特許ウォッチ

公開番号2025045959
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-02
出願番号2023154058
出願日2023-09-21
発明の名称描画装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250326BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】描画装置において複数の型の基板を適切に保持する。
【解決手段】光の照射により基板にパターンを描画する描画装置は、複数の吸引孔からエアを吸引することにより基板を保持する保持部25と、保持部25がエアを吸引する力を発生する減圧部8と、基板の複数の型を記憶する記憶部62と、基板の型に応じて減圧部8の動作の設定値を変更することにより、保持部25が基板を吸引する力を調整する吸引調整部61とを備える。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
光の照射により基板にパターンを描画する描画装置であって、
複数の吸引孔からエアを吸引することにより基板を保持する保持部と、
前記保持部に接続されて前記保持部がエアを吸引する力を発生する減圧部と、
基板の複数の型を記憶する記憶部と、
前記保持部が保持する予定の基板の型が前記記憶部から読み出されて入力され、前記基板の前記型に応じて前記減圧部の動作の設定値を変更することにより、前記保持部が前記基板を吸引する力を調整する吸引調整部と、
前記保持部に保持された基板に向けて光を出射することにより、前記基板にパターンを描画する光照射部と、
を備える描画装置。
続きを表示（約 990 文字）【請求項２】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記保持部が、基板のサイズに合わせて前記複数の吸引孔から選択的にエアを吸引することにより前記基板を保持することができる描画装置。
【請求項３】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記保持部に保持される基板が、両面にレジスト層を有する描画装置。
【請求項４】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記減圧部が、
排気ファンユニットと、
前記排気ファンユニットと前記保持部とを接続する排気管と、
前記排気管に設けられ、前記吸引調整部により外部空間と繋がる開口の開度が調整される減圧調整弁と、
を備える描画装置。
【請求項５】
請求項４に記載の描画装置であって、
前記排気ファンユニットが、インバータ回路を有しない描画装置。
【請求項６】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記保持部が、前記複数の吸引孔に繋がる内部空間の圧を取得する圧力計を有し、
前記圧力計にて取得された前記内部空間の圧が前記吸引調整部に入力され、
前記内部空間の圧が、前記保持部が保持する予定の基板の型に応じた目標圧となるように、前記吸引調整部が前記減圧部をフィードバック制御する描画装置。
【請求項７】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記減圧部の動作の設定値として、基板の吸引を開始してから吸引を完了する時点までの第１設定値と、前記基板の吸引が完了した時点から適用される第２設定値とが存在する描画装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１つに記載の描画装置であって、
前記保持部および前記光照射部の少なくとも１つを、前記保持部に保持された基板に平行な方向に移動することにより、前記保持部を前記光照射部に対して相対的に移動する移動機構をさらに備え、
前記光照射部が、前記保持部に保持された基板に向けて変調された光を出射する描画ヘッドを備え、
前記描画ヘッドが変調された光を出射している間に前記移動機構が前記保持部に保持された基板を前記光照射部に対して相対的に移動することにより、前記基板上にパターンが描画される描画装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の照射により基板にパターンを描画する描画装置に関連する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
従来より、プリント基板や半導体基板等（以下、「基板」という。）に対するパターンの描画において、基板上に形成された感光材料に光を照射してパターンを感光材料上に描画する描画装置が利用されている。このような描画装置では、保持部に設けられた吸引孔からエアを吸引することにより、基板を保持するものがある。
【０００３】
例えば、特許文献１に開示される露光装置（描画装置）では、基板を保持するワークチャックは、真空吸着により基板を保持する。ワークチャックは、中央の吸着領域と、中央の吸着領域の外側の囲う環状の吸着領域と、環状の吸着領域の外側に位置する３つの吸着領域を有する。各吸着領域は仕切り壁および周壁部により区画される。また、各吸着領域内には仕切り壁と同じ高さの複数の突起を有する。そして、基板の撓みを抑制するために、各吸着領域に接続されたエアーレギュレータを当該各吸着領域の面積に応じて調整し、これにより、各吸着領域内の圧力が略一定となるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１１－１９１７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、描画装置において、複数の異なる型の基板を保持可能とする場合、型によって基板のサイズが異なったり、基板が有する孔の位置が異なったりする。そのため、単純に基板を吸引吸着すると、基板の型に応じて吸着力が異なってしまい、吸着開始から吸着完了までの基板と保持部との接触状態の変化や吸着後の接触状態が型に応じて異なってしまう。その結果、特定の型の基板を保持する際に、吸引が基板に好ましくない影響を与えてしまう虞がある。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、描画装置において、複数の型の基板を適切に保持することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様１は、光の照射により基板にパターンを描画する描画装置であって、複数の吸引孔からエアを吸引することにより基板を保持する保持部と、前記保持部に接続されて前記保持部がエアを吸引する力を発生する減圧部と、基板の複数の型を記憶する記憶部と、前記保持部が保持する予定の基板の型が前記記憶部から読み出されて入力され、前記基板の前記型に応じて前記減圧部の動作の設定値を変更することにより、前記保持部が前記基板を吸引する力を調整する吸引調整部と、前記保持部に保持された基板に向けて光を出射することにより、前記基板にパターンを描画する光照射部とを備える。
【０００８】
本発明の態様２は、態様１の描画装置であって、前記保持部が、基板のサイズに合わせて前記複数の吸引孔から選択的にエアを吸引することにより前記基板を保持することができる。
【０００９】
本発明の態様３は、態様１（態様１または２であってもよい。）の描画装置であって、前記保持部に保持される基板が、両面にレジスト層を有する。
【００１０】
本発明の態様４は、態様１（態様１ないし３のいずれか１つであってもよい。）の描画装置であって、前記減圧部が、排気ファンユニットと、前記排気ファンユニットと前記保持部とを接続する排気管と、前記排気管に設けられ、前記吸引調整部により外部空間と繋がる開口の開度が調整される減圧調整弁とを備える。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許