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公開番号2025019257
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-06
出願番号2024205675,2020141126
出願日2024-11-26,2020-08-24
発明の名称基板を処理する装置、及び基板を処理する方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人弁理士法人弥生特許事務所
主分類H01L 21/677 20060101AFI20250130BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】配置される設備のフットプリントの増大を抑えつつ、磁気浮上を利用して基板を搬送する技術を提供する。
【解決手段】基板を処理する装置は、第1の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室内にて、前記基板が載置されるステージと、走行板と、前記第1の磁石との間に反発力が働く第2の磁石とを備え磁気浮上により移動可能に構成された基板搬送モジュールを用い、前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板搬送室内に向けて開口部が開口する複数の基板処理室に対し、前記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行われる。前記基板搬送室内は、前記ステージが前記基板処理室内に挿入された前記基板搬送モジュールの下を他の基板搬送モジュールが移動可能に構成されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基板を処理する装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室と、
前記基板が載置されるステージと、前記ステージの下部側に配置された走行板と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石とを備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、
前記基板を処理するために前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板が載置された状態の前記ステージの少なくとも一部を通過させることが可能な大きさの開口部が、前記基板搬送室内に向けて開口する
複数の
基板処理室と、を備え、
前
記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行わ
れ、
前記基板搬送室内は、前記ステージが前記基板処理室内に挿入された状態の前記基板搬送モジュールの下方側を他の基板搬送モジュールが移動可能な高さに構成されている
、装置。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記基板搬送室内には、複数の前記基板処理室における前記基板の処理に用いられる複数の前記基板搬送モジュールが設けられている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
基板を処理する装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室と、
前記基板が載置されるステージと、前記ステージの下部側に配置された走行板と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石とを備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、
前記基板を処理するために前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板が載置された状態の前記ステージの少なくとも一部を通過させることが可能な大きさの開口部が、前記基板搬送室内に向けて開口する基板処理室と、を備え、
前記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行われ、
前記基板搬送モジュールは、前記基板を加熱するために前記ステージに設けられた加熱部と、前記加熱部に加熱用の電力を供給するための加熱電力供給部と、を備える、装置。
【請求項４】
基板を処理する装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室と、
前記基板が載置されるステージと、前記ステージの下部側に配置された走行板と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石とを備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、
前記基板を処理するために前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板が載置された状態の前記ステージの少なくとも一部を通過させることが可能な大きさの開口部が、前記基板搬送室内に向けて開口する基板処理室と、を備え、
前記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行われ、
前記基板搬送モジュールは、前記基板搬送室に対し前記基板の搬入出を実施する外部の基板搬送機構との間で基板を受け渡すために、前記ステージにおける前記基板の載置面から突没自在に構成された複数の昇降ピンを備える、装置。
【請求項５】
前記昇降ピンは、前記第１の磁石との間に反発力が働く第３の磁石を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により昇降自在に構成された、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記基板搬送モジュールの上昇移動は、前記走行板を下面側から支持し、昇降自在に構成された支持板を備える昇降機構を用いて実施される、請求項１ないし５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項７】
前記基板搬送モジュールの上昇移動は、前記磁気浮上により実施される、請求項１ないし５のいずれか１つに記載の装置。
【請求項８】
前記基板搬送室の上面側には、複数の前記基板処理室が設けられ、前記基板搬送室内には、複数の前記基板処理室における前記基板の処理に用いられる複数の前記基板搬送モジュールが設けられている、請求項
３または４
に記載の装置。
【請求項９】
前記基板搬送室内には、前記走行板と前記第２の磁石とを備え前記基板搬送室内で移動可能に構成される一方、前記ステージを備えず、前記基板の処理を行っていない期間中の前記開口部を、前記走行板により閉じておくための閉止モジュールが設けられている、請求項２または
８
に記載の装置。
【請求項１０】
前記基板搬送室には、前記閉止モジュールを使用していない期間中、前記閉止モジュールを退避させる退避室が接続されている、請求項
９
に記載の装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板を処理する装置、及び基板を処理する方法に関する。
続きを表示（約 2,700 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、基板である半導体ウエハ（以下、「ウエハ」ともいう）に対する処理を実施する装置においては、ウエハを収容したキャリアと、処理が実行されるウエハ処理室との間でウエハの搬送が行われる。ウエハの搬送にあたっては、種々の構成のウエハ搬送機構が利用される。
【０００３】
例えば特許文献１には、磁極からの磁力の作用により、軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持しつつ搬送路を浮上走行させて、半導体ウエハなどの被搬送物を搬送する搬送台を備えた磁気浮上搬送装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平７－１１７８４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、配置される設備のフットプリントの増大を抑えつつ、磁気浮上を利用して基板を搬送する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の
開示に係る基板を処理する装置は
、
第１の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室と、
前記基板が載置されるステージと、前記ステージの下部側に配置された走行板と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石とを備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、
前記基板を処理するために前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板が載置された状態の前記ステージの少なくとも一部を通過させることが可能な大きさの開口部が、前記基板搬送室内に向けて開口する
複数の
基板処理室と、を備え、
前
記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行わ
れ、
前記基板搬送室内は、前記ステージが前記基板処理室内に挿入された状態の前記基板搬送モジュールの下方側を他の基板搬送モジュールが移動可能な高さに構成されている
。
第２の開示に係る基板を処理する装置は、
第１の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室と、
前記基板が載置されるステージと、前記ステージの下部側に配置された走行板と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石とを備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、
前記基板を処理するために前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板が載置された状態の前記ステージの少なくとも一部を通過させることが可能な大きさの開口部が、前記基板搬送室内に向けて開口する基板処理室と、を備え、
前記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行われ、
前記基板搬送モジュールは、前記基板を加熱するために前記ステージに設けられた加熱部と、前記加熱部に加熱用の電力を供給するための加熱電力供給部と、を備える。
第３の開示に係る基板を処理する装置は、
第１の磁石が設けられた床面部を有する基板搬送室と、
前記基板が載置されるステージと、前記ステージの下部側に配置された走行板と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石とを備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、
前記基板を処理するために前記基板搬送室の上面側に設けられ、前記基板が載置された状態の前記ステージの少なくとも一部を通過させることが可能な大きさの開口部が、前記基板搬送室内に向けて開口する基板処理室と、を備え、
前記基板搬送モジュールを上昇移動させることにより、前記基板が載置された前記ステージを、前記開口部を介して前記基板処理室内に挿入し、前記走行板によって前記開口部を閉じた状態で前記基板の処理が行われ、
前記基板搬送モジュールは、前記基板搬送室に対し前記基板の搬入出を実施する外部の基板搬送機構との間で基板を受け渡すために、前記ステージにおける前記基板の載置面から突没自在に構成された複数の昇降ピンを備える。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、配置される設備のフットプリントの増大を抑えつつ、磁気浮上を利用して基板を搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示に係るウエハ処理装置の平面図である。
前記ウエハ処理装置の縦断側面図である。
前記ウエハ処理装置の縦断正面図である。
真空搬送室の床面部、及びウエハ搬送モジュールの模式図である。
真空搬送室の拡大縦断側面図である。
前記ウエハ搬送モジュールの動作に係る第１の作用図である。
前記ウエハ搬送モジュールの動作に係る第２の作用図である。
他の実施形態のウエハ搬送モジュールの動作に係る第１の作用図である。
他の実施形態のウエハ搬送モジュールの動作に係る第２の作用図である。
一体型のウエハ搬送モジュールに係る説明図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本開示の実施の形態に係る基板を処理する装置である、ウエハ処理装置１００の全体構成について、図１～図３を参照しながら説明する。
図１～図３には、ウエハＷを処理する基板処理室である複数のウエハ処理室１１０を備えたマルチチャンバタイプのウエハ処理装置１００を示してある。図１に示すように、ウエハ処理装置１００は、ロードポート１４１と、大気搬送室１４０と、ロードロック室１３０と、真空搬送室１２０と、複数のウエハ処理室１１０とを備えている。以下の説明では、ロードポート１４１が設けられている向きを手前側とする。
【００１０】
ウエハ処理装置１００において、ロードポート１４１、大気搬送室１４０、ロードロック室１３０、真空搬送室１２０は、手前側からこの順に前後方向に配置されている。また複数のウエハ処理室１１０は、真空搬送室１２０の上面側に並べて設けられている。
（【００１１】以降は省略されています）

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