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公開番号2025014006
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-28
出願番号2024189093,2020205973
出願日2024-10-28,2020-12-11
発明の名称積層装置及び方法
出願人株式会社ニコン
代理人弁理士法人RYUKA国際特許事務所
主分類H01L 21/68 20060101AFI20250121BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板ホルダの湾曲によって生じる基板のアライメントマークの観察上の位置のずれ量を補正できる積層装置及び方法を提供する。
【解決手段】積層装置100は、第1基板を保持する第1ステージと、第2基板213が第1基板に対向するように、第2基板を湾曲させて保持する第2ステージ223と、第2ステージに保持されている第2基板の表面に設けられたアライメントマーク218の位置を観察する観察部と、観察部により観察されるアライメントマークの位置に基づいて第1ステージおよび第2ステージの少なくとも一方を制御する制御部と、を備え、制御部は、湾曲によって生じるアライメントマークの観察上の位置のずれ量に基づいて第1ステージおよび第2ステージの少なくとも一方を制御する。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
第１基板を保持する第１ステージと、
第２基板を湾曲させて保持する第２ステージと、
前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板に設けられたアライメントマークを観察する観察部と、を含み、
前記観察部によって観察された前記アライメントマークの位置と、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板の湾曲に関する情報と、に基づいて、前記第１基板を保持している状態の前記第１ステージおよび前記第２基板を保持している状態の前記第２ステージの少なくとも一方を制御する積層装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記情報は、前記第２基板の表面が平面である場合の前記アライメントマークの位置と、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板に設けられた前記アライメントマークの位置との間のずれ量を含む、請求項１に記載の積層装置。
【請求項３】
前記ずれ量は、前記平面に平行な方向における第１のずれ量を含む、請求項２に記載の積層装置。
【請求項４】
前記第２ステージは、湾曲した保持面によって前記第２基板を保持する保持部材を含む、請求項１に記載の積層装置。
【請求項５】
前記情報は、前記保持部材の形状に関する情報と、前記保持部材の基準位置からの前記アライメントマークの距離および前記アライメントマークの前記位置の情報の少なくとも一方を含む、請求項４に記載の積層装置。
【請求項６】
前記保持部材の形状に関する情報は、前記保持部材の曲率半径、前記保持部材の曲率、前記保持部材の外縁部に対する中心部の高さ、および、前記保持部材の形状の３Ｄモデルの少なくとも一つを含む、請求項５に記載の積層装置。
【請求項７】
前記ずれ量は、前記平面に直交する方向における第２のずれ量を含む、請求項２に記載の積層装置。
【請求項８】
前記第２のずれ量に基づいて前記第１ステージおよび前記第２ステージの少なくとも一方の傾斜角度を制御する、請求項７に記載の積層装置。
【請求項９】
前記第２ステージは、湾曲した保持面によって前記第２基板を保持する保持部材を含み、
前記第２のずれ量は、前記第２基板の曲率半径および曲率の少なくとも一方と、前記保持部材の中心からの前記アライメントマークの距離および前記保持部材の中心を原点とする座標系における前記アライメントマークの座標の少なくとも一方に基づいて設定される、請求項８に記載の積層装置。
【請求項１０】
前記ずれ量に基づいて、前記第１基板と前記第２基板の位置合わせに用いられるパラメータを設定する、請求項１から９のいずれか１項に記載の積層装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層装置及び方法に関する。
続きを表示（約 2,500 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、基板に形成されたアライメントマークを顕微鏡で観察して一対の基板を位置合わせする装置が記載されている。
［先行技術文献］
［特許文献］
［特許文献１］特開２００５－２５１９７２号公報
【発明の概要】
【０００３】
本発明の第１の態様においては、第１基板を保持する第１ステージと、第２基板を湾曲させて保持する第２ステージと、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板に設けられたアライメントマークを観察する観察部と、を含み、前記観察部によって観察された前記アライメントマークの位置と、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板の湾曲に関する情報と、に基づいて、前記第１基板を保持している状態の前記第１ステージおよび前記第２基板を保持している状態の前記第２ステージの少なくとも一方を制御する積層装置が提供される。
【０００４】
本発明の第２の態様においては、第１基板を第１ステージで保持することと、第２基板を湾曲させて第２ステージで保持することと、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板に設けられたアライメントマークを観察することと、前記観察することによって観察された前記アライメントマークの位置と、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板の湾曲に関する情報と、に基づいて、前記第１基板を保持している状態の前記第１ステージおよびと前記第２基板を保持している状態の前記第２ステージの少なくとも一方を制御する、方法が提供される。
【０００５】
本発明の第３の態様においては、第１基板を第１ステージで保持することと、第２基板を湾曲させて第２ステージで保持することと、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板に設けられたアライメントマークを観察することと、前記観察することによって観察された前記アライメントマークの位置と、前記第２ステージに湾曲された状態で保持されている前記第２基板の湾曲に関する情報と、に基づいて、エンハンストグローバルアライメント法による処理を行う、方法が提供される。
【０００６】
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
第１の実施形態における積層装置１００の模式的平面図である。
積層装置１００において積層される基板２１１，２１３の模式的平面図である。
積層装置１００において積層される二つの基板２１１，２１３のうち上の基板２１１を保持する基板ホルダ２２１の模式的断面図である。
積層装置１００において積層される二つの基板２１１，２１３のうち下の基板２１３を保持する基板ホルダ２２３の模式的断面図である。
積層装置１００において基板２１１，２１３を積層して積層体２３０を作製する手順を示すフローチャートである。
積層部３００の構造と共に、基板２１１，２１３を保持した基板ホルダ２２１，２２３が積層部３００に搬入された後の様子を示す図である。
ステップＳ０３における積層部３００の動作を説明する図である。
（ａ）から（ｃ）は、基板ホルダ２２３の湾曲に起因するＸＹ方向の視差を示す概略図である。
（ａ）は、基板ホルダ２２３の凸量ごとのアライメントマーク２１８の位置と視差量との関係を示す図であり、（ｂ）は、基板ホルダ２２３の凸量ごとのアライメントマーク２１８の位置と視差起因の倍率変化量との関係を示す図である。
基板２１１，２１３を位置合わせした状態における積層部３００の模式的断面図である。
位置合わせされた状態の基板２１１，２１３および基板ホルダ２２１，２２３の状態を示す図である。
基板２１１，２１３の接合を開始した状態における積層部３００の模式的断面図である。
接合が開始された状態の基板２１１，２１３および基板ホルダ２２１，２２３の状態を示す図である。
基板ホルダ２２１による基板２１１の保持を解除状態の基板２１１，２１３および基板ホルダ２２１，２２３の状態を示す図である。
（ａ）から（ｃ）は、第２の実施形態における基板ホルダ２２３の湾曲に起因するアライメントマーク２１８のＺ方向の視差を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明する。以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【０００９】
［第１の実施形態］
図１は、第１の実施形態における積層装置１００の模式的平面図である。積層装置１００は、ひとつの基板２１１を他の基板２１３と積層して積層体２３０を形成する装置であり、筐体１１０と、筐体１１０の外側に配された基板カセット１２０、１３０と、制御部１５０と、筐体１１０の内部に配された搬送部１４０と、積層部３００と、ホルダストッカ４００と、プリアライナ５００と、活性化装置６００とを備える。
【００１０】
一方の基板カセット１２０は、これから積層する基板２１１，２１３を収容する。他方の基板カセット１３０は、基板２１１，２１３を積層して形成された複数の積層体２３０を収容する。基板カセット１２０を用いることにより、複数の基板２１１，２１３を一括して積層装置１００に搬入できる。また、基板カセット１３０を用いることにより、複数の積層体２３０を一括して積層装置１００から搬出できる。
（【００１１】以降は省略されています）

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