能を発揮できる。以下、具体的に説明する。
【0010】
まず、下層フロント部Aは、運転開始直後の暖機運転における排ガスを好適に浄化する領域である。具体的には、運転開始時においては、触媒金属の大部分が酸化しており、触媒活性が低下している。そして、暖機運転を開始すると、排ガス温度の上昇に伴って触媒金属から酸素が徐々に解離して浄化性能が上昇(回復)する。この暖機運転中の排ガスは、流速が非常に遅いため、下層触媒層の上流側(下層フロント部A)に浸透しやすい。かかる点に着目し、ここに開示される排ガス浄化用触媒では、下層フロント部Aの触媒金属としてPdを使用している。Pdは、他の触媒金属よりも、酸化状態での触媒活性に優れている。これらの構成によって、下層フロント部Aは、暖機運転中の有害成分のエミッションを低減できる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
個人
担持光触媒
16日前
株式会社フルヤ金属
触媒
11日前
有限会社レイノ
嘔吐物の処理剤
23日前
株式会社フクハラ
圧縮空気圧回路
16日前
松本油脂製薬株式会社
泡消火薬剤用消泡剤
18日前
住友金属鉱山株式会社
蒸気回収機構
16日前
東レ株式会社
スパイラル分離膜エレメント
4日前
CYC株式会社
工業炉用煤塵除去装置
25日前
東洋紡エムシー株式会社
濾材およびフィルター
10日前
ヤマシンフィルタ株式会社
カプセルフィルタ
24日前
株式会社丸山製作所
液体浄化装置
23日前
株式会社フルヤ金属
担持触媒の作製方法
11日前
東洋リビング株式会社
除湿ユニットおよび保管庫
17日前
国立大学法人広島大学
二酸化炭素吸放出材
11日前
個人
水溶性フィルター
5日前
大同化学株式会社
ワックスソリューション液の製造方法
17日前
トヨタ自動車株式会社
吸着システム及び吸着方法
16日前
セイコーエプソン株式会社
気体分離膜
11日前
セイコーエプソン株式会社
気体分離膜
11日前
JFEエンジニアリング株式会社
多重管式反応容器
3日前
JFEエンジニアリング株式会社
多重管式反応容器
3日前
株式会社レゾナック
ノズル、送液装置、及び送液システム
10日前
JFEエンジニアリング株式会社
多重管式反応容器
3日前
株式会社美和製作所
触媒材
4日前
CKD株式会社
ガス製造装置、及びガス製造方法
1か月前
旭化成メディカル株式会社
多孔質膜
17日前
株式会社荏原製作所
排ガス処理装置
10日前
株式会社タクマ
脱臭装置
10日前
国立大学法人北海道大学
酸素還元触媒の製造方法
17日前
日産自動車株式会社
気体分離膜及びその製造方法
18日前
パナソニックIPマネジメント株式会社
脱気機構
25日前
トヨタ自動車株式会社
逆浸透膜
1か月前
株式会社デンソー
電気化学セル
25日前
日本濾過器株式会社
フィルタエレメント及びフィルタ装置
1か月前
国立大学法人 新潟大学
吸着剤および処理方法
24日前
東レ株式会社
血液浄化用多孔質中空糸膜及び血液浄化用モジュール
10日前
続きを見る
他の特許を見る