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公開番号2025045864
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-02
出願番号2023153871
出願日2023-09-20
発明の名称露光装置および露光方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250326BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】複数の光源から形成された複数のラインビームの重ね合わせ精度が低い場合でも、露光量のムラを低減することができる技術を提供する。
【解決手段】露光装置100は、ステージ10と、照明光学系53と、空間光変調器41と、投影光学系43と、制御部90とを備える。ステージ10は、基板Wを保持する。空間光変調器41は、複数の光源からの光を複数のラインビームに成形し、所定の焦点位置に重ね合わせる。空間光変調器41は、照明光学系53による複数のラインビームの重ね合わせによって形成された合成ラインビームを空間変調する。投影光学系43は、空間光変調器によって空間変調された合成ラインビームを、ステージ10に保持された基板に投影する。制御部90の露光量調整部は、合成ラインビームの短軸方向の線幅に応じて、合成ラインビームによる基板Wの露光量を調整する。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
露光装置であって、
基板を保持するステージと、
複数の光源からの光を複数のラインビームに成形し、所定の焦点位置に重ね合わせる照明光学系と、
前記照明光学系による前記複数のラインビームの重ね合わせによって形成された合成ラインビームを空間変調する空間光変調器と、
前記空間光変調器によって空間変調された前記合成ラインビームを、前記ステージに保持された基板に投影する投影光学系と、
前記合成ラインビームの短軸方向の線幅に応じて、前記合成ラインビームによる前記基板の露光量を調整する露光量調整部と、
を備える、露光装置。
続きを表示（約 590 文字）【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記合成ラインビームの線幅を測定可能な観察部、
をさらに備える、露光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
前記光量調整部は、前記線幅に応じて、前記空間光変調器のチャンネル毎に、前記基板を露光する露光時間を調整する、露光装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
前記光量調整部は、前記線幅に応じて、前記空間光変調器のチャンネル毎に、前記合成ビームの強度を調整する、露光装置。
【請求項５】
露光方法であって、
基板をステージに保持する工程と、
照明光学系において、複数の光源からの光を複数のラインビームに成形し、所定の焦点位置に重ね合わせる工程と、
前記照明光学系による前記複数のラインビームの重ね合わせによって形成された合成ラインビームを、空間光変調器により空間変調する工程と、
前記空間光変調器によって空間変調された前記合成ラインビームを、投影光学系により前記ステージに保持された基板に投影する工程と、
長軸方向における前記合成ラインビームの線幅に応じて、前記合成ラインビームによる前記基板の露光量を調整する工程と、
を含む、露光方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書で開示される主題は、露光装置および露光方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハやガラス基板などに基板に、回路などのパターンを形成する方法として、光照射により描画を行う露光装置が知られている。このような露光装置では、ＣＡＤデータ等に基づいて変調された光ビームで、基板上に塗布されたレジストなどの感光材料を走査することにより、当該感光材料に直接パターンを描画する。
【０００３】
このような露光装置は、感光材料への光ビームを画素単位でオン／オフ変調するための光学変調素子を備えている。反射型の空間光変調器は、光源から供給される光ビームを反射して基板上に与えるオン状態と、光ビームを基板外部に向けて反射あるいは拡散させるオフ状態とを、描画データの描画パターンに応じて画素単位で切り換えることにより、パターンを描画する。
【０００４】
露光装置の光源としてレーザ光源（例えば、レーザダイオード）を用いる場合、高露光量を得るために複数個のレーザダイオードからの放射される光をミキシングする照明光学系と、空間光変調器で生成されるパターン像を基材に縮小投影する投影光学系とが採用される場合がある。
【０００５】
例えば、特許文献１では、照明光学系が、複数のレーザ光源の光から形成したラインビームを、空間光変調器の集光面で重ね合わせている。そして、縮小投影系が、空間光変調器で変調されたラインビームを基板に投影することにより、基板が露光される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０１５－１９２０８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、特許文献１のように、複数のラインビームを重ね合わせる場合、その重ね合わせの精度が低いと、強度にムラが生じることなどによって、基板の露光量にムラが生じるおそれがある。露光量にムラが生じた場合、パターニング後における基板に形成されたパターンの線幅の均一性を確保することが困難となる。そこで、複数のラインビームを高精度に重ね合わせるために、照明光学系の調整が行われている。
【０００８】
しかしながら、複数のラインビームを高精度に重ね合わせるためには、ラインビームの途中経路の光学素子を数ｕｍオーダーで調整するため、煩雑な調整作業が必要となっていた。また、レーザ光源の数が増えるほど、調整作業が長期化するおそれがあった。また、調整作業を自動で行う機構を装置に組み込んだ場合、装置構成が複雑化することによって装置が大型化するとともに、装置コストが増大するおそれがあった。
【０００９】
本発明の目的は、複数の光源から形成された複数のラインビームの重ね合わせ精度が低い場合でも、露光量のムラを低減することができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、第１態様は、露光装置であって、基板を保持するステージと、複数の光源からの光を複数のラインビームに成形し、所定の焦点位置に重ね合わせる照明光学系と、前記照明光学系による前記複数のラインビームの重ね合わせによって形成された合成ラインビームを空間変調する空間光変調器と、前記空間光変調器によって空間変調された前記合成ラインビームを、前記ステージに保持された基板に投影する投影光学系と、前記合成ラインビームの短軸方向の線幅に応じて、前記合成ラインビームによる前記基板の露光量を調整する露光量調整部と、を備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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