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公開番号2025064190
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-17
出願番号2023173749
出願日2023-10-05
発明の名称製膜装置
出願人株式会社カネカ,OLED青森株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 14/24 20060101AFI20250410BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】本発明は、ガス放出部内で材料ガスを十分に分散できる製膜装置を提供する。
【解決手段】基材に対して薄膜を製膜する製膜装置であって、製膜室と、第1ガス供給系統と、ガス放出部を有し、第1ガス供給系統は、第1ガス生成部を有し、第1ガス生成部で薄膜形成材料を気化し、第1ガス生成部で気化された第1材料ガスをガス放出部に供給可能であり、ガス放出部は、第1ガス供給系統から供給された第1材料ガスを分散空間内に分散する分散導入部と、製膜室内の基材に対して放出空間内の製膜ガスを放出可能なガス放出口と、分散空間と放出空間を仕切る仕切部を有し、仕切部は、分散空間と放出空間を連通させる円形状の連通孔を有し、分散導入部は、連通孔の中心軸の延長上に、回転軸をもつ回転対称体状又円柱状の本体部を有し、本体部は、分散空間に第1材料ガスを導入する第1ガス導入孔を外周面に備える構成とする。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
基材に対して薄膜を製膜する製膜装置であって、
製膜室と、第１ガス供給系統と、ガス放出部を有し、
前記第１ガス供給系統は、第１ガス生成部を有し、前記第１ガス生成部で薄膜形成材料を気化し、前記第１ガス生成部で気化された第１材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、
前記ガス放出部は、前記第１ガス供給系統から供給された前記第１材料ガスを分散空間内に分散する分散導入部と、前記製膜室内の前記基材に対して放出空間内の製膜ガスを放出可能なガス放出口と、前記分散空間と前記放出空間を仕切る仕切部を有し、
前記仕切部は、前記分散空間と前記放出空間を連通させる円形状の連通孔を有し、
前記分散導入部は、前記連通孔の中心軸の延長上に、回転軸をもつ回転対称体状又は円柱状の本体部を有し、
前記本体部は、前記分散空間に前記第１材料ガスを導入する第１ガス導入孔を外周面に備える、製膜装置。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記本体部は、複数の第１ガス導入孔を有し、
前記複数の第１ガス導入孔は、前記本体部の側面に設けられ、かつ周方向に等間隔に設けられている、請求項１に記載の製膜装置。
【請求項３】
前記本体部は、平面視したときに最小包含円の直径が前記連通孔の内径の４倍以上である、請求項１又は２に記載の製膜装置。
【請求項４】
前記本体部は、前記連通孔と対向する面の前記仕切部との最短距離が０ｍｍ超過３０ｍｍ以下である、請求項１又は２に記載の製膜装置。
【請求項５】
第２ガス供給系統を有し、
前記第２ガス供給系統は、第２ガス生成部を有し、前記第２ガス生成部で薄膜形成材料を気化し、前記第２ガス生成部で気化された第２材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、
前記本体部は、第１ガス空間と、第２ガス空間と、前記第１ガス空間と前記第２ガス空間を仕切る内部仕切部を有し、
前記第１ガス供給系統は、前記第１ガス空間に前記第１材料ガスを供給するものであり、
前記第２ガス供給系統は、前記第２ガス空間に前記第２材料ガスを供給するものであり、
前記分散導入部は、前記分散空間内に前記第２材料ガスを導入する第２ガス導入孔を備える、請求項１又は２に記載の製膜装置。
【請求項６】
前記分散導入部は、前記本体部の側面にフィルター部を有し、
前記フィルター部は、多孔質体で構成され、前記第２ガス導入孔を備える、請求項５に記載の製膜装置。
【請求項７】
前記フィルター部は、前記本体部に対して径方向に突出している、請求項６に記載の製膜装置。
【請求項８】
前記分散導入部は、複数のフィルター部を有し、
前記複数のフィルター部は、前記本体部を中心として周方向に等間隔に設けられている、請求項５に記載の製膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材に薄膜を製膜する製膜装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、有機ＥＬ装置の各層の製膜には、真空蒸着装置が使用されている（例えば、特許文献１）。
特許文献１の蒸着装置は、いわゆる、ガスキャリア方式の蒸着装置であり、固体状（主に粉体状）の薄膜形成材料を高温のキャリアガスで気化室内に導入するとともに、気化室内で薄膜形成材料を加熱し、気化させて薄膜材料ガスを生成し、キャリアガスで薄膜材料ガスを製膜室まで圧送し、製膜室内においてガス放出部からキャリアガスと薄膜材料ガスの混合ガスを基材に対して吹き付ける構造となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－１３５２７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、有機ＥＬ装置の有機発光層は、ホスト材料にドーパント材料（発光材料）を添加して製膜される。
特許文献１の蒸着装置において有機発光層を共蒸着する場合、ホスト材料を供給するガス供給系統とドーパント材料を供給するガス供給系統のそれぞれから、薄膜材料ガスを製膜室内のガス放出部に導入し、それぞれの薄膜材料ガスをガス放出部で混合して製膜ガスとして基材に対して吹き付ける。
このとき、ガス放出部内での薄膜材料ガスの分散が不十分な場合、基材上で膜厚分布が生じてしまい、基材上に均一な薄膜を製膜できないおそれがあった。
【０００５】
そこで、本発明は、ガス放出部内で材料ガスを十分に分散できる製膜装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記した課題を解決するための本発明の一つの様相は、基材に対して薄膜を製膜する製膜装置であって、製膜室と、第１ガス供給系統と、ガス放出部を有し、前記第１ガス供給系統は、第１ガス生成部を有し、前記第１ガス生成部で薄膜形成材料を気化し、前記第１ガス生成部で気化された第１材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、前記ガス放出部は、前記第１ガス供給系統から供給された前記第１材料ガスを分散空間内に分散する分散導入部と、前記製膜室内の前記基材に対して放出空間内の製膜ガスを放出可能なガス放出口と、前記分散空間と前記放出空間を仕切る仕切部を有し、前記仕切部は、前記分散空間と前記放出空間を連通させる円形状の連通孔を有し、前記分散導入部は、前記連通孔の中心軸の延長上に、回転軸をもつ回転対称体状又は円柱状の本体部を有し、前記本体部は、前記分散空間に前記第１材料ガスを導入する第１ガス導入孔を外周面に備える、製膜装置である。
【０００７】
本様相によれば、本体部の側面たる外周面に第１ガス導入孔が設けられ、第１ガス導入孔から放出された第１材料ガスが本体部と同軸の連通孔に向かって流れるので、第１材料ガスの連通孔までの移動距離を確保することができ、ガス放出部の分散空間内で分散されやすい。
本様相によれば、仕切部によって分散空間と放出空間との間の第１材料ガスの移動を連通孔のみに制限でき、より効率的に撹拌できる。
【０００８】
好ましい様相は、前記本体部は、複数の第１ガス導入孔を有し、前記複数の第１ガス導入孔は、前記本体部の側面に設けられ、かつ周方向に等間隔に設けられている。
【０００９】
本様相によれば、各第１ガス導入孔から径方向に第１材料ガスを放射できるので、より第１材料ガスを分散空間内に分散させやすい。
【００１０】
好ましい様相は、前記本体部は、平面視したときに最小包含円の直径が前記連通孔の内径の４倍以上である。
（【００１１】以降は省略されています）

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