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公開番号2025002121
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-09
出願番号2023102059
出願日2023-06-21
発明の名称フォトマスクブランク、フォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
出願人キオクシア株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 1/32 20120101AFI20241226BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】フォトマスクパターンを形成している膜における光の透過率の領域依存性を低減することが可能なフォトマスクブランク、フォトマスク、およびフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】一の実施形態によれば、フォトマスクブランクは、基板と、前記基板上に設けられた第1透過率調整膜と、前記第1透過率調整膜上に設けられた位相シフタ膜と、前記位相シフタ膜上に設けられた第2透過率調整膜とを備える。前記フォトマスクブランクでは、所定の波長を有する光が前記位相シフタ膜を透過する場合、前記位相シフタ膜および前記第1透過率調整膜を透過した前記光の位相と、大気中を通過した前記光の位相は、略180度異なり、かつ、前記位相シフタ膜および前記第2透過率調整膜を透過した前記光の位相と、大気中を通過した前記光の位相は、略180度異なる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられた第１透過率調整膜と、
前記第１透過率調整膜上に設けられた位相シフタ膜と、
前記位相シフタ膜上に設けられた第２透過率調整膜とを備え、
所定の波長を有する光が前記位相シフタ膜を透過する場合、前記位相シフタ膜および前記第１透過率調整膜を透過した前記光の位相と、大気中を通過した前記光の位相は、略１８０度異なり、かつ、前記位相シフタ膜および前記第２透過率調整膜を透過した前記光の位相と、大気中を通過した前記光の位相は、略１８０度異なる、
フォトマスクブランク。
続きを表示（約 910 文字）【請求項２】
前記所定の波長を有する前記光は、ＡｒＦエキシマレーザ光である、請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項３】
前記第１透過率調整膜の膜厚と、前記第２透過率調整膜の膜厚は、前記位相シフタ膜の膜厚よりも薄い、請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項４】
前記位相シフタ膜は、Ｓｉ（シリコン）と、Ｎ（窒素）とを含む、請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項５】
少なくとも前記第１または第２透過率調整膜は、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｙ（イットリウム）、またはＲｕ（ルテニウム）を含む、請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項６】
少なくとも前記第１または第２透過率調整膜は、第１膜と、前記第１膜上に設けられた第２膜とを含む、請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項７】
前記第１および第２膜の一方は、Ｓｉ（シリコン）と、Ｎ（窒素）とを含み、
前記第１および第２膜の他方は、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｙ（イットリウム）、またはＲｕ（ルテニウム）を含む、
請求項６に記載のフォトマスクブランク。
【請求項８】
前記第１透過率調整膜と前記位相シフタ膜との間に設けられたエッチングストッパ膜をさらに備える、請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項９】
前記エッチングストッパ膜の膜厚は、前記位相シフタ膜の膜厚よりも薄い、請求項８に記載のフォトマスクブランク。
【請求項１０】
前記エッチングストッパ膜は、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｙ（イットリウム）、またはＲｕ（ルテニウム）を含む、請求項８に記載のフォトマスクブランク。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、フォトマスクブランク、フォトマスク、およびフォトマスクの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ用のフォトマスクでは、フォトマスクパターンを形成している膜における光の透過率が、フォトマスクの領域に応じて変化することが問題となり得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－９１３３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施形態は、フォトマスクパターンを形成している膜における光の透過率の領域依存性を低減することが可能なフォトマスクブランク、フォトマスク、およびフォトマスクの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一の実施形態によれば、フォトマスクブランクは、基板と、前記基板上に設けられた第１透過率調整膜と、前記第１透過率調整膜上に設けられた位相シフタ膜と、前記位相シフタ膜上に設けられた第２透過率調整膜とを備える。前記フォトマスクブランクでは、所定の波長を有する光が前記位相シフタ膜を透過する場合、前記位相シフタ膜および前記第１透過率調整膜を透過した前記光の位相と、大気中を通過した前記光の位相は、略１８０度異なり、かつ、前記位相シフタ膜および前記第２透過率調整膜を透過した前記光の位相と、大気中を通過した前記光の位相は、略１８０度異なる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
第１実施形態のフォトマスクの構造を示す断面図である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(1/7)である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(2/7)である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(3/7)である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(4/7)である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(5/7)である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(6/7)である。
第１実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(7/7)である。
第２実施形態のフォトマスクの構造を示す断面図である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(1/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(2/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(3/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(4/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(5/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(6/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(7/8)である。
第２実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(8/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの構造を示す断面図である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(1/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(2/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(3/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(4/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(5/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(6/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(7/8)である。
第３実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(8/8)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(1/7)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(2/7)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(3/7)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(4/7)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(5/7)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(6/7)である。
第４実施形態のフォトマスクの製造方法を示す断面図(7/7)である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。図１～図３３において、同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【０００８】
（第１実施形態）
１）第１実施形態のフォトマスク
図１は、第１実施形態のフォトマスクの構造を示す断面図である。
【０００９】
本実施形態のフォトマスクは、基板１と、透過率調整膜２と、ＨＴ（ハーフトーン）膜３と、透過率調整膜４と、遮光膜５とを備える。透過率調整膜２は、第１透過率調整膜の例である。ＨＴ膜３は、位相シフタ膜の例である。透過率調整膜４は、第２透過率調整膜の例である。
【００１０】
基板１は例えば、石英基板やガラス基板などの透明基板である。図１は、基板１の表面に平行で互いに垂直なＸ方向およびＹ方向と、基板１の表面に垂直なＺ方向とを示している。Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向は、互いに交差している。本明細書では、＋Ｚ方向を上方向として取り扱い、－Ｚ方向を下方向として取り扱う。－Ｚ方向は、重力方向と一致していてもよいし、重力方向と一致していなくてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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