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公開番号2024121800
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-06
出願番号2024022284
出願日2024-02-16
発明の名称硬化性組成物及び硬化膜
出願人住友化学株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C08F 2/44 20060101AFI20240830BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】保存安定性に優れる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】芳香族複素環を有する重合性化合物、無機微粒子、式(I)で表される化合物、及び重合開始剤を含有する硬化性組成物。
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[式(I)中、R^N1、R^N2及びR^N3は、水素原子、炭素数1～20の飽和炭化水素基等を示す。]
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
芳香族複素環を有する重合性化合物、無機微粒子、式（Ｉ）で表される化合物、及び重合開始剤を含有する硬化性組成物。
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2024121800000013.jpg
33
149
［式（Ｉ）中、Ｒ
Ｎ１
、Ｒ
Ｎ２
及びＲ
Ｎ３
は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～２０の飽和炭化水素基又は下記式（ＩＩ）で表される基を示し、Ｒ
Ｎ１
、Ｒ
Ｎ２
及びＲ
Ｎ３
のうちの少なくとも１つは、炭素数１～２０の飽和炭化水素基又は下記式（ＩＩ）で表される基であり、Ｒ
Ｎ１
、Ｒ
Ｎ２
及びＲ
Ｎ３
のうちの２つは、互いに結合して環を形成していてもよい。］
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44
149
［式（ＩＩ）中、Ｑは、３つの炭素原子と共に、炭素数６～２０の芳香族炭化水素環を形成する基を示す。］
続きを表示（約 240 文字）【請求項２】
式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、芳香族複素環を有する重合性化合物の全量を基準として、０．１モル％以上である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
式（ＩＩ）で表される基が、フェニル基である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
前記飽和炭化水素基が、アルキル基である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成される硬化膜。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は硬化性組成物及び硬化膜に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、表示装置、照明装置などに使用されており、屈折率を制御して発光層からの光取り出し効率を上げる検討が行われている。特許文献１は高屈折率性を有する硬化性組成物を与えることを目的としており、例えば、ジルコニアナノ粒子４５質量％と、環構造多官能化合物としてのトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート２５質量％と、非環構造多官能化合物としての１，９－ノナンジオールジメタクリレート１４質量％と、単官能化合物としてのイソブチルメタクリレート１０質量％とを重合開始剤および界面活性剤と共に含む硬化性組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１７－６１６０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、硬化性組成物は、保存安定性に優れることが望ましい。そこで、本発明は、保存安定性に優れる硬化性組成物及びそれを用いた硬化膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
［１］芳香族複素環を有する重合性化合物、無機微粒子、式（Ｉ）で表される化合物、及び重合開始剤を含有する硬化性組成物。
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33
149
［式（Ｉ）中、Ｒ
Ｎ１
、Ｒ
Ｎ２
及びＲ
Ｎ３
は、互いに独立に、水素原子、炭素数１～２０の飽和炭化水素基又は下記式（ＩＩ）で表される基を示し、Ｒ
Ｎ１
、Ｒ
Ｎ２
及びＲ
Ｎ３
のうちの少なくとも１つは、炭素数１～２０の飽和炭化水素基又は下記式（ＩＩ）で表される基であり、Ｒ
Ｎ１
、Ｒ
Ｎ２
及びＲ
Ｎ３
のうちの２つは、互いに結合して環を形成していてもよい。］
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2024121800000002.jpg
44
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［式（ＩＩ）中、Ｑは、３つの炭素原子と共に、炭素数６～２０の芳香族炭化水素環を形成する基を示す。］
［２］式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、芳香族複素環を有する重合性化合物の全量を基準として、０．１モル％以上である、［１］に記載の硬化性組成物。
［３］式（ＩＩ）で表される基が、フェニル基である、［１］又は［２］に記載の硬化性組成物。
［４］前記飽和炭化水素基が、アルキル基である、［１］～［３］のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
［５］［１］～［４］のいずれか一項に記載の硬化性組成物から形成される硬化膜。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、保存安定性に優れる硬化性組成物及びそれを用いた硬化膜が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
実施例７～１０の硬化性組成物から形成された硬化膜におけるＳｔｒａｉｎ［ｎｍ］（押込み深さ）及びＬｏａｄ［ｎｍ］（試験荷重）の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【０００９】
本明細書において、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
【００１０】
本明細書において、（メタ）アクリレートは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイル等の他の類似表現についても同様である。
（【００１１】以降は省略されています）

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