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公開番号2025064284
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-17
出願番号2023173898
出願日2023-10-05
発明の名称ベース支持装置
出願人株式会社ミツトヨ
代理人弁理士法人樹之下知的財産事務所
主分類B23Q 1/00 20060101AFI20250410BHJP(工作機械;他に分類されない金属加工)
要約【課題】ベースの撓みを抑制可能なベース支持装置を提供する。
【解決手段】加工機1(ベース支持装置)は、X方向及びY方向を含む水平面を構成する上面10Aを有するベース10と、ベース10のX方向の両端側にそれぞれ設けられ、Z方向でベース10を支持する第一支持部21～24と、ベース10の第一支持部21～24により支持される両端側の間に配置され、Z方向でベース10を支持するとともに、Z方向でのベース10の支持位置を調整可能な第二支持部25,26と、ベース10のZ方向への撓み量を検出する撓み検出部525と、第二支持部25,26を制御する撓み抑制部526と、を備え、撓み抑制部526は、撓み検出部525で検出される撓み量に基づいて、上面がX方向に平行になるように第二支持部25,26を制御する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
第一方向及び前記第一方向に直交する第二方向を含む水平面を構成する上面を有するベースと、
前記ベースの前記第一方向の両端側にそれぞれ設けられ、前記第一方向及び前記第二方向に直交する第三方向で前記ベースを支持する第一支持部と、
前記ベースの前記第一支持部により支持される両端側の間に配置され、前記第三方向で前記ベースを支持するとともに、前記第三方向での前記ベースの支持位置を調整可能な第二支持部と、
前記ベースの前記第三方向への撓み量を検出する撓み検出部と、
前記第二支持部を制御する撓み制御部と、を備え、
前記撓み制御部は、前記撓み検出部で検出される前記撓み量に基づいて、前記上面が第一方向に平行になるように前記第二支持部を制御する、
ベース支持装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記第二支持部は、空気圧により前記ベースを支持するエアダンパと、前記エアダンパの空気圧を調整する空圧調整部と、を備えたアクティブ除振台であり、
前記撓み制御部は、前記撓み量に基づいて、前記空圧調整部を制御し、前記空気圧を調整する、
請求項１に記載のベース支持装置。
【請求項３】
前記第二支持部は、前記ベースの重心点に対応する位置に設けられている、
請求項１に記載のベース支持装置。
【請求項４】
前記上面に設けられて前記第一方向に沿って延設されるレールと、
前記レール上を前記第一方向に沿って移動可能なテーブルと、
前記第一方向における前記テーブルの位置を検出するテーブル位置検出部と、
前記第二支持部を前記ベースに対して前記第一方向に沿って移動させる支持移動部と、をさらに備え、
前記支持移動部は、前記第一方向における前記テーブルの移動に応じて、前記テーブルに対応する位置に前記第二支持部を移動させる、
請求項１に記載のベース支持装置。
【請求項５】
前記上面の温度を計測する第一温度センサと、
前記ベースの前記上面とは反対側の下面の温度を計測する第二温度センサと、をさらに備え、
前記撓み検出部は、前記上面及び前記下面の温度差と前記ベースの撓み量とを関連付けた第一撓みデータと、前記第一温度センサ及び前記第二温度センサにより計測される温度とに基づいて前記撓み量を検出する、
請求項１に記載のベース支持装置。
【請求項６】
前記上面に設けられて前記第一方向に沿って延設されるレールと、
前記レール上を前記第一方向に沿って移動可能なテーブルと、
前記第一方向における前記テーブルの位置を検出するテーブル位置検出部と、をさらに備え、
前記撓み検出部は、前記テーブルが前記レールに沿って前記第一方向に移動した時に前記テーブルの前記第一方向での位置と、前記ベースの撓み量とを関連付けた第二撓みデータに基づいて前記撓み量を検出する、
請求項１に記載のベース支持装置。
【請求項７】
前記第二方向での前記ベースの撓み量を第二撓み量として検出する第二撓み検出部と、
前記ベースの前記第一支持部により支持される両端側の間に配置され、前記第二方向で前記ベースを支持するとともに、前記第二方向での前記ベースの支持位置を調整可能な第三支持部と、をさらに備え、
前記撓み制御部は、前記第二撓み検出部で検出される前記第二撓み量に基づいて、前記ベースが第一方向に平行になるように前記第三支持部をさらに制御する、
請求項１に記載のベース支持装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物を載置するベースの撓みを抑制するベース支持装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、対象物の測定や加工を行う場合、対象物をベース上に、或いはベース上に設けられたステージ（移動ステージも含む）上に載置し、測定処理や加工処理を実施する。
例えば特許文献１に記載の装置は、振動抑制部を介して配置されたステージ定盤の上面にＹ方向に延びたリニアガイドが配置され、当該リニアガイド上を第１ステージが移動可能に支持されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１４－８５５０４公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の装置では、ステージ定盤（ベース）は、端部に設けられた振動抑制部を介して支持されている。しかしながら、例えば、定盤の上面と下面（床面側）との温度差等、装置の設置環境等によって定盤が撓むことがある。特に、定盤上にレールを配置し、当該レール上でステージを移動させる場合では、上記のような撓みが発生することでレール撓み、ステージのスムーズな移動が阻害される。
【０００５】
本発明は、ベースの撓みを抑制可能なベース支持装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一態様に係るベース支持装置は、第一方向及び前記第一方向に直交する第二方向を含む水平面を構成する上面を有するベースと、前記ベースの前記第一方向の両端側にそれぞれ設けられ、前記第一方向及び前記第二方向に直交する第三方向で前記ベースを支持する第一支持部と、前記ベースの前記第一支持部により支持される両端側の間に配置され、前記第三方向で前記ベースを支持するとともに、前記第三方向での前記ベースの支持位置を調整可能な第二支持部と、前記ベースの前記第三方向への撓み量を検出する撓み検出部と、前記第二支持部を制御する撓み制御部と、を備え、前記撓み制御部は、前記撓み検出部で検出される前記撓み量に基づいて、前記上面が第一方向に平行になるように前記第二支持部を制御する。
【０００７】
これにより、ベースの撓みに応じて第二支持部の支持位置を制御することで、ベース１０の撓みを最小にすることができ、ベースの撓みを抑制できる。
【０００８】
本態様のベース支持装置において、前記第二支持部は、空気圧により前記ベースを支持するエアダンパと、前記エアダンパの空気圧を調整する空圧調整部と、を備えたアクティブ除振台であり、前記撓み制御部は、前記撓み量に基づいて、前記空圧調整部を制御し、前記空気圧を調整することが好ましい。
これにより、エアダンパを利用したアクティブ除振台を第二支持部とすることで、空気圧の調整により、容易にかつ精度よく第二支持部のベース１０の支持位置を調整することができる。
【０００９】
本態様のベース支持装置において、前記第二支持部は、前記ベースの重心点に対応する位置に設けられていることが好ましい。
ベースの自重やベースの上下の温度差によりベースが撓む場合、撓み量が最大となる部分は、重心点に対応する位置である。したがって、重心点に対応する位置に第二支持部が設けられることで効果的にベースの撓みを抑制できる。
【００１０】
本態様のベース支持装置において、前記上面に設けられて前記第一方向に沿って延設されるレールと、前記レール上を前記第一方向に沿って移動可能なテーブルと、前記第一方向における前記テーブルの位置を検出するテーブル位置検出部と、前記第二支持部を前記ベースに対して前記第一方向に沿って移動させる支持移動部と、をさらに備え、前記支持移動部は、前記第一方向における前記テーブルの移動に応じて、前記テーブルに対応する位置に前記第二支持部を移動させる構成としてもよい。
これにより、ベースのテーブルの位置での撓みを効果的に抑制することができる。よって、レールの撓みによるテーブルの移動負荷の増大を抑制でき、テーブルをスムーズに移動させることができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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