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公開番号2025047565
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-03
出願番号2023156117
出願日2023-09-21
発明の名称描画装置、描画方法、プログラムおよび基板処理装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250326BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】積層された上段のステージの位置を直接測定せずに、上段のステージの位置を測定することができる技術を提供する。
【解決手段】描画装置100は、Y軸ステージ33と、X軸ステージ31と、支持ステージ2と、ステージ移動機構3と、Y軸リニアスケール36と、第1変位計61と、露光ヘッド51とを備える。第1ステージは、Y方向に移動可能である。X軸ステージ31は、Y軸ステージ33よりも上側に位置する。支持ステージ2は、X軸ステージ31よりも上側に位置する。ステージ移動機構3は、Y軸ステージ33をY方向に移動させる。Y軸リニアスケール36は、ステージ移動機構3の位置を測定する。第1変位計61は、Y軸ステージ33に対する支持ステージ2のY方向における変位量を検出可能である。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
基板にパターンを描画する描画装置であって、
既定の移動方向に移動可能な第１ステージと、
前記第１ステージより上側に位置し、前記第１ステージと一体的に移動可能である第２ステージと、
前記第２ステージより上側に位置し、前記第２ステージと一体的に移動可能であり、基板を支持する第３ステージと、
前記第１ステージを前記移動方向に移動させるステージ移動機構と、
前記第１ステージの位置を測定する第１ステージ位置測定部と、
前記第１ステージと一体的に移動可能であり、前記第１ステージに対する前記第３ステージの第１方向における変位量を検出可能である第１変位計と、
前記ステージ移動機構によって前記移動方向に移動する前記第３ステージに支持された前記基板を露光可能な露光ヘッドと、
を備える、描画装置。
続きを表示（約 1,400 文字）【請求項２】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記第２ステージは、前記第１ステージに対して前記第１方向と交差する第２方向に移動可能であり、
前記ステージ移動機構は、前記第２ステージを前記第１ステージに対して前記第２方向に移動させることが可能である、描画装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の描画装置であって、
前記第１ステージ位置測定部により測定された前記第１ステージの前記移動方向における位置と、前記第１変位計によって検出された前記変位量とに基づいて、前記露光ヘッドを制御する制御部、
をさらに備える、描画装置。
【請求項４】
請求項３に記載の描画装置であって、
前記第１変位計が変位量を検出する第１方向は、前記第１ステージが移動する前記移動方向と平行である、描画装置。
【請求項５】
請求項４に記載の描画装置であって、
前記第１ステージ位置測定部は、前記第１ステージの前記移動方向における位置を測定するリニアスケールを含む。
前記制御部、描画装置。
【請求項６】
請求項１または請求項２に記載の描画装置であって、
前記第１ステージに対する前記第３ステージの前記第１方向における変位量を検出可能である第２変位計、
をさらに備え、
第２変位計は、前記第３ステージのうち、前記第１変位計によって前記変位量が検出される部分から前記第１方向と交差する第２方向に離れた部分の変位量を検出する、描画装置。
【請求項７】
請求項１または請求項２に記載の描画装置であって、
前記第１ステージに対する前記第３ステージの、前記第１方向と交差する第２方向における変位量を検出する第３変位計、
をさらに備える、描画装置。
【請求項８】
請求項１または請求項２に記載の描画装置であって、
前記第１変位計は、
前記第１ステージに対する前記第２ステージの前記第１方向における変位量を検出可能である下側変位計と、
前記第２ステージに対する前記第３ステージの前記第１方向における変位量を検出可能である上側変位計と、
を含む、描画装置。
【請求項９】
描画方法であって、
（ａ）第１ステージと、前記第１ステージより上側に位置する第２ステージと、前記第２ステージより上側に位置し且つ基板を支持する第３ステージとを、既定の移動方向に一体的に移動させる移動工程と、
（ｂ）前記移動工程によって移動する前記第１ステージの位置を測定する測定工程と、
（ｃ）前記移動工程によって移動する前記第１ステージに対する、前記第３ステージの第１方向における変位量を検出する検出工程と、
（ｄ）前記移動工程によって前記第１方向に移動する前記第３ステージに支持された前記基板を露光する露光工程と、
を含む、描画方法。
【請求項１０】
コンピュータが実行可能なプログラムであって、
前記プログラムは、前記コンピュータに、請求項９に記載の描画方法を実行させる、プログラム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書で開示される主題は、描画装置、描画方法、プログラムおよび基板処理装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば半導体ウエハやガラス基板などの基板にパターンを形成する方法として、光照射により直接パターンの描画を行う描画装置が知られている。この種の描画装置では、レジストなどの感光層が形成された基板がステージに支持され、ステージを主走査方向に移動させる。そして、ステージの主走査方向の位置に応じて、パターン光が露光ヘッドから出射されることにより、感光層に所定のパターンが描画される。
【０００３】
このような描画装置においてステージを移動させた際、ステージが蛇行するなどして、ステージが予期しない方向へ変位する場合がある。このような変位が生じると、指定通りにパターンが形成されず、パターンに歪みが生じる場合があった。そこで、ステージの予期せぬ変位を補正する技術がこれまでにも提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１は、マスクの座標をコントロールするマスクステージを開示している。マスクステージは、定盤上にＸ方向に移動するＸテーブルと、当該Ｘテーブル上に設けられたＹ方向に移動するＹテーブルと、Ｙテーブル上に設けられたマスクを支持する複数の支持パッドとを備えている。そして、Ｙテーブル上にバーミラーが固定されており、定盤に固定されたレーザ干渉計によってバーミラーの位置が測定されることにより、Ｙテーブルの位置が検出される。また、バーミラーには、マスクまでの距離または変位量を測定するセンサが取り付けられている。マスクが載置されたマスクテーブルを移動させた際、レーザ干渉計によって計測された位置情報が、センサ手段により検出された距離情報または変位情報を用いて補正される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１６－１００５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１の場合、上段のステージであるＹテーブルの位置をレーザ干渉計で直接検出する必要があった。このため、上段のステージを直接測定することが困難な場合、特許文献１の技術を採用することはできない。
【０００７】
本発明の目的は、多段に積層された上段のステージの位置を直接測定せずに、上段のステージの位置を測定することができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、第１態様は、基板にパターンを描画する描画装置であって、既定の移動方向に移動可能な第１ステージと、前記第１ステージより上側に位置し、前記第１ステージと一体的に移動可能である第２ステージと、前記第２ステージより上側に位置し、前記第２ステージと一体的に移動可能であり、基板を支持する第３ステージと、前記第１ステージを前記移動方向に移動させるステージ移動機構と、前記第１ステージの位置を測定する第１ステージ位置測定部と、前記第１ステージと一体的に移動可能であり、前記第１ステージに対する前記第３ステージの第１方向における変位量を検出可能である第１変位計と、前記ステージ移動機構によって前記移動方向に移動する前記第３ステージに支持された前記基板を露光可能な露光ヘッドと、を備える。
【０００９】
第２態様は、第１態様の描画装置であって、前記第２ステージは、前記第１ステージに対して前記第１方向と交差する第２方向に移動可能であり、前記ステージ移動機構は、前記第２ステージを前記第１ステージに対して前記第２方向に移動させることが可能である。
【００１０】
第３態様は、第１態様または第２態様の描画装置であって、前記第１ステージ位置測定部により測定された前記第１ステージの前記移動方向における位置と、前記第１変位計によって検出された前記変位量とに基づいて、前記露光ヘッドを制御する制御部、をさらに備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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