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公開番号
2025009521
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-01-20
出願番号
2023112579
出願日
2023-07-07
発明の名称
半導体装置
出願人
ローム株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
H01L
23/28 20060101AFI20250110BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】半導体装置の表面に設けられた形状と、半導体装置の表面に設けられた形状以外の部分とを区別しやすくすること。
【解決手段】半導体装置10は、半導体素子30と、半導体素子30を封止する封止樹脂20と、を含む。半導体素子30は、封止樹脂20から露出する露出面33を含む。露出面33には、複数の凹部34が形成されている。
【選択図】図5
特許請求の範囲
【請求項1】
半導体素子と、
前記半導体素子を封止する封止樹脂と、
を含み、
前記半導体素子は、前記封止樹脂から露出する露出面を含み、
前記露出面には、複数の凹部が形成されている
半導体装置。
続きを表示(約 970 文字)
【請求項2】
前記複数の凹部によってパターンが形成される
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項3】
前記パターンは、前記半導体装置に関する情報を含む標印である
請求項2に記載の半導体装置。
【請求項4】
前記封止樹脂は、封止表面と、前記封止表面とは反対側を向く封止裏面とを有し、
前記半導体素子は、前記封止表面と同じ側を向く素子表面と、前記封止裏面と同じ側を向く素子裏面とを有し、
前記素子裏面は、前記封止裏面から露出する前記露出面を含む
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項5】
前記露出面は、前記封止裏面と面一、または前記封止裏面よりも前記封止表面寄りに位置している
請求項4に記載の半導体装置。
【請求項6】
前記封止樹脂は、封止表面と、前記封止表面とは反対側を向く封止裏面とを有し、
前記半導体素子は、前記封止表面と同じ側を向く素子裏面と、前記封止裏面と同じ側を向く素子表面とを有し、
前記素子裏面は、前記封止表面から露出する前記露出面を含む
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項7】
前記露出面は、前記封止表面と面一、または前記封止表面よりも前記封止裏面寄りに位置している
請求項6に記載の半導体装置。
【請求項8】
前記露出面は、矩形状に形成されている
請求項4または6に記載の半導体装置。
【請求項9】
前記半導体素子の厚さ方向から視て、互いに直交する方向を第1方向および第2方向として、
前記封止樹脂は、前記厚さ方向から視て前記第1方向の両端面を構成する第1封止側面および第2封止側面、前記第2方向の両端面を構成する第3封止側面および第4封止側面を有し、
前記露出面の各辺は、前記厚さ方向から視て、前記第1方向および前記第2方向の双方に対して傾斜している
請求項8に記載の半導体装置。
【請求項10】
前記複数の凹部は、前記半導体素子の厚さ方向から視て、前記露出面の各辺に沿う方向に形成されている
請求項8に記載の半導体装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、半導体装置に関する。
続きを表示(約 2,100 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体素子と、半導体素子を封止する封止樹脂と、を備え、封止樹脂の表面に標印が設けられた半導体装置が知られている(例えば特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2019-47112号公報
【0004】
[概要]
封止樹脂の表面に標印を設ける場合、封止樹脂の表面状態の影響によって、標印が設けられた部分と、標印が設けられていない部分との区別がつきにくくなるおそれがある。なお、封止樹脂の表面状態によっては、標印に限られず、封止樹脂の表面に設けられた形状と、封止樹脂の表面に設けられた形状以外の部分との区別がつきにくくなるおそれがある。
【0005】
一様態の半導体装置は、半導体素子と、前記半導体素子を封止する封止樹脂と、を含み、前記半導体素子は、前記封止樹脂から露出する露出面を含み、前記露出面には、複数の凹部が形成されている。
【図面の簡単な説明】
【0006】
図1は、第1実施形態の半導体装置の概略斜視図である。
図2は、図1の半導体装置の概略平面図である。
図3は、図1の半導体装置における封止樹脂の概略平面図である。
図4は、図1の半導体装置の概略底面図である。
図5は、図2のF5-F5線で半導体装置を切断した概略断面図である。
図6は、図1に示す半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図7は、図6に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図8は、図7に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図9は、図8に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図10は、図9に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図11は、図10に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図12は、図11に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図13は、図12に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図14は、図13に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図15は、第2実施形態の半導体装置の概略底面図である。
図16は、図15のF16-F16線で半導体装置を切断した概略断面図である。
図17は、第3実施形態の半導体装置の概略平面図である。
図18は、図17のF18-F18線で半導体装置を切断した概略断面図である。
図19は、図18に示す半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図20は、図19に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図21は、図20に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図22は、図21に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図23は、図22に続く半導体装置の製造方法を説明する概略断面図である。
図24は、変更例の半導体装置の概略側面図である。
【0007】
[詳細な説明]
以下、添付図面を参照して本開示における半導体装置のいくつかの実施形態を説明する。なお、説明を簡単かつ明確にするために、図面に示される構成要素は、必ずしも一定の縮尺で描かれていない。また、理解を容易にするために、断面図ではハッチング線が省略されている場合がある。添付の図面は、本開示の実施形態を例示するに過ぎず、本開示を制限するものとみなされるべきではない。
【0008】
以下の詳細な記載は、本開示の例示的な実施形態を具体化する装置、システム、および方法を含む。この詳細な記載は本来説明のためのものに過ぎず、本開示の実施形態またはこのような実施形態の適用および使用を限定することを意図しない。
【0009】
<第1実施形態>
[半導体装置の構成]
図1~図5を参照して、第1実施形態の半導体装置10について説明する。
【0010】
図1は、半導体装置10の概略斜視構造を示している。図2は、半導体装置10の内部を示す概略平面構造を示している。図3は、図1の半導体装置10の概略平面構造を示している。図4は、図1の半導体装置10の概略底面構造を示している。図5は、図2のF5-F5線で半導体装置10を切断した概略断面構造を示している。なお、図1および図2では、図面の理解を容易にするため、半導体装置10の内部構造を図示するように後述する封止樹脂20を二点鎖線で示している。また、図面を容易に理解するため、図1および図2では、後述する判別溝27を省略している。また、図2では内部導電層48を省略している。図4では外部導電層49を省略している。
(【0011】以降は省略されています)
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