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公開番号
2025009440
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-01-20
出願番号
2023112448
出願日
2023-07-07
発明の名称
表示装置の製造方法及び蒸着マスク
出願人
株式会社ジャパンディスプレイ
代理人
弁理士法人スズエ国際特許事務所
主分類
C23C
14/04 20060101AFI20250110BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約
【課題】 製造歩留まりを向上した表示装置を提供する。
【解決手段】 表示装置の製造方法は、蒸着源を加熱することにより、前記蒸着源から蒸着マスクを介して、基板上に有機EL材料を蒸着させ、有機EL層を形成する、表示装置の製造方法であって、前記蒸着マスクは、複数の薄膜領域と、保持枠と、を備え、複数の薄膜領域は、それぞれ、複数のマスク領域と、接続領域と、を有し、前記複数の薄膜領域は、それぞれ、プロペラ形状を有し、前記複数のマスク領域は、それぞれ、円形形状を有し、前記複数のマスク領域のそれぞれは、複数の開口領域を備える。
【選択図】図13
特許請求の範囲
【請求項1】
複数のパネル領域を備える基板を、基板キャリア上に配置し、
前記基板に対向して、蒸着マスクを配置し、
前記基板を挟んで、前記蒸着マスクに対向して、マグネットを配置し、
前記マグネットの磁力により、前記蒸着マスクを前記基板上に近接させ、
蒸着源を加熱することにより、前記蒸着源から前記蒸着マスクを介して、前記基板上に有機EL材料を蒸着させ、有機EL層を形成する、表示装置の製造方法であって、
前記蒸着マスクは、複数の薄膜領域と、保持枠と、を備え、
複数の薄膜領域は、それぞれ、複数のマスク領域と、接続領域と、を有し、
前記複数の薄膜領域は、それぞれ、プロペラ形状を有し、
前記複数のマスク領域は、それぞれ、円形形状を有し、
前記複数のマスク領域のそれぞれは、複数の開口領域を備える、表示装置の製造方法。
続きを表示(約 960 文字)
【請求項2】
1つの前記薄膜領域内に、4つの前記マスク領域が設けられ、
前記薄膜領域は、前記4つの前記マスク領域を囲む4つの楕円形状の第1領域と、前記4つの第1領域で囲まれる第2領域と、隣り合う前記第1領域の間に設けられる第3領域と、を備える、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
【請求項3】
前記第2領域は、辺が曲線のひし形形状を有し、
前記第3領域は、それぞれ、辺が曲線の三角形形状を有する、請求項2に記載の表示装置の製造方法。
【請求項4】
前記4つのマスク領域から等間隔に位置する点を仮想点とし、
前記4つの第1領域それぞれの長軸を延長した仮想線は、前記仮想点を通る、請求項1に記載の表示装置の製造方法。
【請求項5】
複数の薄膜領域と、保持枠と、を備え、
複数の薄膜領域は、それぞれ、複数のマスク領域と、接続領域と、を有し、
前記複数の薄膜領域は、それぞれ、プロペラ形状を有し、
前記複数のマスク領域は、それぞれ、円形形状を有し、
前記複数のマスク領域のそれぞれは、複数の開口領域を備え、
1つの前記薄膜領域内に、4つの前記マスク領域が設けられ、
前記薄膜領域は、前記4つの前記マスク領域を囲む4つの楕円形状の第1領域と、前記4つの第1領域で囲まれる第2領域と、隣り合う前記第1領域の間に設けられる第3領域と、を備える、蒸着マスク。
【請求項6】
前記第2領域は、辺が曲線のひし形形状を有し、
前記第3領域は、それぞれ、辺が曲線の三角形形状を有する、請求項5に記載の蒸着マスク。
【請求項7】
前記4つのマスク領域から等間隔に位置する点を仮想点とし、
前記4つの第1領域それぞれの長軸を延長した仮想線は、前記仮想点を通る、請求項5に記載の蒸着マスク。
【請求項8】
前記保持枠の厚さは、前記薄膜領域の厚さより厚い、請求項5に記載の蒸着マスク。
【請求項9】
前記保持枠の厚さは、0.5mm以上1.5mm以下であり、
前記薄膜領域の厚さは、3μm以上20μm以下である、請求項8に記載の蒸着マスク。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
続きを表示(約 2,500 文字)
【背景技術】
【0002】
有機EL表示装置を製造する過程において、有機EL材料で構成される層(有機EL層)の形成には真空蒸着法が用いられる。真空蒸着法では、被処理基板に対して蒸着マスクを近接させ、蒸着マスクを介して被処理基板に対して有機EL材料の蒸着を行う。蒸着マスクは、複数の開口部を有する。有機EL材料は、複数の開口を通過して被処理基板に到達するため、複数の開口部に対応する位置に選択的に有機EL層を形成することが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2023-6792号公報
特開2023-6754号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本実施形態は、製造歩留まりを向上した表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
一実施形態に係る表示装置の製造方法は、
複数のパネル領域を備える基板を、基板キャリア上に配置し、
前記基板に対向して、蒸着マスクを配置し、
前記基板を挟んで、前記蒸着マスクに対向して、マグネットを配置し、
前記マグネットの磁力により、前記蒸着マスクを前記基板上に近接させ、
蒸着源を加熱することにより、前記蒸着源から前記蒸着マスクを介して、前記基板上に有機EL材料を蒸着させ、有機EL層を形成する、表示装置の製造方法であって、
前記蒸着マスクは、複数の薄膜領域と、保持枠と、を備え、
複数の薄膜領域は、それぞれ、複数のマスク領域と、接続領域と、を有し、
前記複数の薄膜領域は、それぞれ、プロペラ形状を有し、
前記複数のマスク領域は、それぞれ、円形形状を有し、
前記複数のマスク領域のそれぞれは、複数の開口領域を備える。
【0006】
また、一実施形態に係る蒸着マスクは、
複数の薄膜領域と、保持枠と、を備え、
複数の薄膜領域は、それぞれ、複数のマスク領域と、接続領域と、を有し、
前記複数の薄膜領域は、それぞれ、プロペラ形状を有し、
前記複数のマスク領域は、それぞれ、円形形状を有し、
前記複数のマスク領域のそれぞれは、複数の開口領域を備え、
1つの前記薄膜領域内に、4つの前記マスク領域が設けられ、
前記薄膜領域は、前記4つの前記マスク領域を4つの楕円形状の第1領域と、前記4つの第1領域で囲まれる第2領域と、隣り合う前記第1領域の間に設けられる第3領域と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1は、実施形態の表示装置の全体斜視図である。
図2は、表示装置の概略的な構成の一例を示す部分平面図である。
図3は、図2に示す表示装置の線A1-A2に沿った断面図である。
図4は、表示装置の製造方法を示す断面図である。
図5は、表示装置の製造方法を示す断面図である。
図6は、表示装置の製造方法を示す断面図である。
図7は、蒸着マスクの構成を示す平面図である。
図8は、表示装置の概略的な構成の一例を示す平面図である。
図9は、図7に示す線B1-B2に沿う蒸着マスク及びマザー基板の断面図である。
図10は、図7に示す線C1-C2に沿う蒸着マスク及びマザー基板の断面図である。
図11は、蒸着工程終了後の蒸着マスク及びマザー基板の構成を示す断面図である。
図12は、蒸着マスクの構成を示す平面図である。
図13は、蒸着マスクの構成を示す平面図である。
図14は、図13に示す線D1-D2に沿う蒸着マスク及びマザー基板の断面図である。
図15は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
図16は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
図17は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
図18は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
図19は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
図20は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
図21は、図13に示す蒸着マスクを用いた表示装置の製造方法を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【0009】
本明細書で述べる実施形態は、一般的なものでなく、本発明の同一又は対応する特別な技術的特徴について説明する実施形態である。以下、図面を参照しながら一実施形態に係る表示装置について詳細に説明する。
【0010】
本実施形態においては、第1方向X、第2方向Y、及び、第3方向Zは、互いに直交しているが、90度以外の角度で交差していてもよい。第3方向Zの矢印の先端に向かう方向を上又は上方と定義し、第3方向Zの矢印の先端に向かう方向とは反対側の方向を下又は下方と定義する。なお第1方向X、第2方向Y、及び、第3方向Zを、それぞれ、X方向、Y方向、及び、Z方向と呼ぶこともある。
(【0011】以降は省略されています)
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