TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025021616
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-02-14
出願番号
2023125440
出願日
2023-08-01
発明の名称
チタン材、チタン製の容器およびチタン材の製造方法
出願人
株式会社SUS
代理人
個人
主分類
C23C
8/20 20060101AFI20250206BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約
【課題】これまでにないチタン材、チタン製の容器およびチタン材の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に炭化チタン層を有するチタン材であって、前記炭化チタン層は、厚さが5μm以上で表面の算術平均粗さ(Ra)が0.90μm以上であり、前記炭化チタン層の表面を、光学顕微鏡で観察した際に確認される双晶を含む結晶粒中の当該双晶の向きが揃った領域の等価円直径の平均が563.7μm以上である。
【選択図】図3
特許請求の範囲
【請求項1】
表面に炭化チタン層を有するチタン材であって、
前記炭化チタン層は、厚さが5μm以上で表面の算術平均粗さ(Ra)が0.90μm以上であり、
前記炭化チタン層の表面を、光学顕微鏡で観察した際に確認される双晶を含む結晶粒中の当該双晶の向きが揃った領域の等価円直径の平均が563.7μm以上であることを特徴とするチタン材。
続きを表示(約 930 文字)
【請求項2】
請求項1記載のチタン材において、前記炭化チタン層は厚さが10μm以上であることを特徴とするチタン材。
【請求項3】
請求項1記載のチタン材において、前記炭化チタン層は表面の算術平均粗さ(Ra)が1.70μm以上であることを特徴とするチタン材。
【請求項4】
請求項2記載のチタン材において、前記炭化チタン層は表面の算術平均粗さ(Ra)が1.70μm以上であることを特徴とするチタン材。
【請求項5】
請求項1~4いずれか1項に記載のチタン材において、前記炭化チタン層は、前記双晶の向きが揃った領域の等価円直径の平均が575.4μm以上であることを特徴とするチタン材。
【請求項6】
請求項1~4いずれか1項に記載のチタン材を用いてなるチタン製の容器であって、外表面に前記炭化チタン層を有することを特徴とするチタン製の容器。
【請求項7】
請求項5記載のチタン材を用いてなるチタン製の容器であって、外表面に前記炭化チタン層を有することを特徴とするチタン製の容器。
【請求項8】
表面に炭化チタン層を有するチタン材の製造方法であって、
チタン材を、炭素存在雰囲気中で、チタンがα相からβ相に転移する第一の温度で真空加熱した後、前記第一の温度未満に冷却する第一の熱処理工程と、
前記第一の熱処理工程後、前記チタン材の表面を研磨する研磨工程と、
を含むことを特徴とするチタン材の製造方法。
【請求項9】
請求項8記載のチタン材の製造方法において、前記研磨工程後、前記チタン材を、蓋付容器に格納した状態若しくは炭素非存在雰囲気中で、チタンがα相からβ相に転移する第二の温度で真空加熱した後、前記第二の温度未満に冷却する第二の熱処理工程を含むことを特徴とするチタン材の製造方法。
【請求項10】
請求項9記載のチタン材の製造方法において、前記第一の熱処理工程および前記第二の熱処理工程における前記真空加熱は、15分~40分間行うことを特徴とするチタン材の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、チタン材、チタン製の容器およびチタン材の製造方法に関するものである。
続きを表示(約 930 文字)
【背景技術】
【0002】
本出願人は、例えば特許文献1に開示されるようなチタン製の真空断熱二重容器に関する特許出願を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特許第5297436号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、本発明者等が更なる研究開発を進めた結果、チタン材表面が、光沢が抑えられ指紋汚れが付着しにくく且つ灰色基調で上品な質感を呈する条件を見出し完成したもので、これまでにないチタン材、チタン製の容器およびチタン材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【0006】
表面に炭化チタン層を有するチタン材であって、
前記炭化チタン層は、厚さが5μm以上で表面の算術平均粗さ(Ra)が0.90μm以上であり、
前記炭化チタン層の表面を、光学顕微鏡で観察した際に確認される双晶を含む結晶粒中の当該双晶の向きが揃った領域の等価円直径の平均が563.7μm以上であることを特徴とするチタン材に係るものである。
【0007】
また、請求項1記載のチタン材において、前記炭化チタン層は厚さが10μm以上であることを特徴とするチタン材に係るものである。
【0008】
また、請求項1記載のチタン材において、前記炭化チタン層は表面の算術平均粗さ(Ra)が1.70μm以上であることを特徴とするチタン材に係るものである。
【0009】
また、請求項2記載のチタン材において、前記炭化チタン層は表面の算術平均粗さ(Ra)が1.70μm以上であることを特徴とするチタン材に係るものである。
【0010】
また、請求項1~4いずれか1項に記載のチタン材において、前記炭化チタン層は、前記双晶の向きが揃った領域の等価円直径の平均が575.4μm以上であることを特徴とするチタン材に係るものである。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
日鉄建材株式会社
波形鋼板
1か月前
株式会社カネカ
製膜装置
1か月前
OLED青森株式会社
製膜装置
23日前
OLED青森株式会社
製膜装置
23日前
中外炉工業株式会社
真空浸炭装置
19日前
中外炉工業株式会社
真空浸炭装置
19日前
大阪富士工業株式会社
浴中軸部材の製造方法
1か月前
TOTO株式会社
構造部材
24日前
TOTO株式会社
構造部材
24日前
株式会社カネカ
製膜装置
1か月前
株式会社カワイ
無電解CoW鍍金処理方法
29日前
日本製鉄株式会社
スナウト装置
17日前
株式会社フジキン
気化装置およびガス供給方法
23日前
日本化学産業株式会社
複合めっき皮膜及びめっき製品
1か月前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
1か月前
株式会社カネカ
製膜装置
23日前
東京エレクトロン株式会社
パージ方法及び成膜装置
29日前
日新電機株式会社
密閉処理装置
9日前
大日本印刷株式会社
マスク及びマスクの製造方法
23日前
ダイキン工業株式会社
金属錯体
29日前
福田金属箔粉工業株式会社
銅系複合体膜及びその製造方法
15日前
国立大学法人島根大学
透明導電膜形成方法および粉末ターゲット
8日前
株式会社SCREENホールディングス
スパッタリング装置
29日前
株式会社高純度化学研究所
酸化スズ(II)薄膜の製造方法
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
スパッタリング装置
11日前
株式会社SCREENホールディングス
スパッタリング装置
12日前
東京エレクトロン株式会社
液体原料監視方法及びガス供給装置
22日前
株式会社SUS
チタン材、チタン製の容器およびチタン材の製造方法
1か月前
富士通商株式会社
新規なSiOx/カーボンナノ繊維とその製造方法
1か月前
株式会社アルバック
成膜装置及び成膜方法
1か月前
大日本印刷株式会社
メタルマスク及びその製造方法
22日前
株式会社日本テクノ
金属酸化被膜装置及び金属酸化被膜形成方法
1か月前
尾池工業株式会社
金属調加飾フィルムの製造方法
24日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置及び成膜方法
2日前
スズカファイン株式会社
既設鋼材の錆の除去方法
5日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置及び成膜方法
2日前
続きを見る
他の特許を見る