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公開番号
2025034017
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-03-13
出願番号
2023140133
出願日
2023-08-30
発明の名称
金属錯体インク、金属錯体インクの製造方法、及び、金属粒子の製造方法
出願人
住友金属鉱山株式会社
,
国立研究開発法人物質・材料研究機構
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
C09D
11/52 20140101AFI20250306BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約
【課題】 金属錯体の性状が安定し、金属粒子の粒子径や形状のバラつきを制御することのできる、金属錯体インク、金属錯体インクの製造方法、及び、金属粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 (HCOO)
2
Me(2EHA)
2
で示される金属錯体のミセルが集合したコロイドと、前記コロイドが分散するエチレングリコールと、を含む、金属錯体インクであって、前記Meは、CuまたはNiであり、前記2EHAは、2‐エチルヘキシルアミンである、金属錯体インク。
【選択図】 図1
特許請求の範囲
【請求項1】
(HCOO)
2
Me(2EHA)
2
で示される金属錯体のミセルが集合したコロイドと、
前記コロイドが分散するエチレングリコールと、
を含む、金属錯体インクであって、
前記Meは、CuまたはNiであり、
前記2EHAは、2‐エチルヘキシルアミンである、金属錯体インク。
続きを表示(約 950 文字)
【請求項2】
前記金属錯体は、(HCOO)
2
Cu(2EHA)
2
、(HCOO)
2
Ni(2EHA)
2
、または(HCOO)
2
Cu(2EHA)
2
と(HCOO)
2
Ni(2EHA)
2
の混合物である、請求項1に記載の金属錯体インク。
【請求項3】
含水率が20質量%以下であり、エタノールの含有量が50質量%以下である、請求項1または2に記載の金属錯体インク。
【請求項4】
(HCOO)
m
Me・nH
2
Oで示される金属ギ酸塩と、エチレングリコールと、2-エチルヘキシルアミンを混合する第1混合工程を含み、
前記Meは、Cu、Niのいずれかであり、
前記mは、2であり、
前記nは、前記MeがCuの場合に4であり、前記MeがNiの場合に2である、金属錯体インクの製造方法。
【請求項5】
前記第1混合工程の前に、前記金属ギ酸塩と、エタノールを混合する第2混合工程と、
前記第1混合工程の後に、前記第1混合工程により得られる混合物を減圧下で脱水する脱水工程を含む、請求項4に記載の金属錯体インクの製造方法。
【請求項6】
前記金属ギ酸塩は、(HCOO)
2
Cu・4H
2
Oのみ、または(HCOO)
2
Ni・2H
2
Oのみである、請求項4または5に記載の金属錯体インクの製造方法。
【請求項7】
請求項1または2に記載の金属錯体インクを加熱する加熱工程を含み、当該加熱工程は、前記金属錯体を分解して金属粒子を得ると共に、エチレングリコールを除去する工程である、金属粒子の製造方法。
【請求項8】
請求項1または2に記載の金属錯体インクを薄膜状に印刷する印刷工程と、
前記印刷工程により得られる薄膜を窒素ガス中において加熱し、250℃に10分間保持して金属焼結膜を得る加熱工程を含む、金属焼結膜の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、金属錯体インク、金属錯体インクの製造方法、及び、金属粒子の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
近年、半導体素子、電子回路等への配線技術としてプリンテッドエレクトロニクスが開発されている。プリンテッドエレクトロニクスは、フォトリソグラフィ法などの既存の半導体製造技術に比べて、製造コストを低減できるため注目されている。
【0003】
このようなプリンテッドエレクトロニクス用のインクとして錯体を用いたインクが開発されている(例えば、非特許文献1、非特許文献2を参照)。非特許文献1によれば、銅粒子と銀錯体とを用い、銅粒子を銅銀合金が被覆したコアシェル構造を有する金属配線を可能にする。非特許文献2によれば、銅錯体と銀錯体とを用い、銅銀合金からなる金属配線を可能にする。これらのいずれも、銅銀合金を形成することによって、銅単体の金属配線に比べて耐酸化性が改善されているが、実用化にはさらなる改善が求められている。また、使用時に電極に凹凸やバンプ、クラックが生じ得、安定性も十分とはいえない。加えて、材料に銀を含むため高価となる。
【0004】
銅粒子よりも化学的に安定であり、銀粒子よりも安価であることからニッケル粒子も電極に使用される(例えば、特許文献1を参照)。特許文献1によれば、ギ酸ニッケル二水和物と脂肪族アミンとから得られるニッケル錯体が、ニッケル粒子を得られることを開示し、脂肪族アミンのアルキル基の鎖長を変化させることで、ニッケル粒子の粒径を制御できることを報告する。
【0005】
表層部にニッケル-銅合金を有する銅ナノ粒子が開発されている(例えば、特許文献2を参照)。特許文献2によれば、表層部のニッケル-銅合金によって耐酸化性が向上し、印刷法やコーティング法による微細配線に使用することを開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2010-064983号公報
特開2011-063828号公報
【非特許文献】
【0007】
Wanli Liら,ACS Appl.Mater.Interfaces,2017,9,24711-24721
Wanli Liら,Nanoscale,2018,10,5254
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかしながら、金属錯体を含む金属錯体インクにおいて、金属錯体インクの製造から時間が経過するにつれて金属錯体の性状が変化して安定しないことで、金属錯体インクを加熱して得られる金属粒子の粒子径や形状にバラつきが生じ、結果として半導体素子の性能や、電子回路等の配線の性能が不安定となるおそれがあった。
【0009】
よって、本発明は、金属錯体の性状が安定し、金属粒子の粒子径や形状のバラつきを制御することのできる、金属錯体インク、金属錯体インクの製造方法、及び、金属粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上記の課題を解決するべく、本発明の金属錯体インクは、(HCOO)
2
Me(2EHA)
2
で示される金属錯体のミセルが集合したコロイドと、前記コロイドが分散するエチレングリコールと、を含む、金属錯体インクであって、前記Meは、CuまたはNiであり、前記2EHAは、2‐エチルヘキシルアミンである。
(【0011】以降は省略されています)
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